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日本技術士会化学部会5月度講演会 主 催 日本技術士会化学部会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2011年5月26日（木）13：30〜17：00 場 所 葺手第2ビル5階 日本技術士会会議室（東京都港区虎ノ門4-1-20 田中山ビル隣） 内 容 講演1「理化学研究所のミッション」（仮題）（理化学研究所和光研究所長）小川智也，講演2「化学部門技術士として〜自分らしさを基にしたビジネスモデル〜」（仮題）（化学部門技術士）丹生光雄 参加費 日本技術士会，日本セラミックス協会会費1,000円（技術士補およびJABEE認定コース修了者も会員並み），一般2,000円 申込締切 2011年5月19日（木） 申込・連絡先 319-1416 茨城県日立市田尻町1-21-7 伊東技術士事務所 伊東亮一 TEL/FAX 0294-42-7645，E-mail：rito66642※ybb.ne.jp URL https://www.engineer.or.jp/ippan/dmsw0211.php 第348回講習会「精密加工におけるレアアース・レアメタル代替とリサイクル技術」 主 催 精密工学会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2011年6月1日（水）9：55〜16：40 場 所 東京電機大学 神田キャンパス11号館17階1702号室（カシオホール）（東京都千代田区） 内 容 レアアース，レアメタルはさまざまな特性により，精密加工には欠かせない材料となり，またIT，自動車，環境・エネルギーなど幅広い産業分野で利用され，わが国の産業競争力を支えている．一方，レアアース，レアメタルの資源をほとんど持たない日本にとって，レアアース，レアメタルの資源確保，リサイクル，使用量低減，代替材料の開発などが急務となっている．そこで，本講習会は，精密加工に重点を置き，各分野の専門家を招いて，レアアース，レアメタルの応用，リサイクル，代替の最先端および今後の展望について詳しく解説する． 参加費 会員（賛助会員および協賛団体会員を含む）20,000円，非会員30,000円（会員・非会員とも講習会テキスト代含む）学生会員 無料（ただし，講習会テキストご入用の場合は，4,000円をご負担ください）学生非会員6,000円（講習会テキスト代含む） 申込締切 2011年5月25日（水） 申込・連絡先 102-0073 東京都千代田区九段北1-5-9 九段誠和ビル2F 精密工学会 事務局 講習会係 TEL 03-5226-5191，FAX 03-5226-5192，E-mail：jspe_koushu※jspe.or.jp URL http://www.jspe.or.jp/event/koshukai/seminar.html 耐火物 検査技術研修2011 主 催 耐火物技術協会中国四国支部 共 催 岡山セラミックス技術振興財団，日本セラミックス協会中国四国支部 日 時 2011年6月20日（月）〜24日（金） 場 所 岡山セラミックスセンター会議室，セミナー室，実験室（岡山県備前市西片上1406-18） 内 容 耐火物などセラミックス産業の研究者，技術者を対象として岡山セラミックスセンターに設置されている機器を利用した検査技術研修（講義＋実習）を設置メーカー各社の協力により開催 申込締切 2011年6月13日（月） 申込・連絡先 705-0021 岡山県備前市西片上1406-18 耐火物技術協会中国四国支部 TEL 0869-64-0505，FAX 0294-42-7645，E-mail：mizota※optic.or.jp 第51回表面科学基礎講座「表面・界面分析の基礎と応用」 主 催 日本表面科学会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2011年6月28日（火）〜30日（木） （28日9：20〜17：30，29日9：00〜17：30，30日9：00〜17：00） 場 所 東京理科大学1号館17階会議室（東京都新宿区神楽坂） 内 容 「表面・界面分析の基礎と応用」について，初心者，若手研究者，技術者を対象として，入門的にかつ具体例を解説する事を目的として講座を開設している 参加費 協賛学協会会員40,000円，非会員45,000円，学生10,000円 申込締切 