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表面技術協会第43回『ナノテク部会』研究会 主 催 表面技術協会ナノテク部会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2011年9月13日（火）13：30～16：50 場 所 東京理科大学 森戸記念館第1フォーラム（東京都新宿区神楽坂） プログラム 13：30～14：15 簡単に造れる金属配位タイプ有機ナノチューブ～大量合成，および応用への取り組み（産業技術総合研究所）青柳 将；14：15～15：00 光を知って光らせる：希土類錯体の単分子膜の光機能（青山学院大学）長谷川美貴；15：20～16：05 接着剤を使用しない薄膜の接着法と，それを用いた機能化表面の創製（九州大学）渡邊宏臣；16：05～16：50 ナノシェルカーボンへの酵素の吸着（群馬大学）松井雅義 科学・技術は成長を支えるプラットフォームであり，日本の強みを活かした成長戦略として，グリーン・イノベーションによる環境・エネルギー大国戦略，およびライフ・イノベーションによる健康大国戦略が掲げられている．本研究会では，ナノマテリアル・ナノサイエンスの分野で活躍する研究者により，グリーン・イノベーションおよびライフ・イノベーションへの展開を見据えたナノマテリアル開発に関する最新のトピックスを紹介頂くとともに，当該分野の現状ならびに将来展望を解説いただく． 参加費 ナノテク部会会員・協賛会員・学生：無料；一般1,000円，テキスト代（購入必須）ナノテク部会会員：無料，表面技術協会・協賛学会員：2,000円，その他（一般）：9,000円，その他（大学／公的機関）：4,000円，その他（学生）：2,000円，（交流会）参加費：3,000円，定員：40名 定 員 80名 申込・連絡先 『ナノテク部会』事務局（ueno912※dream.com）あて電子メールにてお申し込み下さい．参加者1名につきそれぞれ，「（1）氏名，（2）所属，（3）会員種別（ナノテク部会会員，一般（企業），一般（有識者），一般（学生）），（4）電子メールアドレス，（5）交流会参加の有無」を御記載下さい． 第52回表面科学基礎講座「表面・界面分析の基礎と応用」 主 催 日本表面科学会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2011年9月14日（水）～15日（木） 場 所 （株）島津製作所関西支社マルチホール 阪急ターミナルビル14階（大阪府大阪市北区芝田1-1-4） 内 容 「表面・界面分析の基礎と応用」について，初心者，若手研究者，技術者を対象として，入門的かつ具体例を豊富に挙げて解説することを目的として講座を開設している．また，内容の理解をたすけるために，各講演で演習を行う予定です． 参加費 協賛学協会会員30,000円，非会員35,000円，学生非会員5,000円 申込締切 2011年9月7日（水）（定員100名） 申込・連絡先 113-0033 東京都文京区本郷2-40-13 本郷コーポレイション402 日本表面科学会 事務局 TEL 03-3812-0266，FAX 03-3812-2897，E-mail：shomu※sssj.org 日本技術士会化学部会9月度講演会 主 催 日本技術士会化学部会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2011年9月22日（木）13：30～17：00 場 所 葺手第2ビル5階 日本技術士会会議室（東京都港区虎ノ門4-1-20 田中山ビル隣） 内 容 講演1「蓄電デバイス用電極材料の展開―大容量，高出力の電池の開発を目指して―」宮山 勝（東京大学先端科学技術研究センター教授），講演2「生命の根源物質“5－アミノレブリン酸”の生産と応用」田中 徹（SBIアラプロモ（株）取締役CTO・生物工学部門技術士） 参加費 日本技術士会，日本セラミックス協会会費1,000円（技術士補およびJABEE認定コース修了者も会員並み），一般2,000円 申込・連絡先 319-1416 茨城県日立市田尻町1-21-7 伊東技術士事務所 伊東亮一 TEL 0294-42-7645，FAX 0294-42-7645，E-mail：rito66642※ybb.ne.jp URL https://www.engineer.or.jp/ippan/dmsw0211.php 第27回日本セラミックス協会関東支部研究発表会 日 時 2011年9月29日（木）～30日（金） 場 所 千葉大学西千葉キャンパスけやき会館（263-8522 千葉県千葉市稲毛区弥生町1-33） 主 催 日本セラミックス協会関東支部 協 力 旭硝子（株），太陽誘電（株），TDK（株），TOTO（株） スケジュール 第1日9月29日（木） 一般セッション A会場 B会場 C会場 13：00～14：00 1A01～1A05 1B01～1B05 1C01～1C05 14：00～14：48 1A06～1A09 1B06～1B09 1C06～1C09 14：48～15：00 休 憩 15：00～15：48 1A10～1A13 1B10～1B13 1C10～1C13 15：48～16：48 1A14～1A18 1B14～1B18 1C14～1C18 16：48～17：00 休 憩 17：00～17：48 1A19～1A22 1B19～1B21 1C19～1C22 懇親会・表彰式（一般セッション分，支部振興功績賞）19：30～21：30 於 東京ベイ幕張 コートダジュール 第2日9月30日（金） ポスターセッション けやき会館2F 9：00～9：45 奇数番号 9：45～10：30 偶数番号 特別講演 A会場 10：40～11：40 表彰式（ポスターセッション分）A会場11：40～11：55 写真撮影 11：55～12：10 プログラム 第1日 9月29日（木） 講演時間 12分（発表8分，討論3分，交代1分） A会場 一般セッション （13：00～17：48） 13：00～14：00 座長（神奈川大）鈴木健太 1A01 SPSによるZn2TiO4-Zn2SnO4系の組成変動変化（千葉大院）1，（Yeungnam Univ.）2○鳥居翔平1，上川直文1，小島 隆1，Young-Hwan Han2，掛川一幸1 1A02 Zn（OH）2の糖類共存溶液中での低温加熱処理による蛍光発光性ZnOナノ粒子の合成（千葉大院工）〇藤野辰哉，上川直文，小島 隆，掛川一幸 1A03 層状複水酸化物粒子を用いた配向性亜鉛酸化物薄膜調製（千葉大院）○齋藤貴宏，上川直文，小島 隆，掛川一幸 1A04 固体酸触媒特性を有するメソポーラスジルコニアの直接合成（千葉工大）1，（東京理大理工）2，（東京理大基礎工）3○並木裕一1，柴田裕史1，小倉 卓2，西尾圭史3，酒井秀樹2，阿部正彦2，松本睦良3，橋本和明1 1A05 針状ベーマイト粒子を用いたアルミナ系多孔体の作製と耐熱性改善（千葉大院）○真栄田義樹，小島 隆，上川直文，掛川一幸 14：00～14：48 座長（茨城大）新井将也 1A06 金属アルコキシドを用いたカーボンナノファイバーへのアルミナ粒子の析出（信州大）○荒井善生，山口朋浩，遠藤守信，樽田誠一 1A07 フラックス概念を用いた全結晶型リチウムイオン二次電池用電極界面の形成（信州大院）1，（トヨタ自動車）2○稲垣 光1，手嶋勝弥1，穂積正人2，坂口琢哉2，小浜恵一2，大石修治1 1A08 複合テンプレートを用いたメソポーラスシリカの高規則性化（東京理大）1，（山口東京理大）2，（東京理大）3○清水一真1，内藤 雄1，木練 透2，郡司天博3，田村隆治3，西尾圭史3 1A09 アニオン性界面活性剤分子集合体を鋳型とした六角板状メソ構造化酸化亜鉛粒子の調製（千葉工大）1，（東京理大理工）2，（東京理大基礎工）3○河井孝之1，柴田裕史1，小倉 卓2，西尾圭史3，酒井秀樹2，阿部正彦2，橋本和明1 14：48～15：00 休 憩 15：00～15：48 座長（山梨大）小林 雅 1A10 水和チタニアの部分溶出による多孔性チタニア粒子の合成と評価（千葉大院）○馬場 司，小島 隆，上川直文，掛川一幸 1A11 尿素沈殿法による酸化アルミニウム－酸化ガドリニウム系共晶系セラミックスの作製（千葉大院）1，（三重県工業研究所）2○高橋友希1，上川直文1，小島 隆1，稲垣順一2，掛川一幸1 1A12 放電プラズマ焼結法によるチタン酸ジルコン酸鉛の誘電率の温度特性（千葉大院）○文 春明，上川直文，小島 隆，掛川一幸 1A13 