|
色材セミナー 主 催 色材協会 関西支部 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2010年5月14日（金）9:30〜16:50 場 所 大阪科学技術センター 小ホール（大阪府大阪市） 内 容 環境・省エネに配慮した，色材に関連する新しい素材開発や加工技術に関する講演（5講） 参加費 会員（協賛学協会会員含む）20,000円，非会員25,000円，学生3,000円） 申込締切 2010年5月11日（火）（定員50名） 申込・連絡先 541-0056 大阪市中央区久太郎町1-8-9 大阪塗料会館6階 色材協会 関西支部 事務局 大宅 裕 TEL 06-6271-4786，FAX 06-6271-4799，E-mail：shikizai※viola.ocn.ne.jp 第2回耐火物の基礎学問と検査技術研修 主 催 耐火物技術協会中国四国支部，日本セラミックス協会中国四国支部，岡山セラミックス技術振興財団 後 援 日本セラミックス協会ほか 日 時 2010年5月17日（月）〜21日（金） 場 所 岡山セラミックスセンターほか（岡山県備前市，岡山市，島根県） 内 容 「ものづくり」に携わる技術者が知っておくべき耐火物の基礎学問について，本年は，原料にポイントを置き，耐火物資源の地質学的特徴と成因や世界の耐火物原料事情などを学びます．また，耐火物入門書をテキストとして原料から各種耐火物の特性，さらには，その用途に関する研修会を行います．特に，今回は，見学会を充実させ，「県内の優良ものづくり企業」，「鉄のルーツたたらと金属材料の熱処理技術」にスポットをあてた内容としています．最終日の機器操作の実習では，例年行ってきた成分分析及び鉱物相の同定に加えて，新たに見掛け気孔率，通気率，気孔径分布を測定して，耐火物中の気孔を解析する手法について学習していただきます． 参加費 会員：5,000円，会員外：10,000円 定員 原料講座（5／17）：100名，：耐火物の基礎講座（5／18）：100名，岡山県内ものづくり見学（5／19）：40名，たたら製鉄見学（5／20）：40名，評価実習（5／21）：10名） 申込・連絡先 705-0221 備前市西片上1406番地の18 日本セラミックス協会中国四国支部 事務局 中本いづみ TEL 0869-64-0505，FAX 0869-63-0227，E-mail：nakamoto※optic.or.jp 触媒学会若手会 主 催 触媒学会若手会 共 催 日本セラミックス協会ほか（予定） 日 時 2010年5月22日（土）14：00〜（受付13：30〜） 場 所 東京工業大学 すずかけ台キャンパス 多目的ホール（H2棟すずかけホール 3F）（神奈川県横浜市） 内 容 触媒学会若手会では今年も，恒例となりましたフレッシュマンゼミナールを開催いたします．当ゼミナールでは触媒研究に携わる学生，社会人を主な対象としており，産，学，官でご活躍中の5名の若手研究者に研究の進め方，研究に取り組む上での心構え，研究の最前線などについて，それぞれの視点からお話して頂きます．これからの研究生活に大いに役立つと存じますので，奮ってご参加ください．また，講演終了後には簡単な懇親会も予定しております，日頃交流の少ない他大学の学生との親睦を深める貴重な機会ですので併せてご参加ください．14：00〜「固体酸塩基触媒を用いたバイオマス由来原料の変換反応」高垣 敦（北陸先端科学技術大学院大学），14：35〜「過酸化水素を用いる環境に優しい酸化技術開発」千代健文（産業技術総合研究所），15：10〜「近赤外および中赤外分光法による酸化物表面に吸着した水分子の解析―よく濡れる表面が本当に親水性なのか！？―」竹内雅人（大阪府立大学大学院），16：00〜「急成長するアジアの化学産業」寺田秀（三菱化学科学技術研究センター），16：35〜「タングステートを基盤とした液相選択酸化反応系の開発」鎌田慶吾（東京大学大学院） 参加費 無料（ただし懇親会費500円） 申込締切 2010年5月18日（火）＊当日まで受け付けますが，参加者数把握のためまでにお申し込みください． 