2011年6月14日（火）（定員150名） 申込・連絡先 113-0033 東京都文京区本郷2-40-13 本郷コーポレイション402 日本表面科学会 事務局 TEL 03-3812-0266，FAX 03-3812-2897，E-mail：shomu※sssj.org 第42回日本セラミックス協会 主 催 日本セラミックス協会東海支部 東海若手セラミスト懇話会 共 催 日本セラミックス協会基礎科学部会，日本化学会 日 時 2011年6月30日（木）13：00〜7月1日（金）13：00 場 所 三河湾／蒲郡温泉 ホテル竹島（443-0031 愛知県蒲郡市竹島海岸 TEL 0533-69-1256（代）） プログラム（予定） 6月30日 13：00 受付開始 13：30 招待講演「微粒子のナノアセンブリによる複合材料の微構造制御」（豊橋技術科学大学）武藤浩行 15：10 招待講演「コロイド分散系の多様な外部刺激応答レオロジーとその応用」（大阪大学）阿部浩也 20：30 テーブルディスカッション 7月1日 9：00 国際セッション「Mesoporous Bioactive Ceramics for Tissue Regeneration」（Korea Institute of Materials Science）Hui-Suk Yun 10：10 学位論文紹介 11：10 海外報告 11：40 表彰・閉会 セミナー受講者および講演募集 セミナー受講者およびテーブルディスカッションの講演者を募集します．テーブルディスカッションでは，一般研究発表（一般・学生）と企業研究紹介を募集します．研究発表の内容は既発表でも可．決められたテーブルを自由に使いプレゼンテーションして頂きます．PCの使用，展示品等，大歓迎です．企業研究紹介では，一般研究発表の2倍のスペースを使っていただけます．予稿集原稿作成要領は別途参加者に通知いたしますが，一般研究の予稿原稿はA4サイズ1枚分，企業研究紹介の場合はA4サイズ2枚分の予稿の提出をお願いする予定です． 予稿集原稿締切 2011年5月27日（金）必着 参加申込方法 参加申込は http://www.atyc.org/2011summer/index.htmlから行って下さい． 参加申込締切 2011年5月13日（金）（定員120名） 参加費 一般20,000円，学生10,000円（当日受付） 問合先 442-8505 愛知県豊川市穂ノ原3-1 新東工業（株） 青木知裕 TEL 0533-84-1137，FAX 0533-85-0073，E-mail：t-aoki※sinto.co.jp ナノファイバー学会第2回年次大会 主 催 ナノファイバー学会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2011年7月1日（金）10：00〜17：00 場 所 京都大学桂キャンパスBクラスター 事務棟インテックスセンター内 桂ホール（京都府京都市西京区） 内 容 ナノファイバー（ナノサイズファイバー，ナノ構造ファイバー）やナノ粒子，ナノ空間，ナノコンポジット，および，ナノ構造体についての講演や研究発表の場を設け，関連学術の発展と技術の向上に寄与することを目的とする． 参加費・申込締切 学会ホームページにてお知らせいたします． 申込・連絡先 152-8550 東京都目黒区大岡山2-12-1-I6-29 東京工業大学 ナノファイバー学会事務局 田邉耕次 TEL 03-5734-2059，FAX 03-5734-2062，E-mail：kotanabe※jim.titech.ac.jp URL SURTECH2011 主 催 表面技術協会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2011年7月13日（水）〜15日（金） 10：00〜17：00 場 所 東京ビッグサイト 東ホール（東京都江東区） 内 容 表面処理技術にかかわる薬品・機器・装置・プロセスの展示および技術講演等を開催し産・学・官の交流を促進する． 