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第35回アモルファスセミナー 主 催 第35回アモルファスセミナー実行委員会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2008年10月16日（木）～17日（金） 場 所 京都ガーデンパレス（京都市上京区烏丸通下長者町上ル龍前町605） 内 容 アモルファス・ナノ物質構造の基礎物性・評価，プロセス技術，デバイス応用などについてのチュートリアル講演とトピックス 参加費 一般25,000円，協賛学協会員20,000円，学生10,000円（懇親会費込み） 申込・連絡先 599-8531 大阪府堺市中区学園町1-1 大阪府立大学大学院工学研究科電子・数物系専攻 TEL 072-254-9266，FAX 072-254-9908，E-mail：naito※pe.osakafu-u.ac.jp URL http://www.pe.osakafu-u.ac.jp/pe3/seminar/A_seminar_35.html 日本セラミックス協会関西支部 主 催 日本セラミックス協会関西支部 協 賛 日本化学会，応用物理学会 日 時 2008年10月17日（金）13:30～18日（土）12:00(1泊2日) 場 所 松下電器産業健康保険組合・パナヒルズ大阪（大阪府吹田市青葉丘南10-1）大阪モノレール「宇野辺」徒歩7分，JR「茨木」タクシー5～10分，TEL 06-6877-0111 参加人数 約60名 テーマ ｢機能性セラミックスの最新技術～セラミックスを極め，操る～」 開催趣旨 関西支部では若手の勉強と交流・情報交換のため，毎年秋に1泊2日のフォーラムを開催しています．このフォーラムは，第一線で活躍する講師による最新の話題提供をもとに参加者全員で討論を行うことで，理解を深め，また討論を通して若手同士はもちろん講師の先生方や関西支部所属のセラミックス関連の大学・公研の先生や企業の技術者たちと交流できる企画です．今回は，薄膜，電池，導電体，評価技術と大変幅広い分野からテーマを集めてみました．必ず興味ある分野があるはずです．今まで知らなかった分野の情報に触れ，新たな研究の展開のヒントとなるような議論や情報があるはずです．大学関係者のみならず，産業界からも多数の参加を望みます． プログラム 10月17日（金） 講演1-2 「ここまできたSiC/SiC複合材料：現状と将来展望」檜木達也（京都大学 エネルギー理工学研究所） 会社発表「製品や事業紹介」（企業参加者・4～5社） 10月18日（土） 講演2-2 「ナノ構造を利用したC12A7結晶薄膜の導電体化」宮川 仁（東京工業大学 フロンティア研究センター） 講演2-3 「リチウム二次電池用新規正極材料」田渕光春（産業技術総合研究所 ユビキタスエネルギー研究部門） 申込締切 定員になり次第締切 参加費 日本セラミックス協会・協賛学協会員：一般11,000円／学生6,000円，日本セラミックス協会シニア会員・永年継続会員：6,000円，関西支部援助会員企業：1名6,000円／2人目からは11,000円，会員外：一般16,000円／学生11,000円 申込方法 (1)氏名（ふりがな），(2)所属（勤務先・役職），(3)会員種別，(4)性別，(5)連絡先とE-mailアドレスを記し，下記へお申し込み下さい．E-mailでの申し込みを歓迎します． 申込・問合先 若手フォーラム事務局 571-8506 大阪府門真市大字門真1006 パナソニック エレクトロニックデバイス(株)開発技術センター 加賀田 博司（日本セラミックス協会関西支部・若手フォーラム代表委員）Email：kagata.hiroshi※jp.panasonic.com， 色材講演会 主 催 色材協会 関西支部 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2008年10月23日（木）9:30～16:50 場 所 大阪科学技術センター 小ホール(大阪市西区靱本町1-8-4) 内 容 色材関連業界の研究者，技術者に役立つ知識と最新の話題に関する講座（5講）「成膜と加工」「評価と分析」「薄膜の機能」の観点から薄膜の基礎的かつ重要な事項を具体例やナノテクノロジーなど最新のトピックスをまじえ初心者にもわかりやすく解説します． 参加費 会員（協賛学協会員を含）20,000円 申込締切 2008年10月20日（月）（定員50名） 申込・連絡先 541-0056 大阪市中央区久太郎町1-8-9 大阪塗料会館6階 色材協会関西支部事務局 TEL 06-6271-4786，FAX 06-6271-4799，E-mail：shikizai※viola.ocn.ne.jp 東北大学多元物質研究所 窒化物ナノ・ 主 催 東北大学 多元物質科学研究所 協 賛 日本セラミックス協会東北北海道支部 日 時 2008年10月30日（木）～31日（金） 場 所 多元物質科学研究所 材料物性研究棟1号大会議室（仙台市青葉区片平2-1-1） 内 容 アクティブアモノサーマル法によるGaN単結晶作製（東北大多元研）鏡谷勇二；高純度窒化ホウ素単結晶の高圧合成と希土類元素添加による発光特性発現(物材研)谷口 尚；Ⅲ族窒化物中のドーパントの配位環境と電子状態(京都大学)大場史康；非極性面窒化物半導体薄膜成長と問題点（東北大多元研）秩父重英；光電気化学反応による水素生成におけるGaN特性と構造化の影響（東北大学際センター）藤井克司；ソルボサーマル法による窒化物光触媒の合成（東北大多元研）佐藤次雄；サファイア窒化法によるAlN薄膜作製の熱力学的・速度論的考察（東北大多元研）福山博之；窒化アルミニウム系蛍光体の合成と結晶構造（物材研）武田隆史；還元窒化法による窒化物蛍光体の微粒子プロセス開発(東北大多元研)末廣隆之；Eu2＋付活Srサイアロン（東芝）福田由美；窒化物蛍光体の新規製造法と構造解析（三菱化学）渡邊 