申込・連絡先 226-8502 神奈川県横浜市緑区長津田町4259 R3-33 東京工業大学 応用セラミックス研究所 原研究室 菅沼学史 TEL 045-924-5381，FAX 045-924-5381，E-mail：suganuma.s.aa※m.titech.ac.jp URL http://www.shokubai.org/edu/wakate/index.html 理研シンポジウム 主 催 理化学研究所（大森素形材工学研究室） 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2010年5月28日（金）13:00〜17:00 場 所 理化学研究所和光研究所 鈴木梅太郎記念ホール（埼玉県和光市） 内 容 各種マイクロデバイスである機能性構造体の製造には，一層の超精密化・超平滑化・超微細化を極めた極限加工法の確立が不可欠である．オプトエレクトロニクス，メカトロニクス分野のニーズからは，ホログラム光学素子，立体構造を持つ半導体デバイス，全体スケールが小さく複雑な形状を持つマイクロレンズ，光ファイバ用光学部品や各種マイクロパーツ／コンポーネントなどがある．光学素子の極限加工技術は，X線ミラーやレーザー光レンズ・ミラー，ひいては中性子光学素子の研究開発分野において，広範に物理・工学の研究分野との接点を持ち，また表面計測用ツールやメカトロニクス用コンポーネントの製作については，広く先端的研究ツールとして強いニーズがある．マイクロコンポーネントは，生物・化学系，医学系の研究分野との接点において，細胞マニピュレータ，顕微受精用ツール，遺伝子操作ツール，蛋白質反応試験用ツールなどの開発へとつながり，最先端の研究領域につながっている．このように，マイクロファブリケーションは多くの科学研究・工業／産業分野において次世代の加工技術として多くの注目を集め，さらには進歩の著しいナノサイエンス／テクノロジーの研究開発にもつながりつつある．本シンポジウムでは，当室および関連機関が行っているマイクロ・メカニカルファブリケーション関連研究に関する最新の開発／実用事例の紹介を中心とし，さらには各分野でご活躍の講師をお招きして，最先端の研究・事例紹介を含め，議論する機会を供するものである． 参加費 テキスト代3,150円，懇親会費2,100円 申込締切 2010年5月18日（火） 申込・連絡先 173-0003 東京都板橋区加賀1-7-13（独）理化学研究所 大森素形材工学研究室 マイクロ加工研究会事務局 TEL 03-3963-1611，FAX 03-3579-5940，E-mail：micro_mold※micro.ne.jp 第3回サイアロンおよび非酸化物に関する国際会議 主 催 The Turkish Ceramic Society 協 賛 The European Ceramic Society Turkish Ceramic Society -TRNational Boron Research Institude- TRRepublic of Turkey Prime Ministry Undersecretariat for Foreign Trade Central Anatolian Exporter Unions -TRNurol Technologies Inc-TRほか 日 時 2010年6月1日（火）〜4日（金） 場 所 Hotel Dedeman（トルコ共和国カッパドキア） 内 容 2001年，2007年に開催されたSiAlONと非酸化物に関する国際会議に引き続き，SiAlONと非酸化物セラミックスに関する最近の研究開発動向と応用について広く議論します．この会議では，次のようなトピックスに従って，32件の招待講演を含む口頭発表とポスター発表が行われます．機能性SiAlONと非酸化物セラミックス，SiAlONと非酸化物の応用展開，被覆，微構造設計と制御，ナノ・ミクロ複合材料，非酸化物多孔体，新規SiAlON・窒化物・炭化物相，ポリマー前駆体による非酸化物セラミックスの合成・粉体プロセス 参加費 Full registration：500EUR, Student registration：250EUR, Gala dinner：30EUR 申込・連絡先 240-8501 横浜市保土ヶ谷区常盤台79-7 横浜国立大学大学院環境情報研究院 米屋勝利・多々見純一 TEL 045-339-3959，FAX 045-339-3957，E-mail：komeya※ynu.ac.jp，tatami※ynu.ac.jp URL http://issnox3.anadolu.edu.tr/ 第342回講習会 主 催 精密工学会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2010年6月10日（木）10:00〜17:10場 所 芝浦工業大学 芝浦キャンパス（東京都港区） 内 容 近年，国内のクリーンエネルギーや航空宇宙分野の“ものづくり産業”の発展への期待感が急速に高まっています．