参加募集第178回腐食防食シンポジウム 主 催腐食防食学会 協 賛日本セラミックス協会ほか 日 時2013年10月17日（木）10：00～16：50 場 所東京工業大学百年記念館3階フェライト会議室（東京都目黒区） 内 容1.目的，2.腐食による高圧ガス事故事例，3.設備老朽化現象とその特徴，3.1.高温劣化／損傷，3.2.外面腐食，3.3.配管内面損傷，3.4.有機材料劣化／損傷，4.診断技術，4.1.分解炉輻射管の浸炭測定技術の開発，4.2.ノイズ低減型中性子水分計による配管CUIスクリーニングについて，4.3.光ファイバーAE法によるCUIスクリーニング，および肉厚測定の配管への適用，5.発生可能性評価，抑制策事例，5.1.高温劣化／損傷，5.2.外面腐食，5.3.配管内面損傷 参加費会員5,000円，会員外8,000円，学生会員2,000円 申込・連絡先113-0033 文京区本郷2-13-1 腐食防食学会 鹿田和子 TEL 03-3815-1161，FAX 03-3815-1291，E-mail：ysm.hng-113-0033※jcorr.or.jp ◎スパムメール対策のため@の代わりに※が入っています。お手数ですが送信の際は@に変換してご送信ください． 参加募集第47回日本セラミックス協会東海支部東海若手セラミスト懇話会秋期講演会 本会では若手セラミックス研究者，技術者の交流と情報交換を目的として，毎年夏期セミナーと秋期講演会を行っております．若手研究者，技術者の積極的な参加を呼びかけます． 主 催日本セラミックス協会東海支部東海若手セラミスト懇話会 日 時2013年10月18日（金）13：00～19：00 場 所（株）ノリタケカンパニーリミテド 第一研修室（集合場所 ノリタケの森ウェルカムセンター前）（愛知県名古屋市，http://www.noritake.co.jp/mori/） 内 容 13：00 受付開始 13：25 開会挨拶 13：30 招待講演「CVDによるIII族窒化物粒子の作製」（静岡大学）原 和彦 14：55 招待講演「ストレスエンジニアリングによる強誘電体・圧電体ナノ構造の特性制御と機能創発」（名古屋大学）山田智明 16：20 ノリタケの森『クラフトセンター』『森村記念館』見学 17：30 意見交換交流会 参加費一般5,000円，学生3,000円（当日受付） 参加申込締切2013年10月4日（金）（定員70名） 参加申込方法参加申込はhttp://www.atyc.org/2013autumn/sanka.htmlから行ってください． 問合先470-0293 愛知県みよし市三好町東山300 （株）ノリタケカンパニーリミテド開発・技術本部研究開発センター 宮嶋圭太 TEL 0561-34-6215，FAX 0561-34-4997，E-mail：keita-miyajima※n.noritake.co.jp ◎スパムメール対策のため@の代わりに※が入っています。お手数ですが送信の際は@に変換してご送信ください． 参加募集炭素材料学会10月セミナー「1日で学ぶ炭素材料の解析方法─物性と機能評価を中心として─」 主 催炭素材料学会 協 賛日本セラミックス協会ほか 日 時2013年10月18日（金）9：45～17：00 場 所日本教育会館707会議室（東京都千代田区） 内 容炭素材料は発見や開発過程を経て，さまざまな科学的・技術的展開を遂げてきました．活性炭，カーボンブラック，カーボンファイバーなど馴染み深い材料から，主に研究用途のナノカーボン類に至る多彩な材料が，多岐にわたる分野で用いられています．近年は燃料電池やリチウムイオンバッテリー，キャパシタなど人類の将来に関わるエネルギー・環境問題に対応できるキーマテリアルとして多大な注目を集めています．炭素材料の機能と性質を正しく理解し，応用開発をめざすために必要な測定法を1日で学べる基礎講座を企画しました．興味をもたれる方々，かかわっている方々の分析基礎知識を修得・確認する場として是非ご利用ください．講師の先生方に直接質問できる時間も用意しました．皆様のご参加をお待ちしております． 参加費正会員（協賛学協会含）・賛助会員25,000円，学生会員5,000円，非会員35,000円，学生非会員10,000円 申込締切定員90名 申込・連絡先169-0075 東京都新宿区高田馬場4-4-19 （株）国際文献印刷社内炭素材料学会事務局 深津和希 TEL 03-5389-6359，FAX 03-3368-2827，E-mail：tanso-desk※bunken.co.jp ◎スパムメール対策のため@の代わりに※が入っています。お手数ですが送信の際は@に変換してご送信ください． 参加募集第33回エレクトロセラミックス研究討論会 主 催日本セラミックス協会電子材料部会 協 賛日本化学会ほか 開催日2013年10月24日（木）9：50～17：00～25日（金）10：50～17：00 場 所文部科学省研究交流センター（茨城県つくば市竹園2-20-5） 参加費事前登録（A）主催学会員・協賛学会員8,000円，（B）学生3,000円，一般10,000円 当日申込（A）主催学会員・協賛学会員10,000円，（B）学生3,000円，一般12,000円 参加申込締切2013年10月18日（金） 参加申込方法申込サイト（http://www.cersj.org/elecera-apply.html）から行ってください． 