参加費 1,000円（事前登録者・招待状持参者は無料） 申込締切 2011年7月15日（金） 申込・連絡先 103-0024 東京都中央区日本橋小舟町3-4 SURTECH2011 事務局 紺野利一郎・松岡正樹 TEL 03-3663-0456，FAX 03-3663-6009，E-mail：info※surtech.or.jp 第63回コロイドおよび界面化学討論会 主 催 日本化学会 コロイドおよび界面化学部会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2011年9月7日（水）〜9日（金） 場 所 京都大学 吉田キャンパス 本部構内（京都府京都市左京区） 内 容 討論主題 ナノを越えて：メソ領域のサイエンス化学者になじみが深い「ナノ領域（1〜10nm）」と日常経験の世界「1マイクロメーター程度以上のマクロ領域」の間にはメゾ領域という，大きな未踏の大地が広がっている．しかし，メゾ領域にも，科学技術のさまざまな分野でめざましい成果が得られ始めている．多くの調節性のある細胞機能は，個々の分子の単なる衝突によって果たされるのではなく，数個から数十個の生体高分子が膜構造などと共存して，絶え間ない分子運動と揺らぎの中にありながら，ほぼ間違いなくシグナル伝達などの複雑な反応と機能をやり遂げている．また高分子自己組織体，多孔性物質の協同的構造変化や，分子やイオンの複合体であるコロイド・ミセル・分子膜などはメゾ領域の科学の好対象である．本討論会では，化学・物理学・材料科学・生物科学の全ての分野で重要な課題である，メゾ領域の揺らぎの中での多様な現象，構造体，機能の普遍的原理の理解にむけて，多岐の分野にわたり，界面化学の基礎・応用の立場から討論することをめざす． 参加費 参加登録費予約（8月6日まで）：コロイドおよび界面化学部会会員8,000円，協賛学会員11,000円，一般14,000円，学生（会員）3,000円，学生（非会員）5,000円;当日（8月7日以降）：1,000円〜3,000円増 懇親会 9月8日（木）夜，ホテルグランヴィア京都懇親会費 予約（8月6日まで）：一般8,000円，同伴者3,000円，学生4,000円，当日（8月7日以降）：各1,000円増 申込・連絡先 101-8307 東京都千代田区神田駿河台1-5 第63回コロイドおよび界面化学討論会・事務局 TEL 03-3292-6163，FAX 03-3292-6318，E-mail：dcsc※chemistry.or.jp URL http://colloid.csj.jp/div_meeting/63th/ 2011 International Conference on Flexible and Printed Electronics（ICFPE2011） 主 催 ICFPE Committee 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2011年9月22日（木）〜23日（金） 場 所 東京大学 本郷キャンパス（東京都文京区本郷） 内 容 フレキシブル・プリンティッドエレクトロニクス（FPE）は新しいデバイスを創製していく上で注目されている有用な技術です．フレキシブル基板上に各種機能素子を集積化することができ低コスト化とともに環境負荷の低減に対しても有益であり20年後には40兆円規模の市場形成が予測されております．本国際会議（ICFPE）は2009年に韓国で第1回目が開催され2010年（台湾）開催後今回で3回目を迎えます．フレキシブルという機械的柔軟性とプリント技術から生み出されるフレキシブル・プリンティッドエレクトロニクスに関するアプリケーション（トランジスタフォトニックデバイス太陽電池2次電池RFIDセンサ等）について科学技術ビジネスという観点で融合を図ることを会議のメインテーマとしています．セラミック研究者・技術者の参加を推進する目的で本会議の中に“Low temperature processing of ceramic-based thin film”を設けています．ご興味のある方の積極的な参加をお願い致します． 参加費 一般 38,000円，学生 12,000円 申込締切 アブストラクト締切：2011年5月15日（日） 申込・連絡先 243-0197 神奈川県厚木市森の里若宮10-1 （株）富士通研究所・今中佳彦 TEL046-250-8389，FAX046-250-8844，E-mail：imanaka※jp.fujitsu.com 第31回エレクトロセラミックス研究討論会 エレクトロセラミックス研究討論会は，新しいエレクトロセラミックス材料，デバイス，プロセス技術などに関する研究成果を，アジアから世界へ向けて発信する討論会です．本年度も引き続き，一般発表および5つの特定セッションを予定しています． 発表方法は口頭，またはポスターから選んで頂きますが，口頭での発表・討論時間は1件当たり30分で，質疑・応答にも充分な時間を割くことができます．