クリーンエネルギーや航空宇宙関連の部品は，特殊な使用環境において高い信頼性を確保するため，ニッケル基超耐熱合金や，チタンやマグネシウム系の軽金属合金，CFRPなどのプラスチック複合材料，SiCなどのセラミックスなど，鉄鋼以外の材料を用いて高精度に加工することが要求されます．国内外を問わずこれら材料の加工需要は急速に高まると期待されますが，これら材料は総じて高性能かつ高能率に加工することが難しい難加工材です．そこで，難加工材の高性能・高能率加工技術の創造と確立は，個々の製造企業の発展，さらには我が国がクリーンエネルギーや航空宇宙分野の製造において世界を大きくリードしていくために極めて重要と考えられます．そこで本講習会では，難加工材の加工技術力のボトムアップと発展の一翼を担うことを目的とし，難加工材加工技術の最新の世界動向，各種難加工材の各種先進加工技術，加工性能を考慮した素材開発など，需要が高まると期待される技術に関する情報を，産学界で活発にご活躍されている講師陣が分かりやすく提供いたします． 参加費 会員（協賛学協会会員を含む）20,000円 非会員30,000円 学生会員 無料（資料は付きません）学生非会員6,000円 申込締切 2010年6月3日（木） 申込・連絡先 102-0073 東京都千代田区九段北1-5-9 九段誠和ビル2F 精密工学会 講習会係 TEL 03-5226-5191，FAX 03-5226-5192，E-mail：jspe_koushu※jspe.or.jp URL http://www.jspe.or.jp/event/koshukai/kaikoku/342.html 2010年 産業技術総合研究所 主 催 産業技術総合研究所 中部センター 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2010年6月22日（火）〜23日（水）9:45〜14:30 場 所 産業技術総合研究所 中部センター（愛知県名古屋市守山区下志段味穴が洞2266-98） 内 容 産業技術総合研究所中部センターの最新の研究成果を発表するとともに，産学官の連携状況や今後の展望・アプローチなども紹介する． 参加費 無料 申込締切 事前登録（締切未定）・当日申込可 （定員100名／日） 申込・連絡先 463-8560 名古屋市守山区下志段味穴ケ洞2266-98 産業技術総合研究所 中部産学官連携センター 成果普及担当 花木・松本 TEL 052-736-7064，FAX 052-736-7403，E-mail：aist_chubu_kenkyuhappyou※m.aist.go.jp URL http://unit.aist.go.jp/chubu/ci/event/index.html 日本技術士会化学部会6月度講演会 主 催 日本技術士会化学部会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2010年6月24日（木）17:30〜19:00 場 所 葺手第2ビル5階 日本技術士会会議室（東京都港区虎ノ門4-1-20 田中山ビル隣） 内 容 講演「高分子科学と工業の最先端と未来（仮題）」（京都大学工学部教授，高分子学会会長）澤本光男 参加費 日本技術士会，日本セラミックス協会会員1,000円（技術士補およびJABEE認定コース修了者も会員並み），一般2,000円 申込締切 2010年6月17日（木） 申込・連絡先 319-1416 茨城県日立市田尻町1-21-7 伊東技術士事務所 伊東亮一 TEL 0294-42-7645，FAX 0294-42-7645，E-mail：rito66642※ybb.ne.jp URL https://www.engineer.or.jp/ippan/dmsw0211.php 第49回表面科学基礎講座「表面・界面分析の基礎と応用」 主 催 日本表面科学会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2010年7月14（水）〜16日（金） 場 所 東京大学 理学部1号館 小柴ホール（東京都文京区本郷） 内 容 「表面・界面分析の基礎と応用」について，初心者，若手研究者，技術者を対象として，入門的にかつ具体例を解説する事を目的として講座を開設している． 