展；窒化物蛍光体の今後に期待すること（東京工科大）山元 明 参加費 無料 参加申込・詳細 URL http://www.tagen.tohoku.ac.jp/general/information/081030.html 問合先 980-8577 仙台市青葉区片平2-1-1 東北大学多元物質科学研究所 山根久典 TEL/FAX 022-217-5813，E-mail：yamane※tagen.tohoku.ac.jp 第13回セラミックス関係 主 催 日本セラミックス協会原料部会（化学分析分科会） 共 催 日本分析化学会 日 時 2008年11月6日（木）9:50～16:50 場 所 東京工業大学百年記念館フェライト記念会議室（東京都目黒区大岡山2-12-1） プログラム (発表内容および時間は，変更する場合があります） 開会挨拶 岡田 清 原料部会長 1. マイクロ波によるアルカリ融解法（マイルストーントーンゼネラル(株)）○後藤将治 2. 難溶解性試料の固体直接原子吸光測定（(株)アナリティクイエナ ジャパン）○松野京子 3. 水銀専用原子吸光分析装置を用いたセラミックス及び工業製品の分析（日本インスツルメンツ(株)）○田口 正 4. EPMAによるコンクリートの解析（(株)太平洋コンサルタント）○塚本師子 5. 蛍光X線による炭素材料中微量成分の定量（昭和電工(株)）○御代田恭子，山口知典，橋本政晴 6. 卓上波長分散型蛍光X線分析装置による最新の応用分析例（理学電機工業(株)）○渡辺 充 7. 蛍光X線分析用混合標準試料を用いた酸化物の広範囲検量線定量分析法（スペクトリス(株)パナリティカル事業部）○水平 学 8. 顕微Raman分光法のセラミックスへの応用（(株)堀場製作所）○中田 靖 9. マグネシウム金属中酸化物酸素の定量方法（産業技術総合研究所中部センター）○柘植 明，森川 久，上蓑義則 10. 熱加水分解／IC法によるファインセラミックス用アルミナ粉末中のハロゲンおよびイオウの定量（産業技術総合研究所中部センター）○森川 久，柘植 明，上蓑義則 11. 高融点活性金属に関する化学分析技術（東芝ナノアナリシス(株)）○平本耕作 募集人員 約100名（会場の都合上，定員になり次第締め切らせて頂きます） 参加費 主催・協賛学協会員4,000円，学生会員2,000円，非会員5,000円，（いずれも資料代，昼食代を含む） 申込・送金方法 所定の申込書に必要事項をご記入の上，銀行振込（申込はE-mail，FAXまたは郵送）または現金書留でお申込みください．参加費は発表会前日までにご送金ください． URL https://www.ceramic.or.jp/bgenryo/index_j.html 振込先 三菱東京UFJ銀行新宿中央支店(普)5713532 (社)日本セラミックス協会原料部会 振込の場合は振込受領書を領収書にかえさせていただきます． 申込先 169-0073 東京都新宿区百人町2-22-17 日本セラミックス協会原料部会 第13回セラミックス関係分析技術者研究発表会係 TEL 03-3362-5231，FAX 03-3362-5714，E-mail：raw-apply※cersj.org 平成20年度日本セラミックス協会 主 催 日本セラミックス協会東北北海道支部・同基礎科学部会 共 催 無機マテリアル学会北部支部 日 時 2008年11月6日（木）13:00～7日（金）12:30 場 所 山形県米沢市博物館「伝国の杜」（山形県米沢市丸の内1丁目） プログラム 11月6日（木) 口頭発表 13:00～15:12 1A01 反応焼結によって合成したAl-TiO2-B系複合材料の組織と機械的性質（山形大院理工）○鈴木雅人，佐竹忠昭，武田武信 1A02 溶媒揮発法を用いた多孔質マンガン酸リチウムの合成とその粉体特性（山形大院理工）○木村江梨子，松田圭悟 1A03 マイクロ波照射によるBaTiO3微粒子の液相合成（東北大院工）○的場 諒，林 大和，滝澤博胤 1A04 針状TiN粒子含有Si3N4-TiN複合体の作製と機械的評価（北大院工）○三宅悠帆，清野 肇，嶋田志郎 1A05 新規強誘電性ナノ結晶化ガラスの創生と光学機能（長岡技科大）○山澤朋也，小松高行，本間 剛 1A06 CaCO3／ガラス水熱固化体の強度発現に及ぼすガラス組成の影響（東北大院環境）○今泉晴貴，前田浩孝，鈴木浩一，石田秀輝 1A07 ぺロブスカイト型酸窒化物EuTa(O, N)3のゲル化窒化合成とアニール効果（北大院工）○浜出陽平，鱒渕友治，本橋輝樹，吉川信一 1A08 CO2レーザーCVDにより合成したb-SiC膜の微細組織および機械的性質（東北大金研）○藤江健吾，塗 溶，後藤 孝 1A09 板状含水リン酸セリウムの水熱合成と熱処理による相変化（東北大多元研）○斉藤 碧，殷 シュウ，佐藤次雄 1A10 高湿度雰囲気下保存によるハフニアゲル膜の硬化プロセスの解析（日大院工）○石原 毅，西出利一 1A11 CuOの芯を有するGdBa2Cu3O7-δ線材におけるホットスポット現象（長岡技科大）○角田俊輔，藤原信吾，黒木雄一郎，岡元智一郎，高田雅介 ポスター発表 15:15～16:15 1P01 水溶性シリコン化合物を原料とした水溶液プロセスによる珪酸塩蛍光体Zn2SiO4：Mn2＋の合成（東北大多元研）○高橋伸明，鈴木義仁，垣花眞人 1P02 マイクロ波照射によるFe-Zn-Oメゾスコピック磁性体の合成（東北大院工）○片寄里美，林 大和，滝澤博胤 