複合テンプレートを用いた白金担持多孔質シリカの合成及び触媒性能評価（東京理大院）1，（千葉工大）2，（山口東京理大）3，（東京理大）4○齋藤陽介1，内藤 雄1，柴田裕史2，木練 透3，郡司天博4，田村隆治4，西尾圭史4 15：48～16：48 座長（千葉工大）河井孝之 1A14 超音波照射による微細水酸アパタイトの合成（日本大）○北沢佳奈，梅垣哲士，西宮伸幸，小嶋芳行 1A15 各種高分子基板へのシリカ質膜の形成に及ぼす真空紫外光照射の影響（上智大）○荒井翔斗，板谷清司，幸田清一郎 1A16 放電プラズマ焼結と常圧焼結による固溶体反応速度の違い（千葉大院）○金 佳卿，上川直文，小島 隆，掛川一幸 1A17 メカノケミカル／ソルボサーマル法による高結晶性微細チタン酸バリウム粉末の合成（茨城大院）1，（北興化学工業）2○佐藤俊輔1，御立千秋2，山田智恵2，阿部修実1 1A18 メカノケミカル法を利用したNi/Ce0.7Sm0.3O1.85複合粉末の作製（茨城大院）1，（北興化学工業）2○新井将也1，御立千秋2，山田智恵2，阿部修実1 16：48～17：00 休 憩 17：00～17：48 座長（静岡大）小澤貢太郎 1A19 MOCVD法を用いたアルミナ薄膜の結晶化におよぼす諸条件の影響（東工大院）1，（東北大）2，（静岡大）3，○石崎超矢1，田中 敦1，田中貴司1，木口賢紀2，脇谷尚樹3， J. S. Cross1，櫻井 修1，篠﨑和夫1 1A20 高結晶性固体 電解質用Li5La3Nb2O12結晶の低温フラックス育成（信州大）○小野寺仁志，手嶋勝弥，大石修治 1A21 金属表面へのLi-Ti-O系結晶層のフラックスコーティング形成（信州大）○小島大輝，手嶋勝弥，大石修治 1A22 KNO3-NaNO3フラックス法による硝酸型Mg-Al系層状複水酸化物結晶の育成（信州大）1，（信州大院）2○白崎明美1，手嶋勝弥1，清原瑞穂2，大石修治1 B会場 一般セッション （13：00～17：36） 13：00～14：00 座長（神奈川工大）大峠聖也 1B01 フッ素含有ガラス粉末を添加したマシナブルアルミナ／マイカ複合体の作製と機械的性質（信州大）○各務祐気，山口朋浩，樽田誠一 1B02 NiAl分散ジルコニア基複合材料のリユーザビリティー（茨城大院）○長谷川拓哉，阿部修実 1B03 リン酸化オリゴ糖カルシウムから調製したアパタイトと熱可塑性剤樹脂との複合化による新規骨止血剤の調製と薬剤徐放特性（上智大）○三村時生，梅田智広，武者芳郎，幸田清一郎，板谷清司 1B04 ホウ酸－グリセリン縮合物への酒石酸添加による炭化ホウ素前駆体の微構造への影響（埼玉大院）○田原直樹，撹上将規，柳瀬郁夫，小林秀彦 1B05 水／エタノール混合スラリーを用いた磁場中電気泳動堆積法による配向積層アルミナの作製と評価（茨城大院・物材機構）1，（物材機構）2，（茨城大院）3○川名孝弥1，鈴木 達2，打越哲郎2，目 義雄2，阿部修実3 14：00～14：48 座長（東工大）石崎超矢 1B06 非晶質前駆体を用いたCe-TZP/BaAl12O19コンポジットの自己複合化（千葉大院）○大理伸哉，小島 隆，上川直文，掛川一幸 1B07 ゾル－ゲル法による紫外線遮蔽ZnO-ZrO2膜の合成に及ぼす超音波照射の効果（静岡大院）○杉田憲昭，林 宏明，鈴木久男，坂元尚紀，脇谷尚樹 1B08 低温処理による乱層構造窒化ホウ素粉末の層構造の秩序化（埼玉大院）○吉越大祐，撹上将規，柳瀬郁夫，小林秀彦 1B09 Ce1-xGdxO2-x/2系における酸化物イオン伝導と誘電特性（神奈川大）○渉里和也，鈴木健太，齋藤美和，山村 博 14：48～15：00 休 憩 15：00～15：48 座長（上智大）三村時生 1B10 ZrO2-CeO2-Y2O3系における酸化物イオン伝導と誘電緩和（神奈川大）○鈴木健太，齋藤美和，山村 博 1B11 フラックス法によるLa1-xBaxCoO3単結晶の育成とその磁気特性（群馬大院）〇野澤拓未，京免 徹，花屋 実 1B12 Si基板上にエピタキシャル成長したYSZ薄膜の電気伝導度の温度依存性（東工大院）1，（東北大）2，（静岡大）3物質工学科○海老澤琢1，永原和聡1，木口賢紀2，脇谷尚樹3，J. S. Cross1，櫻井 修1，篠﨑和夫1 1B13 ペロブスカイト関連化合物（Ba1-xCax）2In2O5系のプロトン伝導（神奈川大）○庄司健人，渡邊雅之，伊藤滋啓，斎藤美和，山村 博 15：48～16：48 座長（信州大）稲垣 光 1B14 CSD法により作製したPb（Zr,Ti）O3/LaNiO3/Si積層薄膜のTEMによる応力状態評価（静岡大院）○小澤貢太郎，坂元尚紀，木口賢紀，今野豊彦，脇谷尚樹，鈴木久男 1B15 AgI-Ag2O-P2O5系イオン伝導ガラスの構造に関する109Ag固体高分解能NMRによる研究（群馬大院）○出島喜美子，真藤伸行，京免 徹，花屋 実 1B16 マイクロカプセル型異方導電性接着剤を用いた実装（神奈川工科大）○堀越英二，丹羽紘一，伊熊泰郎 1B17 スパッタ法による固溶限界を超えた（Ba,Ca）TiO3薄膜の形成（群馬大院）○小林由美恵，京免 徹，花屋 実 1B18 Bi（Fe1/4Ni3/8Ti3/8）O3－BaTiO3系セラミックスの合成と誘電特性（山梨大院）○小林 雅，熊田伸弘，三浦 章，米崎功記，武井貴弘，藤井一郎，和田智志 16：48～17：00 休 憩 17：00～17：36 座長（群馬大）出島喜美子 1B19 ダイナミックオーロラPLD法で作製したホモエピタキシャル成長SrTiO3薄膜における自発的人工超格子構造の生成と超格子周期の制御（静岡大学）1，（東京工業大学）2，（静岡大学）3○榊原利真1，坂元尚紀1，符 徳勝1，篠﨑和夫2，鈴木久夫3，脇谷尚樹3 1B20 ポルーサイト化合物の熱膨張特性に及ぼすV置換効果（埼玉大院）○齋藤裕未，柳瀬郁夫，小林秀彦 1B21 炭化ケイ素焼結体の緻密化と力学的性質に及ぼす表面改質Si-Al-C系短繊維添加の影響（上智大）○森安啓貴，末益博志，Ian J. Davies，幸田清一郎，板谷清司 C会場 一般セッション （13：00～17：48） 13：00～14：00 座長（東京理大）清水一真 1C01 メカノケミカルプロセスを用いたSrAl2Si2O8:Euの合成（茨城大院）1，（北興化学工業）2○青木幸子1，御立千秋2，山田智恵2，阿部修実1 1C02 Eu2+，Pr3+付活硫化カルシウム蛍光体の赤色残光時間に及ぼす還元雰囲気の影響（日本大）○森健太郎，小嶋芳行，西宮伸幸 1C03 Erを発光中心としたCa1-xSrxTiO3蛍光体のフォトルミネッセンス特性（群馬大院）○関 美悠，京免 徹，花屋 実 1C04 Na2MMg（PO4）2（M＝Ca,Sr,Ba）: Eu2+の蛍光特性（山梨大院）○松田千寛，米崎功記，三浦 章，武井貴弘，熊田伸弘 1C05 Eu3+,Tb3+付活非晶質ケイ酸カルシウム蛍光体の合成と蛍光特性（日本大）○沼澤政明，梅垣哲士，西宮伸幸，小嶋芳行 14：00～14：48 座長（早稲田大）長浜慎太郎 1C06 非晶体からのAl2O3-Er3Al5O12共晶の作製とその性質の評価（千葉大院）○古舘一成，上川直文，小島 隆，掛川一幸 1C07 ルチル型酸化チタン単結晶の光触媒活性と面指数の関係（神奈川工科大）1，（高輝度光科学研究センター）2○大峠聖也1，丹羽紘一1，伊熊泰郎1，田尻寛男2，坂田修身2 1C08 有色廃ビンガラスの水熱処理による高機能化（山梨大院）1，（中村建設）2○太田宏章1，武井貴弘1，三浦 章1，米崎功記1，熊田伸弘1，木野村暢一1，高橋浩幸2 1C09 LiFeO2のCO2吸収特性に及ぼすCeO2添加効果（埼玉大院）○大塚紘史，柳瀬郁夫，小林秀彦 14：48～15：00 休 憩 15：00～15：48 座長（山梨大）迫 龍太 1C10 色素増感太陽電池用チタニア電極膜の構造制御（茨城大院）○田村真都，幡野修平，阿部修実 1C11 Ba1-xSrxZr1-yYyO3-δの相転移挙動と導電率の評価（日本大院）○杉本隆之，橋本拓也 1C12 SrRuO3バッファ層導入によるNaCo2O4-Mg2Si熱電変換モジュールの性能向上（東京理大院）○松原正典，新井皓也，沢田幸枝，坂本達也，飯田 努，西尾圭史 1C13 SOFCカソード材料LaNi0.6Fe0.4O3の焼結特性及びBET法を用いた比表面積の評価（日本大）○丹羽栄貴，植松千絵，橋本拓也 15：48～16：48 座長（日本大）森健太郎 1C14 CVD法によるGd添加CeO2電解質薄膜形成用Ni-電解質混合導電基板の作製と特性（東工大院）1，（東北大）2，（静岡大）3○門馬征史1，田中宏樹1，早乙女遼一1，木口賢紀2，脇谷尚樹3，J. S. Cross1，櫻井 