参加費 協賛学協会会員40,000円，非会員45,000円，学生10,000円 申込締切 2010年6月23日（水）（定員176名） 申込・連絡先 113-0033 東京都文京区本郷2-40-13 本郷コーポレイション402 日本表面科学会 事務局 TEL 03-3812-0266，FAX 03-3812-2897，E-mail：shomu※sssj.org URL http://www.sssj.org/KisoKouza/kiso49.html 日本セラミックス協会 主 催 日本セラミックス協会関東支部 日 時 2010年7月22日（木）〜23日（金） 場 所 日立市多賀市民会館（316-0013 茨城県日立市千石町2-4-20多賀市民プラザ内，TEL 0294-34-1727，FAX 0294-36-6369，URL http://www.net1.jway.ne.jp/hccfound/pg119.html 交 通 JR常磐線常陸多賀駅から徒歩5分，常磐高速日立中央インターから国道6号線で約20分，または，常陸南太田インターから約25分 テーマ 特に設定しません．セラミックスと周辺材料の科学および関連技術に関する発表ならば何でも歓迎します．既発表の報告も受け付けます． 講演申込 下記(1)〜(8)を御記入の上，E-mail（abe※mx.ibaraki.ac.jp）でお申し込みください．E-mailの件名は【講演申込】としてください．(1)発表者氏名（講演者に○印），(2)所属，(3)講演題目，(4)口頭・ポスターの別，(5)キーワード（5個以内），(6)研究分野（年会発表のセッション分類参考），(7)講演者の連絡先（郵便番号，所属所在地，電話番号，FAX番号，E-mailアドレス），(8)関連する発表を申し込む場合にはその発表順，(9)講演者が学生の場合その学年（B4, M1, M2, D1など）．E-mailの使用が不都合な場合には，FAX（0294-38-5078）でのお申し込みも可能です． 発表形式 口頭発表とポスター発表で行います．発表言語は日本語または英語です．企業からの発表も歓迎します．口頭発表では液晶プロジェクターを使用します．各自，パソコンを御持参ください．パソコンを持参できない場合またはOHPを使用する場合は予めご連絡ください．ポスターセッションでは，これからの研究展開に関する内容の発表，企業等の製品紹介も受け付けます．学生による優秀発表の表彰を行います． 懇親会 7月22日（木）19:00〜，ホテル日航日立（JR常磐線日立駅下車徒歩5分，発表会場からは送迎バスが出ます．発表会場からの所要時間は約25分です．） 参加費 宿泊を原則とします．宿泊場所は懇親会場と同じです．一般16,000円，学生12,000円（参加登録費，講演予稿集，宿泊費（朝食含），懇親会費を含みます．） 参加申込 下記の内容をご記入の上，E-mail（abe※mx.ibaraki.ac.jp）でお申し込みください（FAXも可）．E-mailの件名は【参加申込】としてください．(1)宿泊者氏名，(2)宿泊者性別，(3)一般・学生の別，(4)連絡先（郵便番号，所属所在地，電話番号，FAX番号，E-mailアドレス）． 