奨励賞表彰式・懇親会2013年10月25日（金）17：30より，参加費4,000円（学生無料） 問合先日本セラミックス協会電子材料部会（E-mail：e-touron※cersj.org） プログラム 10月24日（木） A会場 9：50～10：00 開会挨拶（部会長） 10：00～12：00 誘電体セラミックス1 1A01 高周波用新規LTCC材料の誘電特性（村田製作所）○杉本安隆，森 直哉，守屋要一，高田隆裕 1A02 化学気相法によって作製したPb（Mg1/3Nb2/3）O3-PbTiO3エピタキシャル膜の電気特性の膜厚依存性（1東工大，2上智大，3防衛大）○舟窪 浩1，岡本 賢1，横山信太郎1，内田 寛2，西田 謙3，山本 孝3 1A03 AD法で作製したチタン酸ビスマスナトリウム自立膜の絶縁特性（産総研）○鈴木宗泰，明渡 純 1A04 板状粒子と強磁場を用いた圧電セラミックスの多軸配向制御（1物材機構，2村田製作所）○鈴木 達1，三輪恭也2，川田慎一郎2，打越哲郎1，目 義雄1 13：30～15：00 誘電体セラミックス2 1A05 ペロブスカイト型酸化物における欠陥形成と原子拡散の第一原理計算（東大生研）○溝口照康，山本貴志 1A06 誘電体膜の界面構造が酸素拡散に及ぼす影響（1太陽誘電，2物材機構）○鈴木淳平1，松本研司1，岩崎誉志紀1，鈴木利昌1，渡邉 賢2，橋口未奈子2，坂口 勲2，大橋直樹 1A07 BiFeO3-BaTiO3系セラミックスのマルチフェロイック特性（富山県工業技術セ）○二口友昭，角田龍則，坂井雄一 15：30～17：00 高温電子セラミックス 1A08 ゲーレナイトCa2Al2SiO7圧電単結晶の高温電気特性（1慶大，2東工大）○萩原 学1，保科拓也2，武田博明2，藤原 忍1，鶴見敬章2 1A09 CaドープによるBaTiO3-（Bi1/2A1/2）TiO3（A=Na, K）半導体セラミックスの作製（東工大）○武田博明，堆 仁美，杉山裕武，ズベア A.モハメド，保科拓也，鶴見敬章 1A10 La-Nb共添加系還元SrTiO3セラミックスにおける熱電変換性能（岡山大）○寺西貴志，石川裕介，林 秀考，岸本 昭 10月24日（木） B会場 10：00～11：00 一般 1B01 非化学量論組成ガラスの完全表面結晶化：ドメイン構造と光物性（東北大）○高橋儀宏，山岡一樹，山崎芳樹，井原梨恵，藤原 巧 1B02 大気圧プロセスを用いたPd触媒担持WO3膜の作製とオプティカル水素検知特性（関東学院大）○濱上寿一 10：00～11：00 薄膜 1B03 ナノ秒その場計測技術に基づくエキシマレーザープロセスの高度化（産総研）○篠田健太郎，中島智彦，土屋哲男 1B04 LaAlO3/SrTiO3（001）ヘテロ構造のSTM/STSと電子伝導特性（1物材機構，2東北大）○大澤健男1，清水亮太2，岩谷克也2，白木 将2，一杉太郎2 13：30～15：00 ナノクリスタル1 1B05 チタン酸バリウム系ナノ粒子セラミックスの相転移（東工大）○保科拓也，古田 努，山崎貴弘，武田博明，鶴見敬章 1B06 チタン酸バリウムナノ粒子の単一ドメインの安定条件（産総研）○安井久一，加藤一実 1B07 パターニングを施した基板上へのチタン酸バリウムナノキューブ配列集積膜の作製と評価（産総研）○三村憲一，加藤一実 15：30～17：00 ナノクリスタル2 1B08 ニオブ酸カリウムナノキューブのソルボサーマル合成（山梨大）○中島光一，上野慎太郎，和田智志 1B09 高密度ナノポア含有ニオブ酸カリウム多孔体セラミックスの作製とその強誘電特性（1山梨大，2本田技研）○和田智志1，深澤主樹1，前田和樹1，上野慎太郎1，中島光一1，藤元岳洋2，須磨和浩2，鋤柄 宜2 1B10 酸化イットリウムナノ粒子の液相レーザーアブレーション合成における粒子表面の水素化の影響（1法政大，2物材機構）Sharif Abdullah Al Mamun1，○石垣隆正1，打越哲郎2，角谷正友2 10月25日（金）A会場 10：00～12：00 環境・エネルギー（電池特別セッション） 2A01【招待講演】革新電池の課題と新展開（トヨタ自動車）○射場英紀 2A02【招待講演】硫化物固体電解質を用いた全固体電池の開発（阪府大）○林 晃敏，辰巳砂昌弘 2A03【依頼講演】水系電解質電気化学キャパシタ用の酸化物ナノシート積層体電極（1東大先端術研，2JST-CREST）○宮山 勝1,2，姿 祥一1，矢野雅人1，鈴木真也1 15：30～17：00 電子セラミックス 2A08 還元焼成したSrCoO3添加系バリスタの特性発現と卑金属電極の積層バリスタへの適用（パナソニック）○東 佳子，鳳桐将之，古賀英一 2A09 SrCoO3添加系ZnOセラミック積層素子の放電特性（パナソニック）○古賀英一，東 佳子，鳳桐将之 2A10 ドープした酸化スズ中の水素の挙動と導電性（1物材機構，2九大，3UCサンタバーバラ，4PDIベルリン東大，5東工大元素）渡邊 賢1，坂口 勲1,2，安達 裕1，橋口未奈子1，高橋涼介1,2，Brian Alex1，Ross Emily1，Bierwagen Oliver3,4，Speck James4，大澤健夫4，○大橋直樹1,2,5 10月25日（金）B会場 15：30～17：00 環境・エネルギー 2B08 リチウムイオン二次電池用のLi吸蔵セラミックスへのCNF（Multi-Wall CNT）による被覆効果（三菱マテリアル）○秋草 順，中村賢蔵，山口尚志 2B09 NSICON型ナノワイヤーの作製とNaイオン電池正極材料への応用（1産総研，2物材機構）○細野英司1，梶山智司1，大久保將史2，星野純一1，朝倉大輔1，周 豪慎1，吉川 純2 2B10 酸化物イオン伝導性オキシアパタイトの合成プロセス開発から電解質特性解明まで（1物材機構，2東理大，3法政大）○小林 清1，北嶋将太2，三原俊哉3，高橋聡志3，鈴木 達1，打越哲郎1，樋口 