1P03 ホタテガイ貝殻蛍光体が放つ蛍光色のコントロール（北海道工技セ1，函館高専2，北大院3，東京工科大4）○下野 功1，小林淳哉2，都木靖彰3，山元 明4 1P04 Ba3Si4C2の合成と結晶構造（東北大多元研）○鈴木雄太，森戸春彦，山田高広，山根久典 1P05 多糖シートへの層状複水酸化物の分散による機能付与（岩手大院工）○飛澤麻紀子，會澤純雄，平原英俊，高橋 諭，成田榮一 1P06 マイクロ波水熱法を用いたチタン酸バリウム粒子の合成と特性評価（東北大多元研）○高畠康太，殷 シュウ，佐藤次雄 1P07 天然ゼオライト微粉末の電気泳動堆積とシリカゾルを用いた堆積膜の固定化（秋田大工資）○林 滋生，蝦名和泰，小玉展宏，中川善兵衛 1P08 自己組織化反応による金属水酸化物を用いた有機－無機層状複合体の創製（山形大院理工）○高橋悠悟，多賀谷英幸 1P09 ソルボサーマル法による可視光応答性NドープSrTiO3の合成（東北大多元研）○金子なつえ，殷 シュウ，佐藤次雄 1P10 粘土鉱物を用いたメソ多孔体の水蒸気吸着（東北大院環境）○前田浩孝，石田秀輝 1P11 タンタル系層状化合物における光触媒活性の評価（新潟大工）○西谷未希，上松和義，石垣 雅，戸田健司，佐藤峰夫 1P12 Capped-LPE法によるYドープBi-2212高温超伝導体薄膜の作製（山形大院理工）○新宅崇修，千葉 孝，中島健介 1P13 白色LED用蛍光体の合成（新潟大院自然）○初森智紀，上松和義，石垣 雅，戸田健司，佐藤峰夫 1P14 Naフラックス法によるNaSi2N3の合成（東北大多元研）○藤巻洋介，森戸春彦，山田高広，山根久典 1P15 EDTAを配位子とする水溶性チタン錯体を用いたブルカイト型酸化チタンの水熱合成及びその光触媒特性（東北大多元研1，東海大2）○森嶋勇介1，小林 亮1，Petrykin Valery1，冨田恒之2，垣花眞人1 1P16 Na蒸気を用いたSiC多孔体の低温作製（東北大多元研1，日産自動車(株)総合研究所2）○白井嵩幸1，森戸春彦1，山田高広1，花木保成2，森坂英昭2，山根久典1 1P17 ゾル-ゲル法によるギ酸を含むハフニア薄膜の硬化プロセス（日大院工）○飯田喜之，西出利一 1P18 三元系希土類酸化物EuLn2O4（Ln＝希土類）の磁気的性質（北大院理）廣瀬慶一，土井貴弘，○日夏幸雄 1P19 ZnOを多量に含む新規ガラスの物性と結晶化挙動（長岡技科大）小松高行，本間 剛，○永井玲央 1P20 高可視光活性光触媒LaおよびNコドープチタン酸ストロンチウムのソルボサーマル合成（東北大多元研）○Uyi Sulaeman, Shu Yin, Takayuki Suehiro, Tsugio Sato 1P21 気相成長炭素繊維の磁場配向とその応用（山形大院理工1，信州大工2）○熊谷信志1，大久保貴啓1，粟野 宏1，高橋辰宏1，米竹孝一郎1，荒井政大2，新井 進2，遠藤守信2 1P22 ニッケル被覆気相成長炭素繊維の磁場配向とその応用（山形大院理工1，信州大工2）○熊谷信志1，粟野 宏1，高橋辰宏1，米竹孝一郎1，新井 進2，荒井政大2，遠藤守信2 1P23 水熱法によるアパタイトの粒子形態制御と評価（東北大院環境）○江成祐樹，上高原理暢，渡邉則昭，井奥洪二 1A24 LiBH4のLi超イオン伝導（東北大院工1，東北大金研2）○前川英己1・唐橋大樹1・高村 仁1・松尾元彰2・折茂慎一2 1P25 紫外光励起による新規蛍光体の合成（新潟大工）○佐藤夏希，大橋 衛，上松和義，石垣 雅，戸田健司，佐藤峰夫 1P26 スラリーの凝集構造が遠心成形体の内部構造に与える影響（長岡技科大）○加藤善二，田中 諭，植松敬三 1P27 Enhancement of Red light emission by Sr substitution for Ba in (Ba, Sr)2ZnS3：Eu2＋ Phosphor（東北大多元研）○Chi-Woo Lee，Valery Petrykin，Masato Kakihana 1P28 ペロブスカイト型基調RPd3BとRRh3B(R＝希土類元素)の形成機構，得られる化合物の性質（東北大金研）○宍戸統悦，葉 金花，岡田 繁，工藤邦男，飯泉清賢，澤田 豊，石沢芳夫，森 孝雄，田中雅彦，大津直史，野木直行，佐原亮二，湯葢邦夫，ビジャイ クマール，林 好一，野村明子，菅原孝昌，戸澤慎一郎，小原和夫，古曳重美，手嶋勝弥，大石修治，川添良幸 1P29 可視光応答型光触媒ZnOファイバーの調製（東北大金研）○宍戸統悦，湯葢邦夫，野村明子，佐藤友章，関 成之，羽賀浩一 1P30 白色LED用の新規なBa-Sc-Si系酸化物と酸窒化物の合成（新潟大院自然）○中野智行，川上義貴，上松和義，石垣 雅，戸田健司，佐藤峰夫 1P31 ソルボサーマル法により合成したAl2O3/CeO2-ZrO2-Y2O3/Pdの排ガス浄化触媒特性（東北大多元研）○菊池祐介，殷 シュウ，佐藤次雄 1P32 高磁場を利用した17O NMR測定による酸化物イオン伝導体の酸素欠損（東北大院工1，北大院工2，物質・材料研3）○安東真理子1，及川 格1，野田泰斗1，前川英己1，清野 肇2，丹所正孝3，清水 禎3 1P33 廃乾電池由来酸化物ペレットのアルミニウムリサイクルへの応用（道工試1，北大院工2，北見工大3，道工大4，野村興産5，日軽金6，鈴木商会7）○執行達弘1，吉田憲司1，野村隆文1，赤澤敏之1，高橋英徳1，高橋順一2，伊藤英信3，高島敏之4，藤原 悌5，牧野恒彦6，熊谷 雅7 1P34 Nb-A(A＝K, Cs）系メソ構造体の合成とその固体塩基特性（秋田大工資）○佐々木一樹，天本優作，小原晃一，小笠原正剛，加藤純雄，中田真一 1P35 