なお，口頭，ポスターを問わず，優れた発表を行った若手研究者および学生（いずれも2011年10月28日時点で40歳未満の者）を表彰いたします（「エレクトロセラミックス研究奨励賞」）．さらに，本討論会における講演のプロシーディングスは厳正なるピア・レビューを経て，“Key Engineering Materials”誌（TTP社発行）の一冊（標題：Electroceramics in Japan）として，来年6月頃に発刊の予定です． 主 催 日本セラミックス協会電子材料部会 協 賛（予定） 日本セラミックス協会基礎科学部会，応用物理学会，電気学会，電気化学会，電子情報通信学会，日本化学会，日本材料学会，日本材料科学会，粉体粉末冶金協会，日本ゾル−ゲル学会 日 時 2011年10月28日（金）〜29日（土） 各日9：00〜18：00（予定） 場 所 東京大学駒場キャンパス（東京都目黒区駒場4-6-1） テーマ 「エレクトロセラミックスの基礎から応用まで」 一般発表：電子セラミックス全般（合成プロセス，物性，シミュレーション・評価法など） 特定セッション： 1．「誘電体セラミックス」（誘電・強誘電・圧電性単結晶・バルクセラミックスのプロセスと応用） 2．「環境・エネルギーセラミックス」（センサ，触媒，各種電池，エネルギー関連セラミックス） 3．「薄膜の物性・プロセス」（電子セラミックス薄膜全般に関する基礎と応用） 4．「高温電子セラミックス」（耐熱性電子デバイスやモジュールのために高温で電子機能を発現するセラミックス） 5．「ナノクリスタルの物性・プロセス」（ナノセラミックスに関する作製，ハンドリング，新規物性，キャラクタリゼーション技術，構造制御など） 講演募集件数 口頭発表約50件，その他はポスター発表 発表方法 口頭発表1件30分，またはポスター発表（約2時間掲示）（発表言語：英語または日本語） 英文プロシーディングス 1件あたりA4用紙4ページ（発表者には，英文プロシーディングスを提出していただきますが，その詳細については申込連絡者にご通知致します．） 発表資格：特に設けておりません．どなたでもご発表いただけます． 講演申込方法 下記の項目を本文に明記したE-mail（件名は講演者の氏名）を下記アドレス宛にお送りください．項目毎に必ず改行してください．また，複数件申し込む場合は，1件ごと別々に送信してください． (1)講演題目，(2)講演題目の英文表記，(3)発表者氏名（講演者の前に○印），(4)氏名の英文表記，(5)所属先，(6)所属の英文表記，(7)250字程度の概要（日本語または英語），(8)発表希望セッション名（一般あるいは誘電，高温，環境・エネ，薄膜，ナノ），(9)発表方法（口頭，ポスター，またはどちらでも可から選択），(10)研究奨励賞への応募（する，しない），応募の場合には講演者の生年月日および身分（社会人，学生），過去に研究奨励賞を受賞している場合は，受賞年度と講演題目，(11)申込連絡者の氏名，(12)住所，(13)電話番号，(14)FAX番号，(15)E-mailアドレス ＊申込件数によっては，発表方法（口頭，ポスター）やセッションを変更させて頂くことがあります． 事前申込による参加費（当日配布の要旨集代を含む） （A）日本セラミックス協会個人会員，各協賛学協会個人会員，日本セラミックス協会特別会員に所属の社員：8,000円， （B）日本セラミックス協会学生会員，各協賛学協会学生会員，学生非会員：3,000円， （C）非会員，協賛学協会非会員：10,000円 当日受付による参加費（当日配布の要旨集代を含む）： （A）日本セラミックス協会個人会員，各協賛学協会個人会員，日本セラミックス協会特別会員に所属の社員：10,000円 （B）日本セラミックス協会学生会員，各協賛学協会学生会員，学生非会員：3,000円， （C）非会員，協賛学協会非会員：12,000円 ＊英文プロシーディングス代（討論会当日予約購入）8,000円／冊（発表者は必ず購入していただきます） 講演申込締切 2011年7月22日（金）17：00 予稿集原稿締切 2011年9月13日（火）17：00（電子投稿の場合），必着（郵送の場合）（A4用紙1ページ：詳細は申込連絡者にお知らせします） 英文プロシーディングス締切 電子ファイル（pdfファイル）：2011年10月27日（木）12：00（提出先は申込連絡者に連絡します．），印刷原稿：研究討論会初日2011年10月28日（金）12：00会場受付（A4用紙4ページ，提出票，各1部），研究奨励賞に応募する者は英文プロシーディングス電子ファイル原稿を上記の提出締切日時（10月27日12：00）までに必ず提出すること． 