透2，明石拓也3，石垣隆正3，目 義雄1 10月25日（金）ポスター会場 13：00～15：00 ポスターセッション 2P01 酸化亜鉛へのWO3の添加と格子欠陥に関する研究（物材機構）○坂口 勲，斎藤紀子，鈴木 拓，安達 裕，橋口未奈子，大橋直樹，菱田俊一 2P02 緻密質酸化スズセラミックスの作製におけるZnOおよびSb2O5の添加効果（物材機構）○橋口未奈子，坂口 勲，菱田俊一，大橋直樹 2P03 水熱法による種々の金属／チタン酸バリウム複合キャパシタの作製とその誘電特性（山梨大）○上野慎太郎，坂本康直，中島光一，和田智志 2P04 CeB4の合成とFZ法による単結晶育成（物材機構）○大谷茂樹，瀬川浩代，大橋直樹 2P05 プラセオジム添加酸化亜鉛［0001］対称傾角粒界における構造ユニットの傾角の関係（1東大，2JFCC，3東北大）○盧 智英1，佐藤幸生1，幾原雄一1,2,3 2P06 酸化亜鉛粒子の合成とガスセンサ特性（1物材機構，2レンヌ第一大）○齋藤紀子1，渡邊 賢1，坂口 勲1，タンギオベール2，ファビアングラッセ2，羽田 肇1 2P07 メルト合成によるEu2+を付活したRb-Sc-Si-O系ガラス蛍光体の合成（新潟大）○金善旭，長谷川拓哉，石垣 雅，上松和義，戸田健司，佐藤峰夫 2P08 BaおよびSi添加低電圧用Bi系ZnOバリスタの熱処理による界面構造変化が電気特性に及ぼす影響（同志社大）○久保田敦子，佐藤祐喜，吉門進三 2P09 振動電極を用いた分極ハイドロキシアパタイト上の電場測定（東京医歯大）○堀内尚紘，野崎浩佑，中村美穂，永井亜希子，山下仁大 2P10 室温固相反応を用いたYVO4の合成（1新潟大，2N-Luminescence）○兼子達朗1，金善旭1，石垣 雅1，上松和義1，戸田健司1，佐藤峰夫1，小出順子2，戸田雅子2，工藤嘉昭2 2P11 白色発光蛍光体Ba2TiP2O9の結晶構造解析及び蛍光特性評価（新潟大）○長谷川拓哉，金 善旭，亀井真之介，石垣 雅，上松和義，戸田健司，佐藤峰夫 2P12 SrCoO3のみを添加した酸化亜鉛バリスタの粒界構造および電気特性の評価（同志社大）○黒川和希，佐藤祐喜，吉門進三 2P13 酸化スズにおける水素不純物の影響（物材機構）○渡邉 賢，アレックスブライアント，安達 裕，坂口 勲，大橋直樹 2P14 高品質（Bi,Na）TiO3-BaTiO3強誘電体単結晶の放射光構造解析と電界誘起歪み特性評価（1東大先端研，2広島大）○荻野元裕1，平野聖尭1，北中佑樹1，野口祐二1，宮山 勝1，森吉千佳子2，黒岩芳弘2 2P15 （K0.5Bi0.5）Bi4Ti4O15セラミックスの作製と電気的諸特性（東理大）○西尾元太，永田 肇，竹中 正 2P16 新規強誘電体シリケート化合物KNbSi2O7単結晶の作製（東工大）○佐橋 明，保科拓也，武田博明，鶴見敬章 2P17 耐還元（Ba,Ca）TiO3圧電セラミックスの作製とその特性（1名大エコトピア，2リコー）○市川大樹1，守谷 誠1，坂本 渉1，秋山善一2，余語利信1 2P18 Ca（Zr,Ti）O3セラミックスの絶縁破壊強度と誘電率の関係性（東工大）○山崎幹雄，和泉達也，保科拓也，武田博明，鶴見敬章 2P19 粒子サイズ制御した（Li,Na,K）NbO3セラミックスの圧電特性（1名工大，2太陽誘電）○加藤健佑1，柿本健一1，波多野桂一2，小林圭介2，土信田豊2 2P20 ニオブ系無鉛圧電セラミックスの高温導電性（名工大）○渡邉桃子，柿本健一，籠宮 功 2P21 （Bi0.5Na0.5）TiO3系非鉛強誘電体セラミックスの高温ハイパワー圧電特性（東理大）○染野晋也，永田 肇，竹中 正 2P22 焦電性結晶の熱励起によるX線発生におけるX線強度の安定性の改善（1同志社大，2京大化研）○成瀬史彦1，本田博敬1，中西義一1，伊藤嘉昭2，佐藤祐喜1，吉門進三1 2P23 Ba（Mg1/3Ta2/3O3セラミックスの高密度化（同志社大）○岸本 崇，佐藤祐喜，吉門進三 2P24 ビスマス系酸化亜鉛バリスタの電気特性へのイットリウム，アンチモン，シリコン酸化物添加の効果に関する研究（同志社大）○児島悠也，佐藤祐喜，吉門進三 2P25 （K,Na,Li）（Nb,Sb）O3基セラミックスの合成と圧電特性（名城大）○守山 徹，菅 章紀，高橋 奨，小川宏隆 2P26 低抵抗率をもつチタン酸バリウム系半導体セラミックスの作製（東工大）○松浦耕平，保科拓也，武田博明，坂部行雄，鶴見敬章 2P27 層状タングステン酸化物の電気化学キャパシタ電極特性（東大先端研）○金 恩汎，鈴木真也，宮山 勝 2P28 酸化チタンおよび酸化亜鉛を用いたAg2S量子ドット増感太陽電池の作製（慶大）○結城拓哉，萩原 学，藤原 忍 2P29 2価陽イオンを固溶した（La,Li）TiO3のリチウムイオン伝導性（東工大）○大貫和正，保科拓也，武田博明，鶴見敬章 2P30 CuInSe2における粒界原子構造と欠陥形成挙動（1東大生研，2東工大応セラ研）○山口裕之1，平松秀典2，細野秀雄2，溝口照康1 2P31 オキシアパタイト型ランタンゲルマネートの新規低温合成プロセス開発と伝導度測定（1東理大，2物材機構）○北嶋将太1,2，小林 清2，樋口 透1，目 義雄2 2P32 SOFC用YSZ粉末の水熱法および均一沈殿法による合成（東海大）○三森 拓，吉永昌史 2P33 液相沈殿法によるSOFC電極用CeO2ベース酸化物の合成（東海大）○吉永昌史，大槻 潮，羽切祐史 2P34 PTFEを用いたMF3（M=V, Fe）型フッ化物電極材料の合成（新潟大）○鳥井弘渉，上松和義，石垣 雅，戸田健司，佐藤峰夫 2P35 