YドープしたBi-2212高温超伝導体の固有ジョセフソン接合特性（山形大院理工）○千葉 孝，新宅崇修，中島健介 1P36 Tb3＋ドープ水酸化イットリウムおよび酸化イットリウムの形態の水熱反応温度依存性（東北大多元研）○M.K. Devaraju, Shu Yin, Takayuki Suehiro, Tsugio Sato 1P37 Sillen-Aurivillius相の酸化ビスマスシート溶出と光触媒活性の評価（新潟大院自然）○畠山拡才，上松和義，石垣 雅，戸田健司，佐藤峰夫 1P38 薄片状粒子へのシリカコーティング（山形大院理工）○西川達也，家田加奈子，木俣光正，長谷川政裕 1P39 Chemical Bath Deposition法によるチタニア薄膜の作製（日大院工）○石澤陽介，西出利一 1P40 磁気光学効果を示す新規結晶化ガラスの創製（長岡技科大）○鈴木太志，本間 剛，石橋隆幸，小松高行 1P41 緑色硫化物蛍光体の新規合成法（新潟大院自然）○大橋 衛，上松和義，石垣 雅，戸田健司，佐藤峰夫 1P42 共沈法により作製したMgFe2O4およびZnFe2O4粉末におけるNOx吸着の影響（国士舘大理工）鎌本喜代美，○岡田 繁，宍戸統悦，工藤邦男 特別講演 16:15～17:15 東北北海道支部総会 17:15～17:45 11月7日（金) 口頭発表 9:00～11:12 2A01 ゾルゲル法により調製した(Ba, Sr)TiO3-SiO2-Al2O3系粉末の緻密化と結晶化挙動（北大院工1，北見工業大2）○井阪延之1，高橋順一1，伊藤英信2 2A02 層状複水酸化物ナノシート/TiO2ゾル高度複合体の合成とその特性（岩手大院工1，テイカ(株)2，八戸高専3）○南部まい1，會澤純雄1，平原英俊1，高橋 諭1，池松大作2，奥宮 毅2，長谷川 章3，成田榮一1 2A03 高活性ウィスカー状ルチル型酸化チタン光触媒の水熱合成（東北大多元研）○小林 亮，Petrykin Valery，垣花眞人，冨田恒之 2A04 水熱法による水酸アパタイト―光触媒複合材料の作製（東北大院環境）○川口 脩，上高原理暢，渡邉則昭，井奥洪二 2P05 界面反応法より調製したヒドロキシアパタイトミクロスフィアの溶解性（新潟大院自然）○宮村健司，木村勇雄 2A06 MgO-ZnO固溶体の抗菌特性における立方晶構造の効果（秋田大工資）○大平俊明，山本 修，河村真理 2A07 酸化物添加 (Bi, Na)TiO3非鉛圧電セラミックスの誘電および圧電特性（湘南工科大工）○石川雄輝，林 卓 2A08 Ca-(Sn, Ti)-Si-O系化合物の合成と結晶構造および発光特性（東北大多元研）○安部俊輔，森戸春彦，山田高広，山根久典 2A09 CaZnGe2O6系長残光蛍光体の合成と特性評価（新潟大院自然）○金子紘明，石垣 雅，上松和義，戸田健司，佐藤峰夫 2A10 非水系スラリーの粒子間相互作用における分散剤の影響（長岡技科大）○古嶋亮一，田中 諭，加藤善二，植松敬三 2A11 温熱治療用マグネタイトナノ粒子の作製とその交流磁場下における発熱特性（東北大特定領域）○李 志霞，川下将一 ポスター発表 11:15～12:15 2P01 Naフラックス法を用いたβ-FeSi2バルク体の低温合成（東北大多元研）○苅谷英里，山田高広，森戸春彦，山根久典 2P02 可視LEDランプによる窒素ドープ酸化チタン光触媒のdeNOx活性評価（東北大多元研）○殷 シュウ，張 沛霖，劉 斌，佐藤次雄 2P03 USB変換器を用いた超伝導酸化物の高速酸素量測定（山形大院理工）○大庭康嗣，神戸士郎，水口人史，伊藤和紀，柿崎伸也，石井 修 2P04 低温窒化法によるα"-Fe16N2微粉体の合成と磁気特性（北大工）○山下祥平，山中浩悦，鱒渕友治，本橋輝樹，吉川信一 2P05 スズ(Ⅱ)ドープしたチタン酸バリウムナノ粒子の合成および特性評価（東北大多元研）○謝 亜紅，殷 シュウ，橋本孝俊，町田 博，佐藤次雄 2P06 レーザー誘起結晶化による電子伝導性結晶パターニング（長岡技科大）○木岡桂太郎，本間 剛，石橋隆幸，小松高行 2P07 アーク溶解法による(Ti, Zr) C-(Ti, Zr)B2-SiC三元系共晶コンポジットの作製（東北大金研）○塗 溶・後藤 孝 2P08 透光性酸化イットリウムセラミックの作製（新潟大）○峯川恵典，Nur Hazwani Khusaini，小林知裕，堀田 憲 2P09 二価の鉄を含むホウ酸塩の合成とX線結晶構造解析（東北大多元研）○川野哲也，森戸春彦，山田高広，山根久典 2P10 酢酸を含むハフニア薄膜の滑水性と薄膜組成の関係（日大院工）○山野弘道，西出利一 2P11 ソルボサーマル反応による四チタン酸の相転移挙動（東北大多元研）○ Peilin Zhang，Shu Yin，Tsugio Sato 2P12 SiC線材の通電加熱によるFe-Cr-Ni合金基板上へのナノカーボン材料の作製（長岡技科大）○諏佐俊輔，黒木雄一郎，岡元智一郎，高田雅介 2P13 溶液プロセスによるセリア粒子の形態制御（東北大多元研）○南舘正宙，殷 シュウ，佐藤次雄 2P14 白色LED用新規ホウ珪酸塩蛍光体の合成（新潟大工）○井上美知代，上松和義，石垣 雅，戸田健司，佐藤峰夫 2P15 ポリマーテンプレートを用いた水酸アパタイト中空粒子の合成とその評価（山形大院理工）○関川宗寿，川井貴裕，鵜沼英郎 2P16 自動車用廃窓ガラスを利用した透水性試料の作製に関する研究（苫小牧高専）○菅野有未，古崎 毅，照井文哉 2P17 Bi添加アンモニア窒化法によるAlNの合成（東北大多元研）○唐橋大樹，井出智之，森戸春彦，山田高広，山根久典 2P18 カオリナイトを用いた水熱固化体の調湿特性（東北大院環境）○古里彰宏，前田浩孝，石田秀輝 2P19 