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　モーツァルト生誕250年

山田　陽一　983

特集　最近の分析法の進歩とセラミックス　　　984

最近のセラミックス材料は構造・形態だけでなく，その機能や応用も多種多様化しており，物性理解や新しい機能開拓のためには「材料をいかに評価するか」が重要な課題となっています．特に，ナノテクノロジーが発展してきた現在では，ナノレベル・分子レベルでの状態分析は不可欠であり，それに伴い，電子，イオン，光子（電磁波）など様々なプローブを利用した新しい分析手法やスペクトロスコピーの開発が進んでおります．これらの分析手法によるセラミックスの応用は端緒についたばかりですが，今後セラミックスの研究開発におけるキーテクノロジーとして多くの注目を集めています．本特集では，進展著しい放射光分析やセラミックス分野で従来馴染みの薄かった分析手法を取り上げ，最近の測定・解析技術とともに，セラミックス材料への応用例や適用可能性について解説していただきました． （特集担当委員：井田　隆・長田　実・松永克志）

■放射光Ｘ線分析の新展開とセラミックスへの応用　

福田　勝利・中井　　泉　984

■X線逆格子イメージング法によるナノ材料の迅速評価　

坂田　修身・吉本　　護・三木　一司　992

■EXAFSによる材料評価―イオン導電体への応用―　

神嶋　　修・河村　純一　998

■XANESによる固体表面種の酸化状態定量解析　

吉田　寿雄　1004

■マイクロビームＸ線小角散乱法のソフトマテリアルへの応用　

野末　佳伸・篠原　佑也・雨宮　慶幸　1009

■中性子回折によるセラミックスの構造解析　

八島　正知　1014

■固体NMRの最近の測定技術とセラミックス評価への応用　

前川　英己　1020

■ラマン分光法の最近の測定技術とセラミックス評価への応用　

長田　　実・垣花　眞人　1026

■イオンビームによるセラミックスの局所領域分析　

坂口　勲　1032

セラミックスアーカイブズ　

　第4回　電気・情報通信／コンピュータ 1037

多層セラミック回路基板 1038

セラミックパッケージ 1041

半導体デバイス用窒化アルミニウム基板 1044

放熱基板用炭化ケイ素 1047

永田　　肇　1052

●2007年 年会のお知らせ 1063

●第20回秋季シンポジウム（2007年）特定セッションテーマ

　およびオーガナイザー決定 1067