修1，篠﨑和夫1 1C15 シードを添加した多核Al錯体－ヒドロキシ酸複合ゲルからのαアルミナの低温析出（信州大）○奥田佳奈，山口朋浩，樽田誠一，北島圀夫 1C16 ZnOバリスタにおけるZn7-xCoxSb2O12スピネルと粒界成分の固溶関係（茨城大院）1，（日本AEパワーシステムズ）2○森村 健1，足立直樹1，岩井田武2，三宅潤一郎2，津田孝一2，阿部修実1 1C17 P-OH基を有するフェニルホスホン酸による層状チタン酸の層表面修飾（早稲田大院）1，（各務記念材料技術研究所）2○長浜慎太郎1，加藤由実1，菅原義之1,2 1C18 赤外線集中加熱浮遊帯域法によるシリコン単結晶の育成（山梨大）○柳本一樹，長尾雅則，綿打敏司，田中 功 16：48～17：00 休 憩 17：00～17：36 座長（埼玉大）田原直樹 1C19 メカノケミカル過程における粉砕媒液の反応（茨城大院）○酒井悠希，阿部修実 1C20 ブリッジマン法による四ホウ酸リチウム単結晶育成における強磁場効果（山梨大）○迫 龍太，長尾雅則，綿打敏司，田中 功 1C21 酸素還元反応におけるPt-CeOxカソード中の少量のCeOxがPtへ与える影響（物質・材料研究機構・北海道大院）○府金慶介，森 利之，ディ ロン オウ，鈴木 彰，吉川英樹，増田卓也，魚崎浩平，山下良之，上田茂典，小林啓介，イバ マトリノーヴァ，ウラディミール マトリン 17：36～17：48 座長（千葉大）小島 隆 1C22 ドープを施したCa-Fe-O系焼結体の電気的性質（千葉大院）○西山 伸，長谷川明彦 懇親会・表彰式（一般セッション分＊，支部振興功績賞）（19：30～21：30） 一般発表 ＊表彰は学生発表のみです． 第2日 9月30日（金） けやき会館2F ポスターセッション （9：00～10：30） コアタイム ・9：00～9：45 奇数番号 ・9：45～10：30 偶数番号 ポスターは奇数・偶数番号共に9：00までに掲示してください． 2P01 ペロブスカイト型酸化物LnCoO3（Ln＝Ho,Gd）系の熱電特性評価（神奈川大）○浅井友梨香，竹本寛直，川上博司，齋藤美和，山村 博 2P02 エタノール燃料電池の燃料極触媒における脱白金（神奈川工大）○雨宮和馬，佐藤貴広，丹羽紘一，伊熊泰郎 2P03 エタノール燃料電池の負荷電流を変えた時の化学反応（神奈川工大）○荒井健太郎，秋澤 賢，丹羽紘一，伊熊泰郎 2P04 フラックスによる金属表面上酸化物の変化（神奈川工大）○板鼻桂樹，小白木秀隆，丹羽紘一，伊熊泰郎 2P05 遷移金属修飾C-N化合物による水素収着（日本大）○大曽根美佳，高山莉奈，遠山岳史，小嶋芳行，西宮伸幸 2P06 遷移金属修飾BNによる水素収着（日本大）○太田健介，飯村 梢，遠山岳史，小嶋芳行，西宮伸幸 2P07 超薄板ガラスを用いた有機無機ハイブリッドフレキシブル基板の開発とカラーフィルタ膜形成技術（芝浦工大院）○大和田武志，大石知司 2P08 Ba1-xCaxCeO3系におけるペロブスカイト型構造と蛍石型構造の相互関係（神奈川大）○小山早紀，沖田直人，斎藤美和，山村 博 2P09 酸化物中に含まれる鉄族元素の共存金属元素による酸化数の制御（宇都宮大）○加藤雅基，井本英夫，単 躍進，手塚慶太郎 2P10 メソポーラス酸化チタンの合成・評価（神奈川工大）○木田周平，蔵元理恵，丹羽紘一，伊熊泰郎 2P11 Ruddlesden-Popper相H2SrNb2O7の合成とn-アルコールによる層表面修飾（早稲田大院）1，（各務記念材料技術研究所）2○木村菜々子1，長浜慎太郎1，菅原義之1,2 2P12 HMTと硝酸セリウムによる酸化セリウム薄膜の合成（神奈川工大）○小島拓也，鈴木伸弘，丹羽紘一，伊熊泰郎 2P13 難焼結性SnO2への異原子価陽イオンの添加効果（神奈川大）○小嶋理己，楢原翔太，齋藤美和，山村 博 2P14 Crドープ多孔質アルミナモノリス蛍光体の合成（群馬大）○齊藤智絵，小林由依，京免 徹，花屋 実 2P15 ペロブスカイト化合物Li3xLa1/3-xNbO3系における欠陥構造とLi伝導（神奈川大）○櫻井佑馬，阿部 将，齋藤美和，山村 博 2P16 光酸発生剤とマイクロ波照射を用いたラテント顔料含有有機無機ハイブリッドカラーフィルタ膜パターニング技術の開発（芝浦工大院）○菅原慎也，大石知司 2P17 新規複合ぺロブスカイト関連化合物（Ba1-xLax）2（Zn3/4W1/4）2O5+x系のプロトン伝導（神奈川大）○杉澤拓也，櫻井 亨，渡邊雅之，伊藤滋啓，斎藤美和，山村 博 2P18 新規複合ブラウンミラライト化合物Sr2Mx（ZnZr）2-xO5の合成と電気的特性（神奈川大）○鈴木あすか，伊藤滋啓，渡邊雅之，斎藤美和，山村 博 2P19 ライススターチによるSOFC多孔質電極の微構造設計（東京都市大院）1，（物質・材料研究機構）2，（法政大）3○鈴木晴絵1,2，高橋聡志3，小林 清2，石垣隆正3，宗像文男1，打越哲郎2 2P20 Al2O3蛍光体膜合成の検討（宇都宮大）○武井亜紀，単 躍進，手塚慶太郎，井本英夫 2P21 酸化物半導体を用いた熱電モジュールの開発（神奈川大）○松井圭太，木内真之，竹本寛直，川上博司，斎藤美和，山村 博 2P22 エタノール燃料電池の燃料極触媒改良（神奈川工大）○村田竜一，秋澤 賢，丹羽紘一，伊熊泰郎 2P23 UV照射を用いた有機物分解によるTiO2光触媒活性評価（神奈川工大）○渡邊陽介，大峠聖也，丹羽紘一，伊熊泰郎 A会場 特別講演 （10：40～11：40） 座長 篠﨑和夫「通信インフラを支える光ファイバ・ケーブル」（株）フジクラ 光ケーブルシステム開発センター 光ケーブル開発部 主席研究員 村田 暁 A会場 表彰式（ポスターセッション分） （11：40～11：55） 写真撮影 （11：55～12：10） 日本セラミックス協会関西支部 第14回若手フォーラム 主 催 日本セラミックス協会関西支部 協 賛 （予定）日本化学会，応用物理学会，日本材料学会，ニューセラミックス懇話会 日 時 2011年10月7日（金）12：30～8日（土）11：20（1泊2日） 会 場 関西大学セミナーハウス「飛鳥文化研究所」 （http://www.kansai-u.ac.jp/Jigyo/seminar/asuka/asuka_gai.html）634-0123 奈良県高市郡明日香村稲淵（近鉄「橿原神宮前」駅東口からタクシー15分） TEL 0744-54-4189，FAX 0744-54-3830 参加人数 約60名 テーマ 『材料の微細化・微構造制御と新機能の発現』～次世代につながるセラミックステクノロジー～ 開催趣旨 関西支部では若手の勉強と交流・情報交換のため，毎年秋に1泊2日のフォーラムを開催しています．このフォーラムは，第一線で活躍する講師による最新の話題提供をもとに参加者全員で討論を行うことで理解を深め，また討論を通して若手同士はもちろん，講師の先生方や関西支部所属のセラミックス関連の大学・公研の先生や企業の技術者たちと交流できる企画です．今回は，材料の微細化や微構造制御をテーマとし，基礎研究から応用までさまざまな材料の高機能化を目指す取り組みを講師の先生方にご紹介いただきます．今まで知らなかった材料や製造プロセスに触れることで，新たなセラミックス材料開発のヒントがきっと得られることと思います．また，講師の先生・参加者と寝食を共にし，議論を交わすことで，研究分野の枠を超えた交流の輪が広がることを期待します．参加者に年齢制限はありません．大学関係者のみならず産業界からも多数のご参加をお持ちしています． プログラム 10月7日（金） 講演 「ゾル－ゲル法による多孔性有機－無機ハイブリッド，有機架橋高分子および活性炭の作製と応用」金森主祥（京都大学） 講演 「新規カーボン材料グラフェンの基礎物性と応用可能性について」永瀬雅夫（徳島大学） 講演 「ナノ粒子材料への期待と応用への課題」奥山喜久夫（広島大学） 会社発表「製品や事業紹介」（企業参加者・4～5社） 10月8日（土） 講演 「ナノ構造制御による磁気・光情報記録媒体用ガラス材料の開発」山本浩貴（日立製作所） 講演 「積層セラミックコンデンサの開発」中村友幸（村田製作所） 参加費 日本セラミックス協会・協賛学協会員：一般10,000円／学生5,000円；日本セラミックス協会シニア会員・永年継続会員：5,000円；関西支部賛助会員企業：1名5,000円／2人目からは10,000円；会員外：一般15,000円／学生5,000円 ＊なお，上記参加費には，夕食・宿泊・朝食・テキスト代を含みます．参加費は会場にて当日受け付けます． 