TiとTaを同時に含む新規アルカリ土類酸化物系水分解光触媒の水溶液からの合成と光触媒特性（東北大多元研）○山谷倫央，ペトリキン ヴァレリー，垣花眞人 2P20 水溶性Nb, Ta錯体を利用した水溶液プロセスによる新規蛍光体の合成（東北大多元研）○大林孝暢，Valery Petrykin，垣花眞人 2P21 不均一固液系への超音波照射を利用したAgナノ粒子およびナノAg/Cu複合粒子の高濃度合成（東北大院工）○樋澤健太，林 大和，滝澤博胤 2P22 Preparation of Magnetite Hollow Microspheres through Enzyme-Assisted Liquid Phase Processing（山形大院理工）○趙 潔，関川宗寿，川井貴裕，鵜沼英郎 2P23 シングルモードマイクロ波加熱法によるMg2SnO4長残光蛍光体の合成（新潟大院自然）○長谷川 由，石垣 雅，上松和義，戸田健司，佐藤峰夫 2P24 45Sc NMRを用いたBaZr1-xScxO3-eプロトン伝導体の欠陥構造解析（東北大院工1，東北大院環境2，北海道大院工3，物質・材料研4）○及川 格1，安東真理子1，前川英己1，雨澤浩史2，清野 肇3，清水 禎4，丹所正孝4 2P25 パイロカーボン膜の気体吸着に伴う電気伝導度の変化（秋田大工資）○大竹美雪，山本 修 2P26 マイクロリアクタによるLiCoO2, LiMnO2粒子の合成（山形大院理工）○佐藤愛美，木俣光正，長谷川政裕 2P27 The Synthesis of Novel Inorganic UV-Shielding Micro/Nano Composite Using Hetero Coagulation Method（東北大多元研）○Xiangwen Liu，Shu Yin，Tsugio Sato 2P28 多孔質アルミナセラミックスの作製（新潟大1，太平洋セメント2）○若田部貴哉1，吉川知里1，齋藤紀子2，堀田憲康1 2P29 RFマグネトロンスパッタ法により作製したSiC-TiCコンポジット膜の硬さの組成依存性（東北大金研）○大杉 学，堀田幹則，後藤 孝 2P30 リチウムイオン二次電池用正極材料LiCrMnO4の電気化学特性（新潟大院自然）○高野幹裕，上松和義，石垣雅，戸田健司，佐藤峰夫 2P31 マクロポーラスシリカ合成時のスピノーダル分解における水溶性ポリマーの役割（山形大院理工）○小島伸一郎，矢野佑輔，樋口健志，會田忠弘 2P32 籾殻からつくられた多孔質炭素材料における加工特性の改善（鶴岡高専1，山形大院理工2）宍戸道明1，○吉田圭吾2，飯塚 博2 2P33 有機酸を利用したチタン酸バリウム粒子の調製とその形態（新潟大院自然1，北大院工2）○中川正司1，木村勇雄1，高橋順一2 2P34 ナトリウムを用いたMg2Siの合成（東北大多元研）○大石悠佑，山田高広，森戸春彦，山根久典 2P35 抜去歯由来脱灰象牙質顆粒の機能設計と臨床応用（道工試1，北海道医療大2，ミワテック3，ムトウ4）○赤澤敏之1，村田 勝2，田崎純一2，日野 純2，中村勝男1，佐藤裕一郎3，菊地雅彦4 2P36 ウレアーゼを固定化したチタン表面へのリン酸カルシウム薄膜の被覆（山形大院理工）○本山美香，吉田京子，川井貴裕，鵜沼英郎 2P37 化学的に合成したPbZrO3微粉末のシート成形（日大院工）吉川義雄，○江頭靖和 2P38 プラズマCVDによって合成したLa-Ru-O系膜の結晶相と微細構造（東北大金研）○木村賢宜，木村禎一，後藤 孝 2P39 層状ペロブスカイト型化合物から合成したNb系多孔質材料の酸化触媒活性（秋田大工資）○天本優作，齊藤健太郎，堀内宏佑，小笠原正剛，加藤純雄，中田真一 2P40 基板上に析出させた酸化チタン微粒子の合成（新潟大工）○伊東裕理，中島沙絵，上松和義，石垣 雅，戸田健司，佐藤峰夫 2P41 クエン酸錯体重合法によるSrZrO3ナノ粒子の合成（長岡技科大）○土田和真，田中 諭，古嶋亮一，植松敬三 参加費 一般4,000円，学生2,000円 懇親会 2008年11月6日（木）18:00より上杉城史苑，事前登録5,000円（学生2,000円），当日受付6,000円（学生3,000円）．詳細は下記URLをご覧下さい． 問合先 992-8510 米沢市城南4-3-16 山形大学大学院理工学研究科物質化学工学専攻 川井貴裕，E-mail：t-kawai※yz.yamagata-u.ac.jp URL http://serakyo.yz.yamagata-u.ac.jp/ 第31回材料講習会 主 催 日本材料学会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2008年11月12日（水）9:45～17:00 場 所 キャンパスプラザ京都2Fホール（京都市下京区西洞院通塩小路下ル） 内 容 本講習会では，最近のナノ材料の作製とその力学的・化学的・電気的特性の評価について講義するとともに，ナノ材料加工に基づく次世代ものづくりへの適用例を紹介し，今後の行方および新展開について考えてみる． 参加費 会員（協賛学協会会員を含む）12,000円，学生会員5,000円 申込締切 2008年11月5日（水）（定員80名） 申込・連絡先 606-8301 京都市左京区吉田泉殿町1-101 日本材料学会 「第31回材料講習会」係，TEL 075-761-5321，FAX 05-761-5325，E-mail：jimu※jsms.jp 第33回顔料物性講座 主 催 色材協会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2008年11月13日(木)9:30～16:50 場 所 東京塗料会館（東京都渋谷区恵比寿3-12-8） 内 容 今年の顔料物性講座では，現在顔料分野で注目されている「カラーフィルター」をテーマとし，とくに注目されている題材をピックアップして企画しました．