申込先 e-touron11※cersj.org（このメールアドレス以外は受け付けませんのでご注意下さい） 問合先 日本セラミックス協会電子材料部会 TEL 03-3362-5231，E-mail：e-touron11※cersj.org 第23回医用セラミックスに関する国際会議 主 催 International Society for Ceramics in Medicine 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2011年11月6日〜9日 場 所 Ceylan InterContinental Istanbul Hotel（トルコ イスタンブール） 内 容 医用セラミックス研究に関わる工学系研究者と医学系研究者が一堂に会し，次世代の医用セラミックス開発に向けた討議を行います． 参加費 8月12日までの事前登録価格400ユーロ（International Society for Ceramics in Medicine会員）550ユーロ（非会員）250ユーロ（学生） 申込・連絡先 Sehit Muhtar Cad. No:17 Ozerk Is Hani Kat:2/3 Taksim 34437 Istanbul TURKEY Bioceramics23 SecreteriatVISITUR Travel & Tourism Inc. TEL +90-212-254-32-30，FAX +90-212-254-27-83，E-mail：info※bioceramics23.com Plasma Conference 2011（PLASMA2011） 主 催 プラズマ・核融合学会（幹事学会），応用物理学会，日本物理学会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2011年11月22日（火）〜25日（金） 場 所 石川県立音楽堂（石川県金沢市） 内 容 各学協会等に分散して展開されているプラズマ科学の研究活動を総合的に把握し，21世紀におけるプラズマ科学の新たな発展を図るとともに，各学協会等におけるプラズマ科学の研究活動を推進することを目的として2000年に，プラズマ関連学協会組織（略称：プラズマ科学連合）が設立され活動を始めた．今回，国内のプラズマ関連学会のジョイントにより日本のプラズマコミュニティを発展させることを目的として，Plasma Conference 2011を企画した．会議は，招待講演（基調講演，テーマ招待講演），シンポジウム，一般講演（口頭発表，ポスター発表）で構成する． 参加費 事前登録：会員（外国人，協賛学協会会員含む）8,000円，学生3,000円，非会員16,000円会議当日登録：会員（外国人，協賛学協会会員含む）10,000円，学生4,000円，非会員20,000円 申込締切 シンポジウム応募締切：2011年5月9日（月），招待講演応募締切：2011年7月8日（金），一般講演応募締切：2011年8月5日（金） 申込・連絡先 問合先：プラズマ科学連合事務局 プラズマ・核融合学会事務局内 464-0075名古屋市千種区内山3-1-1-4F 北澤由美子 TEL 052-735-3185，FAX 052-735-3485，E-mail：plasma※jspf.or.jp URL http://www.jspf.or.jp/PLASMA2011/ 2012年粉末冶金国際会議 主 催 日本粉末冶金工業会，粉体粉末冶金協会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2012年10月14日（日）〜18日（木） 場 所 パシフィコ横浜（国際会議場・展示ホール）（神奈川県横浜市） 内 容 粉末冶金国際会議は，アジア−北米−欧州の順で隔年開催されています．大学，研究機関，企業の研究者による最新の開発・研究成果の発表と展示会で構成され，毎回，世界の40を超える国から1,000名近い参加者があります．原料，製造設備，製品，関連技術等を含めた粉末冶金分野の世界的な技術交流と人的交流に大きく貢献すると同時に，世界に向け，粉末冶金の最新情報，可能性を発信する，重要な会議となっています． 