参加申込方法 （1）氏名（ふりがな），（2）所属（勤務先・役職），（3）会員種別，（4）性別，（5）連絡先とE-mail，アドレスを記し，E-mailにて下記へお申し込み下さい． 申込・問合先 若手フォーラム事務局：堺化学工業（株）中原慎治 申込締切 2011年9月21日（水）（定員になり次第締切） 国際セラミックス総合展2011International Ceramic Exhibition併催セミナー等 全体会期 2011年10月12日（水）～14日（金）10：00～17：00 場 所 東京ビッグサイト西ホール （URL：http://www.ceramic-expo.jp/） セラミックスセミナー 2011年10月13日（会期2日目） 展示会場内特設会場（総合展参加者は参加無料） 13：00 酸化セリウムのガラス研磨メカニズムと代替材料の可能性 須田聖一（（財）ファインセラミックスセンター） 13：30 蛍光体用Tb,Eu低減技術の開発 赤井智子（産業技術総合研究所） 14：00 希少元素：リチウム資源の回収と応用技術について 平尾一之（京都大学大学院工学研究科） 14：40 セラミックス全固体電池の可能性 金村聖志（首都大学東京大学院） 15：10 全固体リチウム二次電池の高性能化に向けた界面制御 高田和典（物質・材料研究機構） 15：40 最近の固体酸化物形燃料電池の進展と今後の展望 横川晴美（産業技術総合研究所） セラミックス大学 2011年10月14日（会期3日目） 東京ビッグサイト606会議室（総合展参加者は参加無料） 13：00 セラミックス大学のご紹介 野間竜男（東京農工大学） 13：10 希少元素の戦略的役割 原田幸明（物質・材料研究機構） 14：10 最近のエネルギー問題とセラミックス 鶴見敬章（東京工業大学） セラミックストピックス 2011年10月14日（会期3日目） 東京ビッグサイト606会議室（総合展参加者は参加無料） 15：20 セラミックス・ハイブリッド型ポリマー電解質を用いた全固体リチウムイオン電池の開発と展望 中山将伸（名古屋工業大学） 15：40 先進セラミックス製造プロセスによる高性能固体酸化物形燃料電池（SOFC）の開発 鈴木俊男（産業技術総合研究所） 16：00 新しい硬化メカニズムによる骨修復セメントの開発 相澤 守（明治大学／神奈川科学アカデミー） 16：30 グリーンイノベーションに向けたセラミックス科学の最前トピック 笹井 亮（島根大学） 第6回フルラス記念先端シンポジウム 主 催 日本フルラス・岡崎記念会 共 催 日本セラミックス協会ほか 日 時 2011年10月12日（水）9：00会場 場 所 東京ベイ有明ワシントンホテル アイリス 内 容 国際セラミックス総合展2011の併催行事として開催され，特別講演3件 招待講演5件 一般講演3件による環境・エネルギーをテーマとした電子材料，構造材料，生体材料などの先端セラミックスに関するシンポジウムです．今回は，『エネルギー・環境分野での新たな課題と可能性』と題し，レアアースなどの資源問題，光触媒技術の新たな展開，原子力発電に関する課題，新しいエネルギーとして注目されている量子ドット型太陽電池，熱電素子，圧電振動素子などと，世の中で関心を集めているトピックスについて各分野の日本のトップレベルの有識者・研究者から講演を頂きます．詳しいプログラムはHPご参照ください．（http://www.tic-mi.com/6th_fulrath/program.htm） 参加費 5,000円（含 要旨集） 申込先 日本フルラス・岡崎記念会C/O（株）ティー・アイ・シー TEL 075-693-1533，FAX 075-693-1534，E-mail：fulrath※tic-mi.com URL http://www.tic-mi.com/6th_fulrath/index.php 第173回腐食防食シンポジウム 主 催 腐食防食協会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2011年10月13日（木）10：00～16：50 場 所 東工大蔵前会館ロイアルブルーホール（東京目黒区大岡山） 内 容 1．腐食事例解析の意味と流れ，2．腐食事例解析の要素技術・腐食試験・機械的試験・分析・観察技術・試験機関・情報活用，3．腐食事例解析の実例・硝酸，硫酸環境の特徴と事例・フッ酸環境の特徴と事例・塩化物・アルカリ環境の特徴と事例・石油精製環境の特徴と事例・ユーティティー設備の特徴と事例・外面腐食事例とデータ解析． 参加費 正会員，特別会員（協賛学会協会員）5,000円，学生会員2,000円，会員外8,000円 申込・連絡先 文京区本郷2-13-10 腐食防食協会 鹿田和子 TEL 03-3815-1161，FAX 03-3815-1291，E-mail：ysm.hng-113-0033※jcorr.or.jp 名古屋大学 材料バックキャストテクノロジーシンポジウム 主 催 名古屋大学大学院工学研究科 材料バックキャストテクノロジー研究センター 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2011年10月17日（月）13：00～17：50 場 所 名古屋大学ES総合館1階ホール・会議室（愛知県名古屋市） 内 容 いままさに，世界のエネルギー政策は，脱化石燃料，脱原子力発電して，自然エネルギー開発へと大きく転換し始めようとしている．環境破壊・温暖化・気候変動・地球崩壊を回避して生命力溢れる地球を取り戻すためには，化石燃料依存型社会から一刻も早く脱皮し，原子力エネルギー依存から大きく方針転換して，クリーンな自然エネルギーを効率よくかつ最大限に活用する「太陽エネルギー社会」の実現が必要である．本シンポジウムは，人類と環境の調和に向け「太陽エネルギー社会」を人類が目指す未来の理想社会と位置づけ，これを構築するために必要な「未来ビジョンから現在技術の方向性を決めるバックキャスト視点に基づく材料テクノロジー」を促進する目的で実施するものである．さまざまな科学技術分野から，太陽エネルギー社会構築のための材料テクノロジーについて，その必要性，現在の技術水準，および将来の技術開発課題を明らかにするとともに，技術開発をより迅速に進展させるための施策について議論する． 参加費 1,000円（資料代） ※学生は無料 申込締切 2011年10月7日（金）（定員190名） 申込・連絡先 464-8603 名古屋市千種区不老町 名古屋大学大学院工学研究科 材料バックキャストテクノロジー研究センター TEL 052-789-3589，E-mail：MBT-Center※numse.nagoya-u.ac.jp URL http://mbt-center.numse.nagoya-u.ac.jp/symposium/2011/symposium-2011.html 平成23年度第19回セラミックス基礎秋季教室 関東支部では，毎年，セラミックス基礎秋季教室を開催しています．本年度は，山梨大学（甲府キャンパス）にて，「企業研究の現状と課題」をテーマに，世界で通用するモノづくりに関して講義していただくことになっています．どなたでも聴講できます．参加は無料です．多数の方々のご参加をお待ちしています． 共 催 山梨大学工学部応用化学科，山梨大学大学院附属クリスタル科学研究センター 開催日 2011年10月27日（木）10：30～12：00 会 場 山梨大学甲府キャンパス メディア館5F多目的ホール（山梨県甲府市武田4-3-11） キャンパスへのアクセス http://www.yamanashi.ac.jp/modules/footer_menu/index.php?content_id=5 キャンパス内メディア館の位置 http://www.yamanashi.ac.jp/modules/footer_menu/index.php?content_id=6 交 通 JR甲府駅北口2番バス停乗り場より「武田神社」または「積翠寺」行き約5分，「山梨大学」下車，または，JR甲府駅北口より武田通りを北上，徒歩約15分 対 象 一般，博士前・後期課程学生，学部学生 テーマ 企業研究の現状と課題 講 師 （株）クリスタルシステム 進藤 勇；ソニー（株）中山有理 講義内容 （1）オンリーワンを目指す己に課する条件 （クリスタルシステム）進藤 勇 （2）二次電池の現在と未来 （ソニー）中山有理 参加費 無料 定 員 150名程度 申込方法 FAXまたは電子メールにてお申し込みください．タイトルを「関東支部セラミックス基礎秋季教室参加申込」とし，宛名を「綿打宛」として下さい．事前申込がなくても参加できますが，資料をお渡しできない場合があります． 