各講師の方々はこの分野で活躍されている研究者で，一歩踏み込んだ技術性の高い講演を基礎から応用までわかりやすく講演していただきます． 参加費 会員（協賛学協会会員を含む）19,000円 申込締切 2008年11月7日（金） 連絡先 150-0013 東京都渋谷区恵比3-12-8 東京塗料会館201号室 色材協会 TEL 03-3443-2811，FAX 03-3443-3699，E-mail：sky※minos.ocn.ne.jp KAST教育講座 主 催 神奈川科学技術アカデミー 後 援 日本セラミックス協会ほか 日 時 2008年11月13日(木)～14日(金) 場 所 かながわサイエンスパーク（KSP）内研修室（川崎市高津区坂戸3-2-1） 内 容 マイクロ化学チップを実際に「見て」「触れて」学ぶ実習型の教育講座 参加費 A：全日程65,000円，B：KAST法人賛助会員・C：神奈川県中小企業52,000円，D：C以外の神奈川県企業58,500円 申込締切 先着順にて承ります 申込・連絡先 213-0012 川崎市高津区坂戸3丁目2-1 KSP東棟1F 神奈川科学技術アカデミー教育研修グループ TEL 044-819-2033，FAX 044-819-2097，E-mail：ed※newkast.or.jp URL http://www.newkast.or.jp/kyouiku/kj_boshu.html 平成20年度日本セラミックス協会 日本セラミックス協会関東支部では学生あるいは若い人向けように「平成20年度の会社見学」を企画致しました．平成20年度の会社見学会は横浜市戸塚区にあります（株)大倉陶園および横浜市旭区にあります東洋ガラス機械(株）の2社を見学いたします．(株)大倉陶園（横浜市戸塚区秋葉町20）は，創業1919年で90年近くの歴史のある会社で，我々の生活で必要不可欠な洋食器類の専門メーカで，磁器の美しさと独特の技法で，古い伝統を守りながら現代的な美しさを調和させた洋食器や美術的価値の高い陶磁器の製造販売を行っている企業です．一方，東洋ガラス機械(株)（横浜市旭区川井本町76）は，創業1959年で50年近く歴史を刻んで，ガラスびん・食器の金型の機械メーカで，その歩みと共に技術を生かしたプラスチック容器の金型や各種容器の製造ラインの検査・包装・物流機械の製作，さらに，ガラスなどの各種難削材を切断するカッテイングマシンを保有し加工を行なっている企業です．それらの歴史ある会社を見学させてもらうことになりました．是非ともご参加下さいますようにお願い致します． 主 催 日本セラミックス協会関東支部 日 時 2008年11月14日（金） 見学先および見学内容 9：30 JR東日本 戸塚駅橋上改札口集合 10：00 株式会社大倉陶園 見学 12：00 株式会社大倉陶園 昼食 13：00 私鉄相鉄線 緑園都市駅 13：30 私鉄相鉄線 鶴ヶ峰駅 14：00 東洋ガラス機械株式会社 見学 16：50 見学会終了 17：30 私鉄相鉄線 鶴ヶ峰駅 17：30 私鉄相鉄線 鶴ヶ峰駅付近 懇親会 19：30 私鉄相鉄線 鶴ヶ峰駅 解散 集 合 9時30分 JR東日本 戸塚駅橋上改札口集合 参加費 1,500円（集合場所からの交通費と昼食費を含む）（ただし，懇親会会費は別途徴収致します） 募集人数 20名程度 参加申込締切日 2008年11月5日（水） 申込方法 氏名，勤務先，役職名，FAX番号，E-mailアドレスをご記入のうえ，E-mailあるいはFAXにて下記宛に申込み下さい．学生の場合には大学院・学部の別と学年を明記して下さい．参加費の支払いや集合場所などについての詳細は参加申込後に，連絡先に送付いたします． 申込先 154-8515 東京都世田谷区世田谷4-28-1 国士舘大学理工学部理工学科 岡田 繁 E-mail：sokada※kokushikan.ac.jp，TEL 03-5481-3292，FAX 03-5481-3292 第331回講習会 主 催 精密工学会，精密測定技術振興財団 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2008年11月17日（月）10:10～16:30 場 所 東京理科大学 森戸記念館第1フォーラム（東京都新宿区神楽坂4-2-2） 内 容 現在の日本の製品・製造技術は大きな課題を抱えています．ものづくりで勝ち残って行くために，アジア諸国への製造シフトに立ち向かうさらなるコスト競争力の強化，そして他が容易にマネできない高付加価値製品・製造技術の創出が望まれています．このような環境下にあって，包装材料，自動車部品・精密機器・情報通信機器等あらゆる分野の部品の精密化・小型化・高機能化のために，部品の表面や界面を加工したり，新たな材料をコーティングすることで機能付与し，製品の付加価値を大幅に向上する技術が注目されています．表面・界面機能として，光学・トライボロジー・熱・接触・耐腐食・ガスバリヤなどの様々な機能があり，それらの機能の発現によってまったく新しい用途を切り拓くことが期待できます．本講演会では，めっき，蒸着，エッチング等による表面および界面の高機能化に関わる技術の基本から，製品への応用例まで，各分野で活躍されている講師の方々から，最新技術と将来技術動向について分かりやすく解説していただきます． 