プログラム
第１６回日本セラミックス協会北陸支部秋季研究発表会
日 時 2012年11月22日(木)
場 所 福井市地域交流プラザAOSSA 6階（〒910-0858 福井県福井市手寄1丁目4-1、TEL 0776-20-6101）
主 催 日本セラミックス協会北陸支部
後 援 日本セラミックス協会
参加登録料 一般1,000円、学生500円（含要旨集 当日会場にて受付）
特別講演 16:00～17:00「ガラスにおける光機能性結晶のレーザーパターニング」長岡技術科学大学教授 小松高行
懇親会 18:00～20:00 会場：八兆屋福井駅店 (福井県福井市中央1丁目1-25、TEL 0776-28-1189) 会費：5,000円程度
プログラム
［研究発表(口頭)］（発表時間15分、質疑応答5分）
座長 荻原 隆
1.(11:00～11:20) GeO2-SiO2系ガラスの機械的粉砕による構造変化とフォトルミネッセンス（金沢大学大学院 ＊現㈱MARUWA） 川嶋道久*、◯ 奥野正幸、奥寺浩樹、水上知行、荒井章司
2.(11:20～11:40) アルキルアミン誘導体で表面修飾した白金ナノ粒子の酸素還元反応に対する電極触媒特性（北陸先端大・静岡大工） 西原弘樹、宮林恵子、○三宅幹夫
座長 露本伊佐男
3.(11:40～12:00) 水熱合成により作製したK2Ta2O6の評価と光触媒材料としての検討（富山大学院理工）○佐伯淳、松田剛、橋爪隆
(12:00～13:00) 昼 食
(13:00～14:30) ポスターセッション(後掲)
4.(15:00～11:20) 環境技術に適した粒子形状を有するリン酸カルシウムの合成（富山高等専門学校）
○袋布昌幹、濱井瞭、豊嶋剛司、丁子哲治
座長 佐伯 淳
5.(15:20～15:40) Flash法における球状ペロブスカイト結晶の粒子形状制御（富山高等専門学校） ○豊嶋剛司、濱井瞭、袋布昌幹、丁子哲治
6.(15:40～16:00) 酢酸イオン共存下におけるリン酸カルシウム粒子形状のpH依存性（富山高等専門学校） ○濱井瞭，桝谷峰旦，豊嶋剛司，袋布昌幹，丁子哲治
［特別講演］
座長 西野純一 16:00～17:00
「ガラスにおける光機能性結晶のレーザーパターニング」長岡技術科学大学 小松高行
［研究発表(ポスター)］（13:00～13:45 コアタイム奇数講演番号）（13:45～14:30 コアタイム偶数講演番号）
P1アセチレンブラックを正極活物質として用いたリチウムイオン二次電池の開発（1:金沢工業大学工学研究科2:金沢工業大学バイオ・化学部応用化学科）○木原啓裕1、露本伊佐男2
P2非晶質ホウ酸リチウムの水素還元により生成した電子伝導性物質（1:金沢工業大学工学研究科2: 金沢工業大学バイオ・化学部応用化学科）○亀田光平1、露本伊佐男2
P3過酸化ポリチタン酸より合成した非晶質酸化チタンとそのリチウムインサーション特性（1:金沢工業大学工学研究科2:金沢工業大学バイオ・化学部応用化学科）○小林一喜1、露本伊佐男2
P4超音波噴霧熱分解法によるLa添加SrTiO3の合成および電気特性（福井大学大学院）○源司憲、明神賢一、小寺喬之、荻原隆
P5パルスジェット噴霧熱分解法によるBaTiO3微粉体の合成およびその特性（福井大学大学院）○明神賢一、小寺喬之、荻原隆、山田展也、大村卓也
P6リチウムイオン電池用三元系正極材料の合成と電気化学的特性（福井大学大学院）○見並竜馬、 小寺喬之、荻原隆
P7二流体ノズル噴霧合成装置を用いたカーボン添加 LiFePO4 粉体の合成と電池特性（福井大学）○中村高大、小寺喬之、荻原隆
P8噴霧熱分解法による球状ニッケル粒子の合成と粒子特性（福井大学大学院）○小寺 喬之、大村 卓也、呉瓊、荻原隆
P9前駆体溶液を用いたYSZ薄膜の成膜時におけるパターニング（富山大学大学院）○有澤恒太、佐伯和紘、橋爪隆、佐伯淳
P10ブルッカイト型酸化チタンの作製（富山大学大学院）○北原慎也、橋爪隆、佐伯淳
P11 RFスパッタリング法によるCeO2/Al多層積層薄膜の製膜 （富山大学大学院）○黒河駿平、橋爪隆、佐伯淳
P12 TG-DTAによるLi2CO3-FePO4-Cの熱反応メカニズム（富山大学大学院）○秋田大輔、橋爪隆、佐伯淳
P13浮遊帯溶融法を用いたLiNbO3単結晶の育成（富山大学大学院）○小山皓平、橋爪隆、佐伯淳
P14 RF反応スパッタ法を用いたSiAlON薄膜の作製と評価（富山大学大学院）○松本和晃、橋爪隆、佐伯淳
P15セシウム吸着モルデナイト／アパタイト複合焼結体の作製とそのセシウムイオン浸出挙動（1:金沢工業大学2:物質・材料研究機構）○村松雅士1, 渡辺雄二郎1, 山田裕久2, 小松優1
P16液相法によるビスマス系酸化物超伝導薄膜の作製と配向制御（1: 金沢工業大学、2:国立物理研究所、3: 物質・材料研究機構）○高田龍典1、遠藤和弘1、P.Badica2、有沢俊一3、池永訓昭1、本堂孝幸1、大橋憲太郎1
P17 MOCVD法によるビスマス系2201酸化物超伝導薄膜の作製（1: 金沢工業大学、2:国立物理研究所、3物質・材料研究機構）○金子俊幸1、遠藤和弘1、森口拓文1、竹俣裕理1、P. Badica2、有沢俊一3、池永訓昭1、大橋憲太郎1
P18有機溶媒中での硫化インジウムの電解析出（福井工業高等専門学校）◯山本萌恵、中野あり紗、西野純一
P19近接気化型CVD法装置の作製および酸化チタン系薄膜の合成（福井工業高等専門学校）◯門早織、山田和希、西野純一
P20 Ge-Si結晶混合体の機械的粉砕による非晶質化（金沢大学大学院）室内良隆、◯ 奥野 正幸
参加費 一般1,000円、学生500円（参加申込は当日受付）
申込先 〒916-8507福井県鯖江市下司町
福井工業高等専門学校
西野 純一 TEL0778-62-1111
E-mail: nishinoi@fukui-nct.ac.jp
URL http://www.ceramic.or.jp/shokurik/ |