申込締切 2011年10月24日（月） 連絡先 山梨大学大学院附属クリスタル科学研究センター 綿打敏司，TEL 055-220-8656，FAX 055-254-3035，E-mail：2011seminar※crystal.inorg.yamanashi.ac.jp 粉体工学会第28回製剤と粒子設計シンポジウム 主 催 粉体工学会 共 催 日本セラミックス協会ほか 日 時 2011年10月27日（木）～28日（金） 場 所 ホテルニューオータニ大阪（大阪府大阪市中央区城見1-4-1） 内 容 製剤と粒子設計シンポジウムは，参加者の皆様が製剤に関する最新情報を得て，活発な議論ができることを目的とした研究・技術発表会です．今年度も例年通り，特別講演，各賞受賞講演，一般講演，奨励賞対象講演，パネルディスカッションと多彩なプログラム構成を予定しています．新しい製剤設計，製品開発を目指して，製剤・素材・機械および関連技術に関するホットな情報交換ができるよう多くの皆さまのご参加をお待ちしております． 参加費 （主催・共催学協会員）会社関係44,000円，大学・公立研究機関関係27,000円，非会員63,000円 定 員 400名（予定） 申込・連絡先 501-1196 岐阜県岐阜市大学西1-25-4 岐阜薬科大学 薬物送達学大講座 製剤学研究室内 製剤と粒子設計部会事務局 TEL 058-230-1022，FAX 058-230-1022，E-mail：ryuushi-sekkei2005※cream.plala.or.jp 平成23年度 日本セラミックス協会 主 催 日本セラミックス協会資源・環境関連材料部会 協 賛 産業技術総合研究所東北センターClayteam，日本粘土学会 協賛（予定） ゼオライト学会，日本化学会，日本鉱物科学会 日 程 2011年11月10日（木）～11日（金） 見学先および内容 （1）平成新山ネイチャーセンター 見学内容：雲仙火山の歴史や普賢岳噴火による平成新山の誕生について，各種展示や岩石の見学を行います．また屋外展示では垂木台地の地層断面や火砕流堆積物，自然の再生の様子等を見学します． （2）雲仙岳災害記念館（がまだすドーム） 見学内容：平成噴火による火砕流・土石流など災害の記録や，江戸時代の噴火と防災，人と火山の共生などの分野について11の展示エリアを見学します． （3）有限会社木山陶石鉱業所 事業内容：石英やセリサイト，カオリナイトを主成分とする天草陶石の採鉱および天草古陶の技法を復元した天草陶磁器「内田皿山焼」の作成． 見学内容：海抜約100mに位置する海岸脈の切羽にて露天掘の採掘現場を見学します． （4）上田陶石合資会社 事業内容：陶磁器や工業用磁器原料に使用されている天草陶石の採掘および，酸処理等による鉱石の精製． 見学内容：天草3大陶石脈の一つである皿山脈の選鉱場と採掘場を見学し，その後陶磁器工場と脱鉄工場を見学します． 募 集 30名（同業他社の方はご遠慮いただく場合がありますので予めご了承ください．） 参加費 一般：22,000円，学生・大学院生：15,000円 ※非会員（一般，学生・大学院生）の方も同額です．多数の方のご参加をお待ちしています． 見学会費 8,000円（交通費，雲仙岳災害記念館入館料，2日目昼食代含む） 宿泊費 14,000円（宿泊費，夕食代および2日目朝食代を含む） 集合場所と日程 第1日（11月10日） 12：00 長崎空港 集合・出発 12：30 JR諫早駅 集合・出発 14：15～15：00 平成新山ネイチャーセンター見学 15：30～16：00 雲仙岳災害記念館 見学 17：30頃 宿泊所着 （雲仙温泉 富貴屋 長崎県雲仙市小浜町雲仙320） 19：00頃 夕食会 第2日（11月11日） 6：30 朝食 7：00 宿泊所 集合・出発 8：00～8：30 フェリー乗船（口之津港～鬼池港） 9：00～9：40 木山陶石鉱業所社 海岸脈互層採掘場 見学 10：30～12：30 上田陶石社 皿山脈選鉱場，伝兵衛木場採掘場，陶磁器工場，脱鉄工場見学 13：00～14：00 昼食 17：30頃 JR熊本駅および熊本空港にて解散 申込締切 2011年9月30日（金）定員になり次第，締め切らせていただきます． 申込方法 FAXまたはE-mail （1）氏名（ふりがな），（2）年齢，（3）性別，（4）所属（勤務先・学校名，住所，TEL，FAX，E-mailアドレス），（5）参加費のお振り込み予定日，（6）1日目の集合希望場所と2日目の解散希望場所，（7）見学会参加中の連絡先（携帯番号等）を記載のうえ，下記までお申し込み下さい． （公社）日本セラミックス協会 資源・環境関連材料部会 見学係（担当：遠藤） 169-0073 東京都新宿区百人町2-22-17 TEL 03-3362-5231，FAX 03-3362-5714，E-mail：raw-apply※cersj.org 参加費用 参加費は，お申し込み後2週間以内を目処に下記口座へお振り込み願います．振込領収書を領収書にかえさせていただきます．手書き領収書をご希望の方は，申し込みの際に宛名等の詳細をご連絡ください． 振込先 ゆうちょ銀行 記号10090 口座番号10137741 他金融口座からの振り込み口座番号 店名 〇〇八（ぜろぜろはち） 店番008 普通口座1013774 口座名義 公益社団法人日本セラミックス協会資源・環境関連材料部会 読み：シャ）ニホンセラミックスキョウカイ シゲン カンキョウカンレンザイリョウブカイ 問合先 （株）エーアンドエーマテリアル 技術開発研究所 基礎加飾グループ 河崎英治（かわさきえいじ） TEL 0296-52-6521，FAX 0296-52-6524，E-mail：ek920177※aa-material.co.jp 日本希土類学会第29回講演会 主 催 日本希土類学会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2011年11月11日（金）13：30～17：00 場 所 千里阪急ホテル（大阪府豊中市） 内 容 講 演：1．「グリーンテクノロジーを指向した希土類波長変換材料」（京大院人間・環境）田部勢津久，2．「金属ランタンを直接用いる還元反応」（関西大工）西山 豊，3．「電子セラミックスにおける希土類元素の利用状況と代替技術の可能性」（（株）村田製作所）鷹木 洋 参加費 日本希土類学会会員：無料，協賛学協会会員：8,000円，その他：15,000円 申込締切 2011年10月28日（金） 申込・連絡先 565-0871 吹田市山田丘2-1 大阪大学大学院工学研究科応用化学専攻内 日本希土類学会事務局 TEL 06-6879-7352，FAX 06-6879-7354，E-mail：kidorui※chem.eng.osaka-u.ac.jp URL http://www.kidorui.org/lecture.html 第49回粉体に関する討論会 主 催 第49回粉体に関する討論会2 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2011年11月14日（月）～16日（水） 場 所 いわて県民情報交流センター「アイーナ」（岩手県盛岡市） 内 容 ［主題］1．機能性微粒子及びその表面設計，2．粉体物性・計測，3．粉体の応用技術，4．リサイクルと粉体，5．粉体プロセス・粉体一般［特別講演］3件「粉砕とメカノケミストリーの研究を通じて」齋藤文良（東北大学多元研究所）；「リチウムイオン電池用電極材料のソフトケミストリー合成と電極特性」熊谷直昭（岩手大学工学部）；「陰イオン性粘土（層状複水酸化物）を用いるエコナノ材料の開発」成田榮一（岩手大学工学部） ［一般講演］ 口頭発表20分（講演時間15分，質疑応答5分） 参加費 （前登録者）会員：6,000円，会員外：7,000円，学生：無料；（当日登録）会員：8,000円，会員外：9,000円；懇親会費：一般：6,000円，学生：3,000円 講演申込締切 2011年9月20日（火） 申込・連絡先 盛岡市上田4-3-5 岩手大学工学部社会環境工学科 中澤 廣 TEL 019-621-6455，FAX 019-621-6455，E-mail：nakazawa※iwate-u.ac.jp URL http://www.cande.iwate-u.ac.jp/recycle/49th_funtai/index.html 実用表面分析セミナー2011 主 催 日本表面科学会関西支部 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2011年11月18日（金）10：30～17：00 場 所 神戸大学 百年記念館（神大会館）六甲ホール（兵庫県神戸市灘区六甲台町1-1） 内 容 表面や界面の問題にこれから取り組もうとされている比較的初心者の方を対象にした表面科学基礎講座に加え，表面分析などの実務者やより進んだ表面分析を模索しておられる方を対象とした，本実用表面分析セミナーを，本年も開催致します．