参加費 会員（協賛学協会会員を含む）15,000円,非会員25,000円 申込締切 2008年11月10日（月）（定員60名） 申込・連絡先 102-0073 東京都千代田区九段北1-5-9 九段誠和ビル2F精密工学会 講習会係 小川 TEL 03-5226-5191，FAX 03-5226-5192，E-mail：jspe_kousyu※jspe.or.jp URL http://www.jspe.or.jp/event/koshukai/seminar.html 第29回表面科学セミナー 主 催 日本表面科学会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2008年11月19日（水）～20日（木） 場 所 東京大学 山上会館（東京都文京区本郷7-3-1） 内 容 表面および界面の構造や，そこで発生する物性および反応性の解明を主なターゲットとする表面科学においても，その根源となる3次元情報の正確な取得が極めて重要です．今回は材料の組成・構造の3次元情報を可視化する技術の最新の状況について俯瞰するとともに，今後の技術開発を展望します． 参加費 協賛学協会会員：35,000円，その他：40,000円，学生：10,000円 申込締切 2008年11月12日（水）（定員80名） 申込・連絡先 113-0033東京都文京区本郷2-40-13 本郷コーポレーション402 日本表面科学会 TEL 03-3812-0266，FAX 03-3812-2897．E-mail：shomu※sssj.org URL http://www.sssj.org/Seminar_29.html 日本セラミックス協会関西支部 主 催 日本セラミックス協会関西支部 協 賛 日本化学会，応用物理学会ほか 日 時 2008年11月21日（金）10:00～17:00 場 所 京都大学ローム記念館（615-8520 京都市西京区京都大学桂，TEL 075-383-3033，阪急京都線桂駅／市バス（西6系統桂坂中央行）または京阪京都交通バス（循環20系統桂坂中央行）桂イノベーションパーク前下車2分，URL http://www.kyoto-u.ac.jp/ja/rohm） テーマ セラミックスにおけるナノテク最前線 プログラム 1) 「ナノ機能セラミックスの今後の展望」（長岡技科大）新原皓一 2) 「ナノ精密加工ガラスの機能と応用」（京大院工）平尾一之 3) 「産学官連携活動への支援事業と事例」（NEDO）井上敏夫，安井あい 4) 「エネルギー変換応用をめざしたナノセラミックス薄膜」（松下電器産業）飯島賢二 5) 「固体酸化物形燃料電池（SOFC）におけるナノテクセラミックス」（関西電力）稲垣 亨 6) 「太陽電池における最近の研究開発動向とナノテク素材技術」（阪大太陽エネ化研セ）松村道雄 その他，ポスターによる発表 参加費 会員（特別・援助会員含む）・協賛会員4,000円，シニア会員・永年継続会員2,000円，支部援助会員(1級)企業：1名無料／2人目からは4,000円，支部援助会員(2，3級)企業：1名2,000円／2人目からは4,000円，学生2,000円，非会員8,000円（講演予稿集代含む） 懇親会（17:30～19:00）5,000円（参加費とも当日受付で申し受けます） 参加申込締切 定員150名になり次第締切 申込・問合先 (1)氏名，(2)所属，(3)連絡先，(4)懇親会参加希望の有無，(5)会員種別を明記の上，E-mail,FAXまたは郵送で下記までお申し込み下さい．606-8585 京都市左京区松ヶ崎御所海道町 京都工芸繊維大学大学院工芸科学研究科内 日本セラミックス協会関西支部事務局 若杉 隆 TEL 075-724-7575，FAX 075-724-7580，E-mail：csjka※kit.jp 第7回衝撃工学フォーラム 主 催 日本材料学会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2008年11月21日（金）9:30～16:15 場 所 東京理科大学 神楽坂キャンパス 森戸記念館第1フォーラム（東京都新宿区神楽坂4-2-2） 内 容 多くの研究者，技術者に衝撃問題解決へのアプローチ法を提供することを目的とした公開フォーラムを開催することとなりました．衝撃問題にある程度の素養がある中級者向けに，専門家による解説と実例をテキストとパワーポイントを使用して紹介する予定です．なお，従来の公開フォーラムよりも個々の講演題目について十分な時間を取ることにより，より丁寧かつ詳細な説明を行うことにしました． 参加費 無料（テキスト代3,500円） 申込締切 2008年11月14日（金） 申込・連絡先 391-0292 長野県茅野市豊平5000-1 諏訪東京理科大学システム工学部システムデザイン工学科内 第7回衝撃工学フォーラムプログラム委員会 板橋正章 TEL 0266-73-9845， E-mail：itabashi※rs.suwa.tus.ac.jp KAST教育講座 主 催 神奈川科学技術アカデミー 後 援 日本セラミックス協会ほか 日 時 2008年12月11日(木)，18日(木)，19日（金） 場 所 かながわサイエンスパーク（KSP）内研修室（川崎市高津区坂戸3-2-1） 内 容 チップファブリケーションから表面処理，反応制御，検出方法など，マイクロ化学チップシステムの構築に必要な技術を学ぶ教育講座 討論主題：1.イオン導電性固体の創製と利用技術，2.固体内イオン移動機構の解明，3.リチウム電池・燃料電池材料の基礎 参加費 A：全日程57,000円，B：KAST法人賛助会員C：神奈川県中小企業45,600円，D：C以外の神奈川県企業51,300円 ＊1日受講20,000円／日 申込締切 先着順にて承ります. 