ｉｎ−ｓｉｔｕＣＶＤ法により得られた(Fe,Cr)_x Si_y結晶

写真の説明：
ＳＵＳ４１０（粉末）＋Ｓｉ_２Ｃｌ _６＋Ｈ_２系から１１００℃、 ３０分で、石英ボード内壁上に成長した新規化合物、(Fe,Cr)_x Si_yの結晶である。たれ下がった細い花茎の 先端に大きな五弁の花が咲いたようである。

装置、撮影条件等：
ＥＭＡＸ−８０００Ｓ、２５ｋＶ

出品者所属・氏名：
岐阜大工　元島栖二、伊藤千鶴

撮影者所属・氏名：
岐阜大工　元島栖二

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