さらに広く多くの方に参加いただくよう，前年度と同様に参加聴講費を無料としております．本セミナーでは分析機器メーカーと分析会社の協力により，口頭発表とポスター展示を併設して，表面分析の応用面における情報交換の場を提供いたします．今回も，表面分析の解析技術の向上に役立つ最新の分析技術の紹介や，各種材料を分析する場合に特有のノウハウやヒントになる内容をたくさん盛り込んでおります．多数の皆様のご参加をお待ちしております． 参加費 参加：無料 テキスト：日本表面科学会会員および表面科学基礎講座参加者には無料配布，その他一般の方で希望される方には実費で頒布（2,000円，学生1,000円） 申込・連絡先 601-8510 京都市南区吉祥院宮の東町2 廣瀬 潤（堀場製作所 分析アプリケーションセンター） TEL 075-325-5035，FAX 075-315-4851，E-mail：jun.hirose※horiba.com URL http://www.sssj.org/Kansai/kansai_jitsuyou14.html 第38回 炭素材料学会年会 主 催 炭素材料学会 共 催 日本セラミックス協会ほか 日 時 2011年11月29日（火）～12月1日（木） 場 所 名古屋大学豊田講堂（名古屋大学東山キャンパス内）（愛知県名古屋市千種区仁座町） 内 容 口頭発表・ポスター発表 参加費（要旨集代込）（事前受付）炭素材料学会正会員・賛助会員・共催・協賛学協会会員7,000円，炭素材料学会学生会員3,000円，非会員14,000円，学生非会員6,000円，（当日受付）炭素材料学会正会員・賛助会員・共催・協賛学協会会員8,000円，炭素材料学会学生会員3,500円，非会員15,000円，学生非会員6,500円 申込・連絡先 169-0075 東京都新宿区高田馬場4-4-19 （株）国際文献印刷社内 炭素材料学会ヘルプデスク FAX 03-3368-2827，E-mail：tanso-desk※bunken.co.jp URL http://www.wdc-jp.biz/tanso/conf2011/index.html 第19回新粉末冶金入門講座 主 催 粉体粉末冶金協会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2011年11月30日（水）～12月1日（木）（11月30日10：00～17：00，12月1日9：30～16：30） 場 所 京都工芸繊維大学 総合研究棟 多目的室（京都市） 内 容 本講座では，粉末冶金の原料粉末から最終製品までの全般にわたって，基礎的事項を解説するとともに，新製品の紹介を行います．また，各種部品の設計に当たって，鋳造，鍛造法等の競合技術との比較をして頂くための基礎知識の習得にお役立て頂きたいと存じます．対象者は，粉末冶金を志す方々はもちろん，経験者ならびに各種の素形材に携わる研究者，技術者ならびに営業担当者，事務関係者までの幅広い範囲の方々に興味を持って頂けるものと存じております． プログラム概要 （第1日）1．粉末冶金用金属粉（福田金属箔粉工業）新見義朗，2．粉末成形の基礎（中小企業基盤整備機構）浅見淳一，3．粉末冶金の製造設備（ファインシンター）佐藤仁悦，4．硬質材料 （ダイジェット工業）阪上楠彦，（第2日）5．粉末焼結の基礎（ファインセラミックッセンター）松原秀彰，6．焼結機械部品と含油軸受（住友電工焼結合金）井上清隆，7．磁性材料（日立金属）尾田悦志，8．“最近のトピックス”─放電プラズマ焼結方（SPS）で成形した金属基複合材料─（大阪市立工業研究所）水内 潔 参加費 会員；30,000円，協賛団体会員；35,000円，非会員；45,000円 申込締切 2011年11月18日（金）（定員100名） 申込・連絡先 606-0805 京都市左京区下鴨森本町15 生産開発科学研究所内 粉体粉末冶金協会 総務課 井上 TEL 075-721-3650，FAX 075-721-3653，E-mail：info※jspm.or.jp 平成23年度九州支部秋季合同研究発表会 共 催 日本セラミックス協会九州支部・耐火物技術協会九州支部 日 時 2011年12月5日（月）10：00～17：00 場 所 九州大学箱崎キャンパス（812-8581 福岡市東区箱崎6-10-1，代表電話 092-642-2111） テーマ セラミックス関係全般についての研究内容を対象とし，特に限定しません． ※一般講演（口頭）に加え，1件の特別講演を予定しています． 参加費 一般2,000円，学生1,000円（ただし，発表者は参加費無料．） 申込締切 2011年9月29日（木） 申込要領 E-mailで，発表題名・氏名・所属・ 連絡先（郵便番号・住所・TEL・FAX・E-mail）を下記申込先までお知らせください． ※メール標題は「九州支部秋季合同研究発表会申込み」としてください． ※同一所属機関からのお申込みはなるべくまとめるようにしてください． 要旨原稿締切 2011年10月20日（木） A4サイズ2枚でご用意ください．（詳細はお申し込み後に連絡いたします．） 申込先 E-mail：cerakyu※cstf.kyushu-u.ac.jp 第25回ダイヤモンドシンポジウム 主 催 ニューダイヤモンドフォーラム 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2011年12月7日（水）～9日（金） 場 所 産業技術総合研究所 共用講堂（茨城県つくば市） 内 容 ダイヤモンドを始めとしたDLC，カーボンナノチューブ，フラーレン，BNC等の高機能炭素系材料全般にわたる物質創製，物性解析，特性機能，応用に係わるナノテクノロジー分野を包括する科学・技術研究の発表 参加費 （予約）会員（＊）8,000円，非会員16,000円，学生3,000円；（当日）会員（＊）10,000円，非会員20,000円，学生4,000円 ＊ニューダイヤモンドフォーラム会員 申込締切 2011年11月18日（金）（定員：300名程度） 申込・連絡先 169-8555 東京都新宿区大久保3-4-1 ニューダイヤモンドフォーラム事務局 東條雅子 TEL 090-8569-8926，FAX 050-3156-2920，E-mail：jimukyoku※jndf.org 第31回表面科学学術講演会 主 催 日本表面科学会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2011年12月15日（木）～17日（土） 場 所 タワーホール船堀（東京都江戸川区） 内 容 ＜表面科学＞1．表面物性，2．表面反応，3．表面構造作製技術，4．表面構造・表面物性評価技術，5．半導体，6．低次元・ナノ物質，7．ソフトマター，8．環境・エネルギー，9．その他 参加費 会員5,000円，協賛学会員7,000円，非会員8,000円，学生会員3,000円，学生非会員5,000円 講演申込締切 2011年9月6日（火） 申込・連絡先 113-0033 東京都文京区本郷2-40-13 本郷コーポレイション402 日本表面科学会事務局「第31回表面科学学術講演会係」 TEL 03-3812-0266，FAX 03-3812-2897，E-mail：taikai11※sssj.org 実用技術セミナー2011「半導体デバイスにおけるMEMSとTSV技術」 主 催 日本真空協会関西支部 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2011年12月16日（金）13：00～17：00 場 所 （株）島津製作所関西支社 マルチホール（530-0012 大阪市北区芝田1-1-4 阪急ターミナルビル14階） 内 容 センサやアクチュエータに代表されるMEMSデバイスの設計技術や三次元微細加工技術の進展により，半導体デバイスはさらなる高速・高機能化，小型・軽量化が進んでいます．また，デバイスを上下に接続する三次元実装技術は，実装面積の減少や配線距離の短縮による伝送特性の向上が期待されており，次世代の接続技術であるTSV（Through Si Via:Si貫通電極）の導入が一部のデバイスで始まっています．このセミナーでは，最新のMEMSデバイスやTSV技術の動向と個別技術について，第一線の研究者と開発に携わっている技術者に講演していただきます． 