申込・連絡先 213-0012 川崎市高津区坂戸3-2-1 KSP東棟1F 神奈川科学技術アカデミー教育研修グループ TEL 044-819-2033，FAX 044-819-2097，E-mail：ed※newkast.or.jp URL http://www.newkast.or.jp/kyouiku/kj_boshu.html 日本真空協会関西支部実用技術セミナー 主 催 日本真空協会関西支部 共 催 日本セラミックス協会ほか 日 時 2008年12月17日（水）13:00～17:00 場 所 (株)島津製作所関西支社（大阪市北区芝田1-1-4） 内 容 近年，真空技術を用いた表面処理や熱処理技術の進歩が著しく産業界での適用がますます拡大しています．今回は，これらの分野における最新の実用技術につき，産業界の専門家によりご講演いただきます． 参加費 会員（協賛学協会会員を含む）5,000円 申込締切 2008年12月9日（定員60名） 申込・連絡先 674-0071 明石市魚住町金ヶ崎西大池179番地1 三菱マテリアル(株)明石製作所 材料技術部 山田保之 TEL 078-936-7405，FAX 078-936-1497，E-mail：yayamada※mmc.co.jp URL http://wwwsoc.nii.ac.jp/vsj/ 第14回高専シンポジウム in 高知 主 催 高専シンポジウム協議会 高知工業高等専門学校 共 催 日本セラミックス協会ほか 日 時 2009年1月24日（土）9:00～17:30 場 所 高知市文化プラザかるぽーと(高知市九反田2-1) 内 容 研究発表会（高専の学生・教職員による発表，分野を問わない） 参加費 会員（協賛学協会会員を含む）一般：予約6,000円，当日7,000円，学生：予約2,000円，当日3,000円 申込締切 2008年10月24日（金）（定員250名） 申込・連絡先 783-8508 高知県南国市物部200-1 高知工業高等専門学校・物質工学科 岡林南洋 TEL 088-864-5562，FAX 088-864-5562，E-mail：moka※ms.kochi-ct.ac.jp URL http://www.kochi-ct.ac.jp/sympo 第18回顔料分散講座 主 催 色材協会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2009年2月6日（金）9:00～17:00 場 所 東京塗料会館（東京都渋谷区恵比寿3-12-8） 内 容 基礎的な考え，実用的な機能，さらにトピックスとして顔料分散にかかわりのある最新技術についての講座を企画致しました． 参加費 会員（協賛学協会会員を含む）19,000円 申込締切 定員になり次第 申込・連絡先 150-0013 東京都渋谷区恵比寿3-12-8 東京塗料会館201号室 色材協会 TEL 03-3443-2811，FAX 03-3443-3699，E-mail：sky※minos.ocn.ne.jp 講演募集 The 8th Pacific Rim Conference on 主 催 米国セラミックス学会 協 賛 日本セラミックス協会，中国セラミックス学会，韓国セラミックス学会，オーストラリアセラミックス学会ほか 日 時 2009年5月31日（日）～6月5日（金） 場 所 Hyatt Regency Vancouver (655 Burrard Street, Vancouver, British Columbia, Canada） 内 容 セラミックスおよびガラス技術に関する講演，研究発表および討論 参加費 会員（協賛学協会会員を含む）US$ 500（予定） 申込締切 2008年11月3日(月) 研究発表申込 http://www.ceramics.org/pacrim8 連絡先 Marilyn Stoltz The American Ceramic Society 600 N. Cleveland Ave., Suite 210 Westerville, Ohio 43082, USA, E-mail：mstoltz※ceramics.org，TEL 614-794-5868 URL http://www.ceramics.org/pacrim8 XII Conference on the Physics of 日 時 2009年9月6日（日）～10日（木） 場 所 Iguazu Falls, Brazil 詳細 URL http://www.pncs-crystallization.com.br 9th International Symposium on 日 時 2009年 9月10日（木）～13日（日） 場 所 Iguazu Falls, Brazil 詳細 URL http://www.pncs-crystallization.com.br 研究課題募集 平成21年度「ベンチャー支援制度｣ 自らの技術シーズをもとに，ベンチャー創業のもととなる研究課題を募集，採択するとともに，提案のあった産業技術総合研究所以外の機関に属する外部研究者（個人を含む）を契約職員として雇用します．応募要件として，産総研の契約職員として雇用可能な者，技術開発終了後，直ちにベンチャー創業を行う意志を有する者，および技術開発の基となる特許権等の発明者で権利関係で支障がないこと等各種要件があります．詳細は，下記お問い合わせください． 助成額 技術開発費として，3,000万円/年以下 応募締切 2008年10月20日（月）必着 問合先 101-0021 東京都千代田区外神1-18-13 秋葉原ダイビル10F 産業技術総合研究所 ベンチャー開発センターベンチャー支援室 TEL 03-5298-4715，FAX 03-5298-4716，E-mail：incs-h21tf-application※m.aist.go.jp |