講演申込締切 2010年6月4日（金） 予稿原稿締切 2010年6月25日（金） 参加申込締切 2010年6月25日（金） 問合先 316-8511茨城県日立市中成沢町4-12-1茨城大学工学部生体分子機能工学科 阿部修実 TEL 0294-38-5067，FAX 0294-38-5078，E-mail：abe※mx.ibaraki.ac.jp その他 プログラムは日本セラミックス協会関東支部のホームページで公開します URL https://www.ceramic.or.jp/skanto/ 第42回ガラス部会夏季若手セミナー 主 催 日本セラミックス協会ガラス部会 日 時 2010年8月4日（水）〜6日（金） 場 所 国民宿舎サンロード吉備路（719-1124 岡山県総社市三須825-1，TEL 0866-90-0550，FAX 0866-90-0711，URL http://www.sunroad-kibiji.com） 主 題 仕分けに打ち勝つガラスの研究開発 趣 旨 ガラスに関係する研究に携わる産官学の若手が集まり，ガラス材料の科学技術に関する講演と互いの情報交換を通して交流します．今回のセミナーでは，世界に誇れる強いガラスの研究開発をテーマに設定し，各領域の第一線でご活躍の方々にご講演いただきます． 定 員 100名 プログラム 8月4日（水） ・大学で，学んだこと・研究のこと（名古屋工大）野上正行 ・ガラス溶融プロセスと数値シミュレーション（ニューガラスフォーラム）川地伸治 8月5日（木） ・コーニングに20年勤めて（コーニング）小野俊彦 ・ナノ構造を利用した環境低負荷ガラスの創製（兵庫県立大）矢澤哲夫 8月6日（金） ・高エネルギー放射光およびコンピュータシミュレーションを用いたガラス構造の3次元可視化（高輝度光科学研究センター）小原真司 ・無溶媒縮合法による機能性材料の創出（大阪府立大）高橋雅英 参加登録料 一般10,000円，学生6,000円（いずれも宿泊料24,000円程度が別途必要になります．詳細は申し込み締め切り後，ご連絡いたします．） 申込締切 2010年6月30日（水） 申込方法 締切日までに，ゆうちょ銀行振替口座（郵便局から：記号番号 01380-5-87892 名称 ガラス若手セミナー，銀行から：ゆうちょ銀行 一三九（イチサンキユウ）店 店番139 当座0087892 ガラス若手セミナー）に参加登録料をご送金ください．（団体申し込みの場合は一括送金可能．送金手数料はご負担ください．） 申込・連絡先 700-8530 岡山市北区津島中3-1-1 岡山大学大学院環境学研究科 難波徳郎・紅野安彦 TEL 086-251-8896（難波），086-251-8895（紅野），FAX 086-251-8910，E-mail：wakate42※ecm.okayama-u.ac.jp 第30回エレクトロセラミックス研究討論会 エレクトロセラミックス研究討論会は，新しいエレクトロセラミックス材料，デバイス，プロセス技術などに関する研究成果を，アジアから世界へ向けて発信する討論会です．第30回の記念すべき本年度は，一般発表および新しく設定された5つの特定セッションを予定しています． 主 催 日本セラミックス協会電子材料部会 協 賛 （予定）日本セラミックス協会基礎科学部会，応用物理学会，電気学会，電気化学会，電子情報通信学会，日本化学会，日本材料学会，日本材料科学会，粉体粉末冶金協会，日本ゾル-ゲル学会 日 時 2010年10月29日（金）〜30日（土） 各日 9：00〜18：00（予定） 場 所 東京理科大学・森戸記念館（新宿区神楽坂4-2-2） テーマ 「エレクトロセラミックスの基礎から応用まで」 ・一般発表：電子セラミックス全般（合成プロセス，物性，シミュレーション・評価法など） ・特定セッション： 1.「誘電体セラミックス」（誘電・強誘電・圧電性単結晶・バルクセラミックスのプロセスと応用） 2.「高温電子セラミックス」（耐熱性電子デバイスやモジュールのために高温で電子機能を発現するセラミックス） 3.「環境・エネルギーセラミックス」（センサ，触媒，各種電池，エネルギー関連セラミックス） 4.「薄膜の物性・プロセス」（電子セラミックス薄膜全般に関する基礎と応用） 5.「ナノクリスタルの物性・プロセス」（ナノセラミックスに関する作製，ハンドリング，新規物性，キャラクタリゼーション技術，構造制御など） 講演募集件数 口頭発表約50件，その他はポスター発表 発表方法 口頭発表1件30分，またはポスター発表（約2時間掲示）（発表言語：英語または日本語） 英文プロシーディングス 1件あたりA4用紙4ページ（発表者には，英文プロシーディングスを提出していただきますが，その詳細については申込連絡者にご通知致します．） 発表資格 特に設けておりません．どなたでもご発表いただけます． 講演申込方法 下記の項目を本文に明記したE-mail（件名は講演者の氏名）を下記アドレス宛にお送りください．