強磁場コロイドプロセス法を用いたオキシアパタイト型ランタンシリケート配向バルク体の作製（1物材機構，2法政大）○高橋聡志1,2，小林 清1，鈴木 達1，目 義雄1，石垣隆正2，打越哲郎1 2P36 オキシアパタイト型固体電解質／LaCoO3の反応性及び空気極特性評価（1法政大，2物材機構）○三原俊哉1，小林 清2，明石孝也1，目 義雄2 2P37 低温駆動YSZ酸素センサーの実現に向けたPt／酸化物ハイブリッド薄膜電極の検討（1東工大，2静岡大）○塩田 忠1，永原和聡2，浜崎純一1，櫻井 修1，篠﨑和夫1，脇谷尚樹2 2P38 複酸化物電極を用いた色素増感太陽電池の作製と評価（筑波大）○岡本裕二，鈴木義和 2P39 チタン酸バリウムの微構造制御と圧電特性（筑波大）○川島 由，鈴木義和（筑波大） 2P40 Synergistic effect between TiO2 and ubiquitous metal oxides on photocatalytic activity of composite nanostructures（1物材機構，2Chernivtsy National University, Ukraine, 3東大）○Ivan Turkevych1, Sofia Kosar2, Yuriy Pihosh3, Kazuma Mawatari3, Takehiko Kitamori3, Jinhua Ye1, Kiyoshi Shimamura1 2P41 噴霧熱分解法によるナトリウムイオン電池用Na2/3Fe1/3Mn2/3O2正極活物質の合成および電気化学的特性（福井大）○小寺喬之，荻原 隆 2P42 噴霧熱分解法により合成したLiNi1/3Co1/3Mn1/3O2正極材料の化学組成が充放電特性に及ぼす影響（福井大）○見並竜馬，小寺喬之，荻原 隆 2P43 ゾル－ゲル法を用いて作製した蛍光体薄膜の光学特性に対する微細構造の影響（慶大）○増田万江美，萩原 学，藤原 忍 2P44 不純物添加ZnO薄膜の構造特性（物材機構）○安達 裕，坂口 勲，大橋直樹，羽田 肇 2P45 収差補正電子顕微鏡によるPb（Mg1/3Nb2/3）O3薄膜における化学的秩序構造の原子分解能観察（1東北大，2東北大金研，3名大）○範滄宇1，木口賢紀2，安本 洵3，山田智明3，長崎正雅3，今野豊彦2 2P46 Improvement of the interfacial and electrical properties of HfLaOx films deposited on GaAs（111）substrate（1物材機構，2Shanghai Institute of Microsystem and Information Technology）○Tingting Jia1, Hideo Kimura1, Hongyang Zhao1, Xinhong Cheng2, Yuehui Yu2 2P47 MBE法によるサファイア基板上へのScN薄膜のヘテロエピタキシャル成長（物材機構）○大垣 武，渡邉 賢，坂口 勲，菱田俊一，大橋直樹，羽田 肇 2P48 高耐熱抵抗体材料に向けたペロブスカイトMn酸化物膜の開発（産総研）○篠田健太郎，中島智彦，土屋哲男 2P49 MoSi2-Si複合体薄膜の抵抗率の温度依存性（同志社大）○木谷僚介，金井 遼，佐藤祐喜，吉門進三 2P50 安定した静電容量温度係数を有するビスマス層状構造誘電体薄膜の材料設計指針（1上智大，2東工大，3東北大）近藤陽太1，木村純一2，木口賢紀3，今野豊彦3，舟窪 浩2，○内田 寛1 2P51 Al2O3-TiO2-MgO系低熱膨張性セラミックスの微構造制御と電気特性（筑波大）○牧 涼介，鈴木義和 2P52 ナノシート集積法によるペロブスカイト人工超格子の作製（物材機構MANA）○李 宝文，長田 実，海老名保男，佐々木高義 2P53 ナノシートを利用したペロブスカイト薄膜の精密集積（物材機構MANA）○Dong Lei，長田 実，海老名保男，佐々木高義 2P54 SPMによる単一酸化物ナノシートの物性評価（1早大，2物材機構MANA）○金尹鉉1,2，長田 実1,2，海老名保男2，佐々木高義2 2P55 二種類の酸化チタンナノ粒子を用いた電気泳動法による複合薄膜の作製と評価（同志社大）○川上 亮，佐藤祐喜，吉門進三 URLhttps://www.ceramic.or.jp/bdenshi/index_j.html ◎スパムメール対策のため@の代わりに※が入っています。お手数ですが送信の際は@に変換してご送信ください． 参加募集平成25年度材料科学基礎講座「最先端電池の材料科学」 主 催日本材料科学会 協 賛日本セラミックス協会ほか 日 時2013年11月6日（水）9：55～16：55 場 所東京電機大学東京千住キャンパス（東京都足立区） 内 容日本の技術が市場の最先端を切り拓いているリチウムイオン電池と燃料電池．これら最先端の電池についての構造と動作原理，その材料設計，機能と安全性の評価についての基礎講座を，材料の基礎科学と専門教育を重視する日本材料科学会が提供します．電池分野に参入された研究者・技術者や事業企画，技術営業，特許の担当者，さらにはマネジメントに関わる方々，そして学生の方々にも参加をお勧めします．講座を聴講して得た基礎知識が専門知識の理解を助け，みなさまの技術創造の基礎を与えてくれます． 参加費当学会会員（協賛学協会会員含）15,000円，一般20,000円，学部生・院生5,000円 申込締切2013年10月30日（水）（定員60名） 申込・連絡先102-0081 東京都千代田区四番町8-1 （株）裳華房内日本材料科学会材料科学基礎講座係 TEL 03-3262-9166，FAX 03-3262-7257，E-mail：mssj※shokabo.co.jp URLhttp://www.mssj.gr.jp/kisokoza25.htm ◎スパムメール対策のため@の代わりに※が入っています。