参加費 一般 160,000円（予定） 申込締切 2012年9月頃 定員なし 申込・連絡先 101-8449 東京都千代田区猿楽町1-15-18 ICSコンベンションデザイン内2012年粉末冶金国際会議 運営事務局 TEL 03-3219-3541，FAX 03-3219-3577，E-mail：pm2012※ics-inc.co.jp 第8回（平成23年度）日本学術振興会賞 研究者養成事業の一環として，創造性に富み優れた研究能力を有する若手研究者を顕彰し，その研究意欲を高め，研究の発展を支援することにより，我が国の学術研究の水準を世界のトップレベルにおいて発展させることを目的とする． 対象者 国内外の学術誌等に公表された論文，著書，その他の研究業績により学術上特に優れた成果を上げたと認められる者のうち，平成23年4月1日現在以下の条件を満たす者 1）45歳未満であること，2）博士の学位を取得していること（博士の学位を取得した者と同等以上の学術研究能力を有する者を含む），3）外国人の場合は推薦時点において我が国で5年以上研究者として大学等研究機関に所属しており，今後も継続して我が国で研究活動を予定していること（なお，日本国籍を有する者の場合はこの条件を問わない．） 総受賞数 審査会において25件程度選考 推薦受付 2011年5月18日（水）〜20日（金） ※平成23年（2011年）東北地方太平洋沖地震当の被災により，上記受付期間に間に合わない場合は，この期間以前に，個別にご相談ください． 提出先 102-8472 東京都千代田区1-8 日本学術振興会 総務部 研究者養成課「日本学術振興会賞」担当 URL http://www.jsps.go.jp/jsps-prize/ 泉科学技術振興財団 1．研究助成 高度機能性材料およびこれに関連する科学技術の基礎研究分野における真に独自の発想に基づく新しい研究に対する助成 助成金額 1件100万円以下，15件以内． 2．研究会リーダー助成 国内で平成24年1月〜12月に開催される機能性材料科学分野における国際的ワークショップ，フォーラム等グループ研究会のリーダーに対する助成） 助成金額 1件50万円以下，3件以内． 3．応募方法 財団所定の申請書に必要事項を記入の上，所属機関を経由して申請． 4．募集期間 受付中〜平成23年6月15日（水）（必着）．応募資格，その他詳細は下記HPをご参照ください．募集要項，申請書がダウンロードできます． 連絡先 531-0072 大阪市北区豊崎3-10-2 I&F梅田1004 泉科学技術振興財団 TEL 06-6373-1811，FAX 06-6292-0891，E-mail：info※izumi-zaidan.jp URL http://www.izumi-zaidan.jp/ 第2回（平成23年度）日本学術振興会 育志賞 社会的に厳しい経済環境の中で，勉学や研究に励んでいる若手研究者を支援・奨励するための事業の資として，平成21年11月に天皇陛下即位20年に当たり御下賜金を賜り，お気持ちを受けて，将来，我が国の学術研究の発展に寄与することが期待される優秀な大学院博士課程学生を顕彰することを目的とする． 対象者 平成23年4月1日現在34歳未満であり，次の(1)または(2)に該当する者で，同5月1日において我が国の大学院博士後期課程（医学，歯学または獣医学を履修する4年制の博士課程）に在学している下記のいずれかの条件を満たす者(1)大学院における学業成績が優秀であり，豊かな人間性を備え，意欲的かつ主体的に勉学および研究活動に取り組んでいる大学院生であって，当該大学長から推薦された者，(2)(1)に相当する大学院生であるとして所属する学会長から推薦された者また，海外からの留学生で大学院博士後期課程に在学する者についても推薦することができる．※推薦に当たっては，論文等の業績のみにとらわれず，将来，我が国の学術研究の発展に寄与することが期待される優秀な者を推薦願う． 総受賞数 審査会において16件程度選考 推薦受付 2011年6月15日〜17日 ※平成23年（2011年）東北地方太平洋沖地震当の被災により，上記受付期間に間に合わない場合は，この期間以前に，個別にご相談ください． 提出先 102-8472 東京都千代田区1-8 日本学術振興会 総務部 研究者養成課「日本学術振興会 育志賞」担当 URL http://www.jsps.go.jp/j-ikushi-prize/index.html 2011年度（株）KRI 研究公募 エネルギー・環境技術，材料技術，分析評価・計測技術の各分野で10年先の実用化技術を睨み，誰もやっていない発想やアイデアを基にした原理検証やフィジビリティスタディを行い，科学技術や産業界の発展に寄与することを目的とし，次のとおり公募します． 