項目毎に必ず改行してください．また，複数件申し込む場合は，1件ごと別々に送信してください． (1)講演題目，(2)講演題目の英文表記，(3)発表者氏名（講演者の前に○印），(4)氏名の英文表記，(5)所属先，(6)所属の英文表記，(7)250字程度の概要（日本語または英語），(8)発表希望セッション名（一般あるいは誘電，高温，環境・エネ，薄膜，ナノ），(9)発表方法（口頭，ポスター，またはどちらでも可から選択），(10)研究奨励賞への応募（する，しない），応募の場合には講演者の生年月日および身分（社会人，学生），(11)申込連絡者の氏名，(12)住所，(13)電話番号，(14)FAX番号，(15)E-mailアドレス ＊申込件数によっては，発表方法（口頭，ポスター）やセッションを変更させて頂くことがあります． 参加費 （当日配布の要旨集代を含む） （A）日本セラミックス協会個人会員，各協賛学協会個人会員，日本セラミックス協会特別会員に所属の社員：8,000円，（B）日本セラミックス協会学生会員，各協賛学協会学生会員，学生非会員：3,000円，（C）非会員，協賛学協会非会員：10,000円 講演申込締切 2010年7月23日（金）17：00 予稿集原稿締切 2010年9月14日（火）17：00（電子投稿の場合），必着（郵送の場合）（A4用紙1ページ：詳細は申込連絡者にお知らせします） 英文プロシーディングス締切 電子ファイル（pdfファイル）：10月28日（木）12：00（提出先は申込連絡者に連絡します．），印刷原稿：研究討論会初日10月29日（金）12：00会場受付（A4用紙4ページ，提出票，各1部），研究奨励賞に応募する者は英文プロシーディングス電子ファイル原稿を上記の提出締切日時（10月28日12：00）までに必ず提出すること． 申込先 e-touron10※cersj.org（このメールアドレス以外は受け付けませんのでご注意下さい） 問合先 日本セラミックス協会電子材料部会 第22回相変化記録研究会シンポジウム 主 催 相変化記録研究会 協 賛 応用物理学会ほか 日 時 2010年11月25日（木）〜26日（金） 場 所 熱海ニューフジヤホテル（静岡県熱海市） 内 容 相変化記録研究会シンポジウムは，1990年の第1回（岩手県・盛岡）をスタートに本年で22回目を迎えることになりました．本シンポジウムは，相変化方式の記録に関する結晶化機構，記録材料，構造，装置，および応用などについて各年度における相変化記録技術進展の総まとめの議論の機会です．また相変化研究の発端である相変化不揮発メモリ（Ovonic memoryやPRAM）をはじめとする広範な相変化現象を視野に入れています．最近ではフォトンモード相変化の可能性も示唆され始め新たな展開も期待されています．本年も引き続きまして，相変化技術の基礎から応用までを討議する場として第22回シンポジウムを以下の要領で開催致します．今回も活発な討論を行い，光ディスク関連機器の展示も含め，有意義な情報交換の場となるよう本シンポジウムを盛り上げていきたいと思います． 参加費 Aタイプ（2泊）：（一般）45,000円／（学生）25,000円，Bタイプ（1泊）：（一般）35,000円／（学生）15,000円，Cタイプ（宿泊無）：（一般）20,000円／（学生）5,000円 申込締切 2010年10月22日（金）（定員100名） 申込・連絡先 212-8582 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1 （株）東芝 研究開発センター 柚須圭一郎 TEL 044-549-2130，FAX 044-520-1802，E-mail：keiichiro.yusu※toshiba.co.jp URL http://www4.airnet.ne.jp/jpcos/ 泉科学技術振興財団 1.研究助成 高度機能性材料およびこれに関連する科学技術の基礎研究分野における真に独自の発想に基づく新しい研究に対する助成 助成金額 1件100万円以下，15件以内． 2.研究会リーダー助成 国内で平成23年1月〜12月に開催される機能性材料科学分野における国際的ワークショップ，フォーラム等グループ研究会のリーダーに対する助成 助成金額 1件50万円以下，3件以内． 