お手数ですが送信の際は@に変換してご送信ください． 参加募集中性子・材料科学と新しいJMTR─材料科学の発展と社会への貢献─ 主 催日本金属学会 協 賛日本セラミックス協会ほか 日 時2013年11月6日（水）13：00～17：30 場 所東北大学金属材料研究所1号館大会議室（宮城県仙台市） 内 容福島原発事故以来，我が国のエネルギー政策は予断を許さない状況にあるが，今後も引き続き核エネルギーを安全に利用していくためには，原子力材料などの不断の研究活動が不可欠である．また，広い視野から見た中性子を活用する材料科学の発展やそれに基づいた社会貢献も期待されている．そこで，本シンポジウムでは，当該研究分野の一層の発展に向け，「材料と中性子」に焦点を当てて，今後の原子力材料に関わる研究開発の意義や動向について議論し，これからの当該分野を支える学生や若手研究者と共に，新しい認識を共有することを目的とする．本シンポジウムは，まず，大学などを中心とする原子力材料の研究の現状と今後の期待についての総括的な講演で始まり，続いて，新しく生まれ変わる材料試験炉（JMTR）の仕様，性能，照射機能を紹介するとともに，それらを効果的に活用した中性子照射実験の提案例を示す．次に，原子炉材料研究開発および核融合炉材料研究開発の課題解決における中性子照射実験の必要性や効能についての講演があり，終盤では産業界における原子力材料研究の現状と今後の期待について講演する．最後に，これらの講演を参照しつつ，材料科学のより俯瞰的な観点からの物質や材料の機能・性能に及ぼす中性子照射の影響やそれに伴う損傷形成および機能発現のメカニズムを解明するための「材料照射研究の在り方」について議論する．合わせて，当該研究分野の「社会貢献の在り方」についても議論する．多くの皆様のご参加をお願いいたします． 参加費（事前申込）会員（協賛学協会会員含）10,000円，学生5,000円，非会員15,000円；（当日申込）会員（協賛学協会会員含）12,000円，学生6,000円，非会員18,000円 申込締切2013年10月31日（木）着信 申込・連絡先980-8544 仙台市青葉区一番町1-14-32フライハイトビル2階 日本金属学会 シンポジウム参加係 TEL 022-223-3685，FAX 022-223-6312，E-mail：meeting※jim.or.jp URLhttp://jim.or.jp/EVENTS/subcom/sub_index.html ◎スパムメール対策のため@の代わりに※が入っています。お手数ですが送信の際は@に変換してご送信ください． 参加募集第38回顔料物性講座 主 催色材協会 協 賛日本セラミックス協会ほか 日 時2013年11月13日（水）9：40～16：20 場 所東京塗料会館（東京都渋谷区恵比寿3-12-8） 内 容アベノミクスの三本の矢の成長戦略で，全員参加の成長戦略が提唱されており，色材の能力を発揮できる技術開発が求められています．そこで，今回の顔料物性講座では，「色材における成長戦略」をテーマとし，可視光応答光触媒，低温焼成型銅ペースト，フラーレン，ナノカーボンの構造的特徴とデバイス応用，ナノ粒子の安全性向上をピックアップしました．各講師の方々はこの分野で活躍されている研究者で，一歩踏み込んだ技術性の高い講演を基礎から応用までわかりやすく講演して頂き，成長戦略につながる技術のヒントが得られるものと確信しております． 参加費会員（協賛学協会会員含）19,000円，非会員29,000円 申込締切定員になり次第締切 申込・連絡先150-0013 東京都渋谷区恵比寿3-12-8東京塗料会館201 色材協会事務局 TEL 03-3443-2811，FAX 03-3443-3699，E-mail：shikizai715※jasmine.ocn.ne.jp URLhttp://www.shikizai.org/index.html ◎スパムメール対策のため@の代わりに※が入っています。お手数ですが送信の際は@に変換してご送信ください． 参加募集第4回セラミックスの基礎学問研修会 主 催日本セラミックス協会中国四国支部 共 催岡山セラミックス技術振興財団・耐火物技術協会中国四国支部 内 容耐火物，セラミックス分野で活躍する研究者・技術者，学生を対象として，「これだけは知っておきたい基礎」「知って役立つ技術」を学ぶための研修会を開催します．関係各位の多数の御参加を頂きたく御案内いたします． 日 時2013年11月13日（水）9：25～16：30，14日（木）9：00～16：10 会 場ピュアリティまきび孔雀の間（岡山県岡山市北区下石井2-6-41 TEL 086-232-0511 FAX 086-224-2995） 参加費会員（主催・共催団体）2,500円／1日，会員外3,500円／1日，学生1,000円／1日 定 員50名／各日（定員に達しましたら締切前でも受付を終了いたします．） 申込締切2013年11月5日（火）必着 申込方法別紙の申込書を御利用の上FAXでお申込頂くか，必要事項をメールで送信くださるようお願いします． 