募集対象分野 （1）エネルギーの変換・貯蔵技術，環境関連技術：エネルギー資源の持続的有効利用技術（エネルギー変換技術，エネルギー貯蔵技術，バイオマス利用）や環境負荷・リスクの低減に貢献する技術（環境浄化，低環境負荷型製造プロセス）に関する基礎研究． （2）材料技術：高分子材料や無機材料，セラミックス，金属，天然物，生体材料あるいはこれらを複合する材料系とその作製プロセスや新規物性の発現，理論構築，計算化学などに関する基礎研究． （3）分析・評価技術：ナノレベルでの先端的分析評価技術や，品質管理のスピードアップやコスト削減に役立つ評価，病気予見・診断システム，全く新しいセンサー・分析計測技術に関しての基礎研究．新しい測定原理の検証，試作品の作製，分析データの取得なども含む． 要 件 （1）自ら計画・提案し，自律的に実行できるテーマ，（2）研究終了後に，KRIと共同で応用研究を推進することに同意し協力できるテーマ 研究期間 2011年9月〜2012年7月 応募資格 大学や研究機関に所属する新進気鋭の研究者 委託金額 1件あたり 200万円を上限 募集期間 受付中〜2011年6月17日（金）必着 応募方法 申請書（HPよりダウンロード）をE-mailと郵送で提出 問合・送付先 応募についての詳細はhttp://www.kri-inc.jp/をご覧ください． 600-8813 京都市下京区中堂寺南町134 （株）KRI 経営企画部 東野有花 TEL 075-315-9242，FAX 075-322-6820，E-mail：koubo2011※kri-inc.jp キヤノン財団第3回（2011年）研究助成 1.研究助成プログラム「産業基盤の創生」 情報・通信，エレクトロニクス，機械・精密，オプティクス・フォトニクス，応用化学，応用物理，ナノテクノロジー・材料などの既存分野，医工連携などの融合分野，新興分野における挑戦的研究に助成． 助成金 1件あたり助成期間中の研究費2,000万円以下．新規採択総額約2億円． 助成期間 1年または2年間． 2.研究助成プログラム「理想の追求」 未知の部分の多い『海』に関する研究に対する総合的な分野融合型の研究プロジェクトに助成． 助成金 1件あたり5,000万円以下．新規採択総額約1億円． 助成期間 原則3年間． 3.応募資格 国内の大学および大学院，（付属機関を含む），大学共同利用機関，高等専門学校，その他公的研究機関等に勤務し，当該機関で実質的に研究できる方です． 4.応募期間 1.「産業基盤の創生」：2011年6月1日（水）〜6月30日（木），2.「理想の追求」：2011年6月1日（水）〜7月15日（金）． 5.詳細情報 下記の当財団ホームページをご覧下さい．http://www.canon-foundation.jp 2012年〜2013年開催藤原セミナー募集 科学技術の振興に寄与することを目的として，2012年〜2013年の間に「藤原セミナー」の開催を希望する研究者から，下記募集要項に基づいて申請を受け付けます．選考を行い，採択されたものに対してセミナー開催に必要な経費を援助いたします． 対象分野 自然科学の全分野 応募資格 我が国の大学等学術研究機関に所属する常勤の研究者 開催件数 2件以内 開催費用援助額 1件につき12,000千円 以内（総額24,000千円 以内） 助成期間 原則3年間． セミナーの要件 （1）国際的にも学問的水準の高いものとし，テーマはなるべく基礎的なもので，関連分野を含めた発展に寄与するものであること．ただし二国間会議，定期的に行われる国際会議，およびその準備会議，サテライト会議は対象としない．（2）参加者は，50〜100人程度とし，外国人研究者が参加社の5分の1程度含まれること．なお，国内外の優れた研究実績を有する若い専門研究者の参加を奨励する．（3）開催対象機関は，2012年1月1日〜2013年12月31日．（4）開催地は日本であること．（5）開催日数は2〜4日以内とする．（6）参加者が，開催期間中，起居を共にすることを原則とし，計画された講演・討論のほか，個人的な討論など自由な雰囲気で学問的な交流と人間的接触を深め，永続する協力の基盤を作るようなものであること． 申請受付期間 受付中〜7月31日（日）（必着） 申請書提出・申込先 104-0061 東京都中央区銀座3-7-12 藤原科学財団 TEL 03-3561-7736，FAX 03-3561-7860 |