応募方法 財団所定の申請書に必要事項を記入の上，所属機関を経由して申請． 応募締切 2010年6月15日（火）（必着）．応募資格，その他詳細は下記HPをご参照ください．募集要項，申請書がダウンロードできます． 連絡先 531-0072 大阪市北区豊崎3-10-2 I&F梅田1004号 泉科学技術振興財団 TEL 06-6373-1811，FAX 06-6292-0891，E-mail info※izumi-zaidan.jp URL http://www.izumi-zaidan.jp/ 2010年度（株）KRI 研究公募 エネルギー・環境技術，材料技術，分析評価・計測技術の各分野で10年先の実用化技術を睨み，誰もやっていない発想やアイデアを基にした原理検証やフィジビリティスタディを行い，科学技術や産業界の発展に寄与することを目的とし，次のとおり公募します． 募集対象分野 （1）エネルギーの変換・貯蔵技術，環境関連技術 エネルギー資源の持続的有効利用技術（エネルギー変換技術，エネルギー貯蔵技術，バイオマス利用）や環境負荷・リスクの低減に貢献する技術（環境浄化，低環境負荷型製造プロセス）に関する基礎研究，（2）材料技術 高分子材料や無機材料，セラミックス，金属，天然物，生体材料あるいはこれらを複合する材料系とその作製プロセスや新規物性の発現，理論構築，計算化学などに関する基礎研究，（3）分析・評価技術 ナノレベルでの先端的分析評価技術や，品質管理のスピードアップやコスト削減に役立つ評価，病気予見・診断システム，全く新しいセンサー・分析計測技術に関しての基礎研究．新しい測定原理の検証，試作品の作製，分析データの取得なども含む． 要 件 （1）自ら計画・提案し，自律的に実行できるテーマ，（2）研究終了後に，KRIと共同で応用研究を推進することに同意し協力できるテーマ 研究期間 2010年9月〜2011年7月 応募資格 大学や研究機関に所属する新進気鋭の研究者 委託金額 1件あたり200万円を上限 募集期間 2010年4月1日〜2010年6月21日必着 応募方法 申請書（HPよりダウンロード）をE-mailと郵送で提出 問合・送付先 応募についての詳細はhttp://www.kri-inc.jp/をご覧ください． 第9回 積水化学自然に学ぶものづくり研究助成 募集対象 自然に学んだ基礎サイエンスの知見を活かし，「自然」の機能を「ものづくり」に活用する研究．原則として1つのテーマとして独立した個人研究（ただし少数グループによる研究も含む） 助成金額 最高限度額300万円／件 助成研究期間 2010年10月〜2011年9月 募集期間 2010年5月21日（金）〜6月30日（水） 結果通知 2010年9月上旬 応募方法 積水化学ホームページをご覧下さい． 問合先 601-8105 京都市南区上鳥羽上調子町2-2積水化学 自然に学ぶものづくり 研究助成プログラム事務局 （株）積水インテグレーテッドリサーチ 西本 TEL 075-662-8604，FAX 075-662-8605，E-mail：shizen10※sirnet.co.jp キヤノン財団 1.研究助成プログラム「産業基盤の創生」 助成総金額 年2億円 助成期間 1年または2年間 助成金額 1件の上限2,000万円 応募締切 2010年6月30日（水） 2.研究助成プログラム「理想の追求」 助成総金額 年1億円 助成期間 3年間 助成金額 1件の上限5,000万円 応募締切 2010年7月15日（木） 応募資格 1.2とも日本国内の大学，大学院，公的研究機関等に勤務し，当該機関で実質的に研究できる方 URL http://www.canon-foundation.jp 公益信託 助成の対象 日本国内の大学および研究機関等で化学を中心とした基礎から応用にわたる研究に携わる若手研究者（40才以下） 助成金額 1件につき最高100万円程度とする． 応募の方法 所定の研究助成申請用紙に必要事項を記入して，下記事務局に直接申込む． 申込締切 2010年7月28日（水）必着． 申込先 公益信託 三菱化学研究奨励基金事務局 100-8212 東京都千代田区丸の内1-4-5三菱UFJ信託銀行受託業務部 公益信託グループ 担当 宮下 TEL 03-6250-3260，FAX 03-6214-6253 |