申込先705-0221 備前市西片上1406番地18 日本セラミックス協会中国四国支部 担当 藤原麻由那 TEL 0869-64-0505，FAX 0869-63-0227，E-mail：fujiwara-m※optic.or.jp プログラム ［11月13日（水）］ 開会挨拶 9：25～9：30 日本セラミックス協会中国四国支部 支部長 三宅通博 9：30～11：00 講義1セラミックスの概論「機能性セラミックスについて」（岡山大学大学院環境生命科学研究科）三宅通博 11：00～11：10 休憩 11：10～12：40 講義2セラミックス技術の基礎「微粉末合成」（岡山大学大学院環境生命科学研究科）亀島欣一 12：40～13：20 昼食休憩 13：20～14：50 講義3セラミックス技術の基礎「成形と焼結」（品川リフラクトリーズ（株））前田榮造 15：00～16：30 講義4こうすればできるセラミックスの評価「粉体・焼結体構造」（長岡技術科学大学名誉教授）植松敬三 ［11月14日（木）］ 9：00～10：30 講義5知って役立つ合成プロセス「液相からの合成」（岡山大学大学院自然科学研究科）早川 聡 10：30～10：40 休憩 10：40～12：10 講義6セラミックスへの相平衡「状態図と化学熱力学の活用方法」（岡山セラミックス技術振興財団）山口明良 12：10～13：00 昼食休憩 13：00～14：30 講義7知って役立つ合成プロセス「水熱合成」（高知大学理学部付属水熱化学実験所）柳澤和道 14：30～14：40 休憩 14：40～16：10 講義8「セラミックスの機械的性質」（岡山大学大学院自然科学研究科）岸本 昭 URLhttps://www.ceramic.or.jp/schugoku/ ◎スパムメール対策のため@の代わりに※が入っています。お手数ですが送信の際は@に変換してご送信ください． 参加募集第363回講習会「研究室見学付き基礎講座放電加工の基礎から最新技術まで─基礎原理と難削材，次世代半導体材料，微細形状の最新加工─」 主 催精密工学会／精密測定技術振興財団 共催 協 賛日本セラミックス協会ほか 日 時2013年11月20日（水）10：00～17：30 場 所東京大学本郷キャンパス11号館講堂（東京都文京区） 内 容ここ数年，高速度ビデオカメラやコンピュータシミュレーション技術，各種精密測定技術を利用した放電加工現象の解明や，セラミック系複合材料や樹脂系複合材料，次世代パワー半導体として脚光を浴びるSiCなどの難削材への放電加工の応用，また微細加工に関する研究が盛んです．一方，高速切削技術の著しい進歩により，従来放電加工や電解加工でしか成し得なかった高硬度な金型や部品材料の仕上げ加工が速度の速い切削でも可能になり，放電加工の更なる発展と技術革新が求められています．技術のブレークスルーを実現するには，基礎からの加工現象の把握は不可欠です．その点を丁寧に，さらに難削材の加工や微細加工における最新動向について講義頂きます．また，非接触で非常に硬い金属材料でも加工できる放電加工と共通の特徴を持つ電解加工は，ここ数年微細加工や高速加工への応用で再び注目されています．そこで，技術特徴，最新動向や放電加工との棲み分けについて解説頂きます．なお，東京大学国枝研究室の見学も予定しています． 参加費会員（賛助会員および協賛団体会員含）15,000円，非会員25,000円［会員・非会員とも講習会テキスト代含］，学生会員無料（ただし，講習会テキスト入用の場合は4,000円をご負担ください），学生非会員6,000円（講習会テキスト代含） 申込締切2013年11月13日（水） 申込・連絡先102-0073 東京都千代田区九段北1-5-9 九段誠和ビル2F 精密工学会講習会係 TEL 03-5226-5191，FAX 03-5226-5192，E-mail：jspe_koushu※jspe.or.jp URLhttp://www.jspe.or.jp/event/koshukai/kaikoku/363.pdf ◎スパムメール対策のため@の代わりに※が入っています。お手数ですが送信の際は@に変換してご送信ください． 参加募集第42回薄膜・表面物理基礎講座（2013）「薄膜の成長過程の解明と制御：薄膜のナノ構造を自由に制御するために」 主 催応用物理学会 薄膜・表面物理分科会 協 賛日本セラミックス協会ほか18学協会 日 時2013年11月25日（月）10：00～17：20 場 所東工大蔵前会館ロイアルブルーホール（東京都目黒区） 内 容薄膜プロセスはLSIからパワーエレクトロニクスまで，ナノ構造を制御して高性能・高機能デバイスを作製する際の要であり，電子物性やデバイス応用に合わせてさまざまな手法が用いられています．しかし，昨今開発スピード重視で創製やその評価研究に重点がおかれ，プロセスのメカニズム解明やその知見を元にした制御手法の研究についてはやや手薄になっている感があります．そこで，薄膜の成長過程の解明を切り口に，成膜プロセスの制御について横断的かつ系統的に議論を深めることで，基礎から応用まで，また，無機材料から半導体まで，成膜メカニズム解明における種々の知見から見いだされる新たな制御手法やアイディアの創出をはかり，ひいては，薄膜開発のスピ－ドアップや新規薄膜の開発に資するべく，今回企画しました． プログラム概要(1)薄膜作製展望「成膜過程における核生成過程の解明と制御の展開／総論」 （埼玉大学）矢口裕之，(2)「3次元ナノ構造作製とその物性解析」（大阪大学）田中秀和，(3)「ITO膜の成長メカニズムの解明やその制御」（青山学院大学）重里有三，(4)「量子ドットの創製プロセスの解明とその制御」（東京大学）荒川泰彦，(5)「ナノカーボン（グラフェン，カーボンナノチューブ）の成長機構とその制御」（九州大学）吾郷浩樹，(6)「SiCのエピタキシャル成長機構と欠陥低減化技術」（電力中研）土田秀一 参加費薄膜・表面物理分科会員10,000円，応物・協賛学協会員15,000円，学生3,000円，その他20,000円 申込締切2013年11月11日（月）（定員80名） 申込・連絡先113-0034 東京都文京区湯島2丁目31-22湯島アーバンビル7階 人応用物理学会分科会担当 上村さつき TEL 03-5802-0863，FAX 03-5802-6250，E-mail：kamimura※jsap.or.jp URLhttps://annex.jsap.or.jp/phpESP/public/survey.php?name=HakuhyouKisokouza42 ◎スパムメール対策のため@の代わりに※が入っています。