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| 半導体製品等の作成において、電気を帯びさせて固定する装置。 |
| 静電チャックはＬＳＩの製造プロセスにおいて、真空中でＳｉウェハを試料台に固定する半導体製造装置の中核部品として使用される。セラミック静電チャックの実用化の検討は１９８０年代からおこなわれた。過酷なプロセス環境で繰り返し使用される静電チャックに対してセラミックスの優れた耐熱性、耐摩耗性、化学的安定性が必要とされたからである。この結果、１９９０年代には、ドライエッチング装置、ＨＤＰ−ＣＶＤ装置注１、ＰＶＤ装置注２などの試料台としてセラミック静電チャックが実用化された。その後、ＬSＩの高集積化と半導体製造装置の技術革新に伴いセラミック静電チャックを必要とする装置の裾野が広がり、最近ではイオン注入装置、アッシング装置、ウェハ検査装置など真空中のプロセスを伴う多くの半導体製造装置においてセラミック静電チャックが採用されている。 |
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| 製品の使用用途 |
半導体製造装置 |
| 見学可能な博物館など |
特になし |
| Key-word |
静電チャック，半導体製造装置，クーロン力型，J-R 力型 |
| 市場に出回った年代 |
1990年〜現在
*現在とは記事作成時（2008年7月時点での情報です） |
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