1989年 入賞
in−situCVD法により得られた(Fe,Cr)
x
Si
y
結晶
写真の説明:
SUS410(粉末)+Si
2
Cl
6
+H
2
系から1100℃、 30分で、石英ボード内壁上に成長した新規化合物、(Fe,Cr)
x
Si
y
の結晶である。たれ下がった細い花茎の 先端に大きな五弁の花が咲いたようである。
装置、撮影条件等:
EMAX−8000S、25kV
出品者所属・氏名:
岐阜大工 元島栖二、伊藤千鶴
撮影者所属・氏名:
岐阜大工 元島栖二
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