お手数ですが送信の際は@に変換してご送信ください． 参加募集日本セラミックス協会資源・環境関連材料部会第9回セラミックス化学分析技術セミナー 主 催日本セラミックス協会資源・環境関連材料部会（化学分析分科会），東京都立産業技術研究センター 協 賛日本分析化学会 日 時 2013年11月27日（水）10：00～17：00（意見交換会17：00～18：30） 場 所 東京都立産業技術研究センター本部 会議室531，食堂（意見交換会） 内 容 10：00～10：05 開会の辞（日本セラミックス協会資源・環境関連材料部会長）三宅通博 10：05～10：15 挨拶（東京都立産業技術研究センター理事長）片岡正俊 10：15～11：00 【講演1】「グロー放電技術を使った計測装置とアプリケーション」（（株）堀場製作所開発本部分析センター）平野彰弘 11：00～12：30 東京都立産業技術研究センター内見学および概要説明 12：30～13：40 昼食 13：40～14：40 【講演2】「ICP発光分析の原理と最新のアプリケーション」（（株）日立ハイテクサイエンス分析応用技術部）並木健二 14：40～15：00 休憩 15：00～15：45 【講演3】「レーザーアブレーションICPの基礎と応用」（（株）パーキンエルマージャパンEH分析事業部）小林恭子 15：45～16：45 【講演4】「蛍光X線分析における試料処理と分析例」（（株）リガク大阪分析センター）渡邉健二 16：45～16：50 閉会の辞 17：00～18：30 意見交換会（技術交流会）講師および参加者による意見交換 参加申込方法氏名（ふりがな）と所属（勤務先・学校名）意見交換会参加の有無を明記し，下記の申込先へE-mailかFAXで申込ください． 参加費主催・協賛学協会員7,000円，非会員9,000円，学生3,000円（いずれも資料代含），意見交換会2,500円．以上を当日会場受付で申し受けます． 申込締切2013年11月20日（水） 申込先169-0073 東京都新宿区百人町2-22-17 （公社）日本セラミックス協会資源・環境関連材料部会 第9回セラミックス化学分析技術セミナー係 遠藤由紀子 TEL 03-3362-5231，FAX 03-3362-5714，E-mail：raw-apply※cersj.org URL：https://www.ceramic.or.jp/bgenryo/index_j.html ◎スパムメール対策のため@の代わりに※が入っています。お手数ですが送信の際は@に変換してご送信ください． 参加募集日本技術士会化学部会11月度講演会 主 催日本技術士会化学部会 協 賛日本セラミックス協会ほか 日 時2013年11月28日（木）13：30～17：00 場 所葺手第2ビル5階日本技術士会会議室（東京都港区虎ノ門4-1-20田中山ビル隣） 内 容講演1「ナノバイオデバイス～脳機能診断・がん早期診断まで～（仮題）」（東京大学工学系准教授）一木隆範，講演2「医療用のドライシルバーフィルム～塗布方式による機能性フィルム開発～（仮題）」（元富士フイルム，技術士・応用理学部門）畠山 晶 参加費日本技術士会，日本セラミックス協会会費1,000円（技術士補およびJABEE認定コース修了者も会員並み），一般2,000円 申込締切2013年11月21日（木） 申込・連絡先140-0011 東京都品川区東大井5-15-14-1301 沢木技術士事務所 沢木 至 TEL 03-6433-9696，FAX 03-6433-9696，E-mail：cycle.sawaki※nifty.com URLhttps://www.engineer.or.jp/ippan/dmsw0211.php ◎スパムメール対策のため@の代わりに※が入っています。お手数ですが送信の際は@に変換してご送信ください． 参加募集日本セラミックス協会関西支部セミナー「未来を創るセラミック技術」 主 催日本セラミックス協会関西支部 協 賛（予定）日本化学会近畿支部，近畿化学協会，応用物理学会，粉体粉末冶金協会，日本材料学会 日 時2013年11月29日（金）10：00～17：00 場 所（株）村田製作所本社ホール（京都府長岡京市東神1-10-1）（JR長岡京駅東口徒歩約1分，阪急長岡天神駅東口徒歩約15分） 内 容セラミックスは建材，家電，IT製品等，多くの分野で利用されており，今日の社会の発展を支えてきました．今後，さらに発展するユビキタスネットワークやサステイナブルテクノロジーなどにおいてもセラミックスがその主役の一翼を担うことは間違いありません．本セミナーでは未来の社会の発展に大きく寄与するセラミック技術の研究開発を第一線で推進されている著名な先生方をお招きし，セラミックス技術や応用領域のトレンドについてわかりやすく解説頂きます． 講 演（五十音順） 参加費日本セラミックス協会・協賛学協会員 一般5,000円，学生2,000円．同シニア会員・永年継続会員2,000円．支部賛助会員企業1名 無料，2人目からは5,000円．