参加費 日本真空協会会員，学生1,000円，協賛学会員2,000円，その他3,000円 申込締切 2011年12月9日（金）（定員約60名） 申込・連絡先 665-8550 兵庫県宝塚市新明和町1-1 日本真空協会関西支部（新明和工業（株）技術統括本部）実用技術セミナー担当 丸中正雄 TEL 0798-56-5031，E-mail：marunaka.m※sa.shinmaywa.co.jp URL http://www.vacuum-jp.org/KANSAI/jituyou20111216.html 第10回材料の衝撃問題シンポジウム 主 催 日本材料学会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2011年12月22日（木）～23日（金） 場 所 法政大学理工学部（東京都小金井市梶野町） 内 容 本シンポジウムは衝撃部門委員会による企画であり，概ね3年毎に開催され，衝撃問題の分野では定期的に開催される我国唯一のシンポジウムです．前回，第9回シンポジウムは平成20年12月に開催されました．この分野におけるその後の研究・開発の新しい発展を展望すべく第10回のシンポジウムを開催したいと思います．前回より若手研究者の優秀な講演に対する賞（優秀講演賞，対象者：シンポジウム当日時40才未満の若手研究者，および学生，学生は応募すれば全て対象となります）を設けることになりました．下記の研究分野および関連分野に関心をお持ちの多数の研究者・技術者のご参加を期待しています． 参加費 会員（協賛学協会会員含む）10,000円，非会員15,000円，学生会員（協賛学協会会員含む）2,000円，学生非会員3,000円 申込締切 2011年9月16日（金） 申込・連絡先 321-3393 栃木県芳賀郡芳賀町下高根沢4630 （株）本田技術研究所 四輪R&Dセンター 第12技術開発室 第5ブロック 前 博行 E-mail：Hiroyuki_Mae※n.t.rd.honda.co.jp セラミックス基礎科学討論会第50回記念大会 主 催 日本セラミックス協会基礎科学部会 共 催 日本セラミックス協会ほか 日 時 2012年1月12日（木）～13日（金） 場 所 国際ファッションセンターホール 内 容 ○一般講演：セラミックス材料科学の基礎から応用まで．（セラミックスの解析・シミュレーション，環境・エネルギー材料，電子・電池材料，磁性・センサー材料，誘電材料，生体材料，光学材料，構造材料，ガラス材料，合成，成形，焼結，薄膜プロセスなど） ○招待講演：セラミックス基礎科学を牽引する海外の若手研究者による招待講演を予定． ○ポスターセッション：一般講演と同じ． 国内外の若手研究者（35才まで）の中で優秀な発表に対して表彰します． 発表形式 各セッション共に口頭発表13分，討論6分（交代時間1分）またはポスター発表． 講演申込方法 ホームページから以下の事項を入力の上，お申込み下さい．［1］講演題目，［2］発表者名（登壇者に○），［3］所属機関名，［4］申込者氏名，連絡先（住所，電話番号，ファックス番号，E-mailアドレス），［5］申込者が学生の場合は，指導教員の連絡先（住所，電話番号，ファックス番号，E-mailアドレス）［6］内容（100字程度），［7］キーワード（5つまで），［8］希望セッション（一般，特定），［9］発表言語（日本語または英語）［10］懇親会参加予定の有無 講演申込締切 2011年10月8日（金）正午 予稿集原稿締切 2011年11月30日（木）正午 作成要領はホームページに掲載予定 参加登録費 一般9,000円，学生5,000円（要旨集1部を含む） 懇親会 2011年1月12日（木）18：00頃より．参加費9,000円． 講演申込・問合先 152-8552 東京都目黒区大岡山2-12-1 東京工業大学大学院 理工学研究科 材料工学専攻 中島・松下研究室 TEL 03-5734-2524，FAX 03-5734-3355，E-mail：anakajim※ceram.titech.ac.jp URL http://www.rmat.ceram.titech.ac.jp/kiso50th/ Mate2012 第18回シンポジウム「エレクトロニクスにおけるマイクロ接合・実装技術」 主 催 溶接学会 マイクロ接合研究委員会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2012年1月31日（火）～2月1日（水） 場 所 パシフィコ横浜 会議センター（神奈川県横浜市西区みなとみらい1-1-1） 内 容 日本のエレクトロニクス産業は，この20年間，高機能化，高信頼化，小型化，低コスト化の技術開発に支えられた新たな電子デバイス・部品を組み込んだ電子システム創成の下，日本の高度成長を牽引してきました．今後も日本が世界を先導し続けるには，生産技術を科学的に探求することはもちろんのこと，既存の学問領域，設計・生産技術などの領域を越えて，エレクトロニクスを取巻く科学技術，経営・生産システム，価値システム，などの広い範囲を取り込んだグローバルなオプティマイゼーションとそれに基づくシステムインテグレーションが不可欠になってきています．本シンポジウムでは，これら生産技術に関する最新の研究・開発に関する研究者相互の情報交換の場をより広くかつ定期的に持ち，生産の科学と技術の進展を促すことを目的として企画開催されます． 参加費 主催・共催団体加入会社：20,000円，協賛学協会会員会社：30,000円，論文口頭発表者：15,000円，大学・国公立研究機関：15,000円，学生：5,000円，シニア（65歳以上）：10,000円，その他：40,000円 論文・ポスター発表申込締切 2011年9月5日（月） 参加申込締切 2012年1月23日（金） 申込・連絡先 http://www.toptour.co.jp/conv/3903/mate2012/ URL http://www.toptour.co.jp/conv/3903/mate2012/ The 22nd Meeting on Glasses for Photonics 主 催 日本セラミックス協会ガラス部会フォトニクス分科会 日 時 2012年2月7日（火）10：00～17：00（時間は予定） 場 所 東京工業大学 百年記念会館フェライト会議室 http://www.cent.titech.ac.jp/index.html（東京都目黒区大岡山2-12-1） ［交通］東急目黒線・東急大井町線「大岡山」駅下車，徒歩1分 主 題 フォトニクス・オプトエレクトロニクスに用いられるガラスの基礎，もしくは応用に関する研究発表ならびにレビュー 講演時間 20分 講演申込締切 2011年10月28日（金）必着 講演申込方法 （1）講演題目，（2）発表者氏名・所属（講演者に○印），（3）連絡先（氏名，住所，所属，電話，FAX，E-mailアドレス）を記入の上，下記E-mailアドレス宛にお申込ください． 講演予稿原稿 A4，2ページ 予稿原稿提出締切 2011年12月9日（金） 原稿フォームは講演申込者に別途送付予定． 参加登録費 会員5,000円，非会員8,000円，学生1,000円（当日会場にて申し受けます．） 懇親会費1,000円（当日会場にて申し受けます） 講演申込先 E-mail：photonics-csj※toyota-ti.ac.jp 問合先 468-8511 名古屋市天白区久2-12-1 豊田工業大学大学院工学研究科 極限材料専攻 鈴木健伸 TEL 052-809-1868，FAX 052-809-1869 第4回希土類のフォトルミネッセンス国際会議・4th International Workshop on Photoluminescence of Rare-Earths: Photonic Materials and Devices 主 催 希土類のフォトルミネッセンス国際Kyoto会議委員会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2012年3月28日（水）～30日（金） 場 所 京都大学芝欄会館（京都府京都市左京区吉田近衛町） 内 容 希土類材料のフォトルミネッセンス，新規蛍光体材料，レーザ材料，光学遷移の量子化学計算，構造解析，白色LED応用，長残光体，太陽電池応用など アブストラクト投稿締切 2011年12月1日(木） 参加申込締切 2012年1月20日（金）（早期割引適用）（定員150名） 申込・連絡先 606-8501 京都市左京区吉田二本松町京都大学大学院人間・環境学研究科 PRE12委員長 田部勢津久 TEL 075-753-6832，FAX 075-753-6694，E-mail：pre12※pre12.org 11th International Conference on Flow Processing in Composite Materials （FPCM-11） 主 催 FPCM-11実行委員会 協 賛 日本セラミックス協会 日 時 2012年7月9日～12日 場 所 The University of Auckland（Auckland, New Zealand） 申込締切 Abstract submission 2011年9月30日 Notification of acceptance 2012年1月20日 Submission of manuscripts 2012年4月2日 Early bird registration Monday 同上 申込・連絡先 京都工芸繊維大学 濱田泰以 TEL 075-724-7844，FAX 075-724-7844，E-mail：hhamada ※kit.ac.jp URL http://www.fpcm11.auckland.ac.nz 第19回国際質量分析会議 主 催 日本質量分析学会，日本学術会議 協 賛 日本化学会，日本薬学会，高分子学会などほか 日 時 2012年9月15日（土）～21日（金） 場 所 国立京都国際会館（京都府京都市左京区） 内 容 メインテーマ：「21世紀のグローバルな課題を解決する質量分析学」主要題目：気相化学（イオン化，解離），質量分離科学，粒子検出計測科学，応用研究（環境，メタボローム，プロテオーム，医療，薬剤），データベース構築とインフォマティックス 等 参加費 Regular Early Registration：35,000 JPY （December 1, 2011～July 10, 2012） Late Registration：45,000 JPY （July 11, 2012～August 20, 2012） On-site Registration：50,000 JPY 申込・連絡先 541-0047 大阪市中央区淡路町3-6-13 コングレビル内第19回国際質量分析会議 事務局 TEL 06-6229-2555，FAX 06-6229-2556，E-mail：imsc2012※congre.co.jp 10TH PACIFIC RIM CONFERENCE ON CERAMIC AND GLASS TECHNOLOGY（第10回環太平洋セラミックス及びガラス国際会議） 主 催 The American Ceramic Society 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2013年6月2日（日）～7日（金） 場 所 Hotel Del Coronado（Coronado, San Diego, USA） 内 容 The conference explores the latest issues facing the ceramic and glass technology community and offers participants ; Presentations and information exchange on the latest emerging technologies ; Global dialogue with leading PacRim experts on where the field is heading on an international scale ; An opportunity to share knowledge and to make new contacts in the field 申込・連絡先 Dr. H. T. LinOak Ridge National Laboratory TEL+1 （865）576-8857，E-mail：linh※ornl.gov 徳山科学技術振興財団 助成対象 新材料分野（無機材料，有機材料，高分子材料，複合材料，その他）およびこれに関連する科学技術分野の国内で開催される国際シンポジウムで当財団の助成事業目的にふさわしいもの．対象とする会議の規模としては約100人規模から数百人規模の会議．選考のうえ開催費用の一部を助成する． 助成額 助成件数：10件まで 助成総額：150万円 助成対象期間 2012年5月～2013年4月開催の国際シンポジウム 応募方法 申請書はHPから入手して下さい．http://www.tokuyama.co.jp/zaidan/ 募集期間 2011年8月1日（月）～9月30日（金） 問合先 105-8429 東京都港区西新橋1-4-5 トクヤマビル （公財）徳山科学技術振興財団 TEL 03-3597-5072，FAX 03-3597-5009，E-mail：zaidan※tokuyama.co.jp 平成24年度笹川科学研究助成 募集期間 2011年10月1日（土）～14日（金）必着 研究計画 単年度（平成24年4月1日から平成25年2月10日まで）内に達成し成果をとりまとめられるもの． 助成額 学術研究部門100万円／件，実践研究部門50万円／件を限度とし，研究の実施に直接必要な経費を対象． 学術研究部門 助成対象 〔一般科学研究〕人文・社会科学，自然科学（医学を除く）に関する研究，［海洋・船舶科学研究］「海洋学および海洋関連科学」ならびに「船舶および船舶関連科学」の研究で，その成果が海洋・船舶関係に直結する研究（人文・社会科学を含む）． 募集対象者〔一般科学研究〕大学院生あるいは所属機関等で研究活動に従事する（非常勤）35歳以下の者，［海洋・船舶科学研究］同（常勤・非常勤は問わず）． 実践研究部門 助成対象 教育・学習・自立支援等を行うさまざまな組織・団体（NPOを含む）に所属する者またはグループが，その実践の場で抱える諸問題の解決のために行う研究． 募集対象者 専門的立場にある者，あるいは問題解決に取り組んでいる当事者など． 問合先 107-0052 東京都港区赤坂1-2-2 日本財団ビル5階 日本科学協会 笹川科学研究助成係 TEL 03-6229-5365，FAX 03-6229-5369，E-mail：ssrg-jss※silver.ocn.ne.jp 第6回（平成23年度）岡崎清賞 受賞対象分野 電子セラミックスを中心とする電子材料分野において，研究・開発・生産に特に優れた成果をなしえた個人，またはグル－プを表彰． 受賞対象者 （1）電子セラミックス分野の研究，技術開発，製造・生産に優れた業績を上げた個人，またはグル－プ．グル－プは原則として5名以内．（2）年齢制限はなし．（3）過去のあらゆる賞の受賞の有無は問わない． 顕 彰 数件以内，副賞を添えて顕彰する． 募集期間 2011年8月1日（月）～10月30日（日）（必着） 推薦書請求・提出先 601-8011 京都市南区東九条南山王町36 （株）ティー・アイ・シィー編集部内 フルラス・岡崎記念会事務局 TEL 075-693-1533，FAX 075-693-1534，E-mail：Fulrath※tic-mi.com 第44回市村産業賞 本表彰は科学技術の進歩，産業の発展，文化の向上，その他国民の福祉・安全に関し，科学技術上貢献し，優秀な国産技術の開発に功績のあった技術開発者に対して行います． 対象技術 （1）独創的・画期的で世界的に見て高い水準にあるもの．（2）その技術の実用化で新たな産業分野の創成や市場の拡大に効果が顕著なもの．（3）産業・社会の発展に先導的な役割を果たし波及効果が大きく期待できるもの．ただし，すでに顕著な賞を受賞しているものは対象外とします． 表彰の対象者 （1）上記対象技術の開発に中核としてかかわり，功績のあった技術開発者（3名以内）．（2）大学および公的研究機関関係者は産業界の関係者と連携して功績のあった技術開発者．（3）市村産業賞本賞の場合は企業代表者とともに表彰します． 賞の種類・内容 市村学術賞 本賞（原則1件），賞金（2,000万円），功績賞（原則2件），賞金（500万円），功績賞記念牌，貢献賞（原則5件），賞金（300万円），貢献賞記念牌 応募受付期間 2011年11月1日（火）～20日（日）（締切日消印有効） 応募先 143-0021 東京都大田区北馬込1-26-10 新技術開発財団 TEL 03-3775-2021，FAX 03-3775-2020，E-mail：zaidan-mado※sgkz.or.jp
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