会員外 一般10,000円，学生2,000円 資料費USB媒体は無料，紙媒体は一冊1,000円，USB媒体資料を御希望の方は各自PCを御持参ください． 懇親会メルパルク京都にて懇親会を開催（18：00～20：00），会費5,000円は参加費と併せて当日セミナー会場にてお受けします． 申込方法参加希望の方は，以下の内容を下記問合先まで連絡ください． 問合先日本セラミックス協会関西支部 担当幹事 安藤 陽 520-2393 滋賀県野洲市大篠原2288 （株）村田製作所技術開発本部次世代技術研究所 TEL 077-586-8364，FAX 077-586-8798，E-mail：a_ando※murata.co.jp（＠は小文字に変更ください） ◎スパムメール対策のため@の代わりに※が入っています。お手数ですが送信の際は@に変換してご送信ください． 参加募集化学電池材料研究会第33回講演会 主 催日本化学会電気化学ディビジョン化学電池材料研究会 協 賛日本セラミックス協会ほか 日 時2013年12月18日（水）13：30～16：50 場 所東京理科大学森戸記念館第1フォーラム（東京都新宿区） 内 容近年，非常に注目を集めているリチウムイオン電池の研究について，国内の著名な3名の研究者に最新の研究トピックを講演して頂く．今回は計算科学をキーワードにリチウムイオン電池材料設計指針の獲得に向けて展開できるような講演内容となっている．「第一原理XANES計算で明らかにする正極材料中の局所構造」（名古屋工業大学）田村友幸；「ナノ構造解析と第一原理計算の連携によるLiイオン電池材料研究」（ファインセラミックスセンター ナノ構造研究所）森分博紀；「京コンピュータ上での第一原理分子動力学計算を用いたリチウムイオン二次電池の電解液化学反応とSEI形成過程の微視的解析」（物質材料研究機構，科学技術振興機構，京都大学触媒・電池元素戦略ユニット）館山佳尚 参加費会員（協賛学協会会員含）19,000円，非会員29,000円 申込締切2013年12月11日（水）（定員100名） 申込・連絡先305-0044 茨城県つくば市並木1-1 物質・材料研究機構ナノ材料科学環境拠点界面制御電池材料創製グループ 西川 慶 TEL 029-851-3354 ex.4167，FAX 029-860-4984，E-mail：denchi※inorg777.apchem.ues.tmu.ac.jp URLhttp://inorg777.apchem.ues.tmu.ac.jp/battery.htm ◎スパムメール対策のため@の代わりに※が入っています。お手数ですが送信の際は@に変換してご送信ください． 講演募集第5回日本複合材料会議（JCCM-5） 主 催日本材料学会 協 賛日本セラミックス協会ほか 日 時2014年3月4日（火）～6日（木） 場 所キャンパスプラザ京都（京都府京都市） 内 容日本複合材料会議（JCCM）は，『日本を代表する複合材料に関する会議』の設立を目的に，平成22年3月の京都での開催を第1回とし，今回は第5回目の開催にあたります．また，母体となった日本材料学会，日本複合材料学会のシンポジウムとして，それぞれJCOM-43，JSCM-2014にあたる歴史あるシンポジウムです．材料や構造の機能化，知能化，複合化などに関する幅広いテーマについて，最新情報の交換，研究者間の交流，新分野の開拓を目的として，多数の皆様のご発表・ご参加をお待ちしております．これまでにもご好評を頂いております企業展示・技術展示につきましても，より一層の充実を図り，産学官の枠を超えた交流促進を進める予定です． 参加費主催学会等会員（一般）6,000円，協賛学会等会員（一般）9,000円，非会員（一般）12,000円，主催学会等会員（学生）3,000円，協賛学会等会員（学生）4,500円，非会員（学生）6,000円 申込・連絡先606-8301 京都市左京区吉田泉殿町1-101 日本材料学会事務局 船越英子 TEL 075-761-5321，FAX 075-761-5325，E-mail：jimu※jsms.jp ◎スパムメール対策のため@の代わりに※が入っています。お手数ですが送信の際は@に変換してご送信ください． 講演募集Microwave Materials and their Applications（MMA 2014） 主 催Microwave Materials and their Applications（MMA 2014） 協 賛ACerS, ECerS, ICS, ABC, and IEEE. Additional endorsements will soon be sought from the Korean Ceramic Society and the Taiwan Ceramic Society.ほか 日 時2014年6月1日（日）～4日（水） 場 所Boise Centre on the Grove（Idaho, USAGrove, Boise） 講演募集国際材料研究学会連合─アジア国際会議2014 International Union of Materials Research Societies —International Conference in Asia 2014（IUMRS-ICA 2014） 主 催日本MRS 協 賛日本セラミックス協会ほか 日 時2014年8月24日（日）～28日（木） 場 所福岡大学七隈キャンパス（福岡県福岡市） 内 容日本，中国，韓国，インド，シンガポール，台湾などから材料研究の最先端で活躍する材料科学者ならびに技術者が参集し，研究発表および公開講義を行う．材料科学技術，工学にとって今日的に重要かつ広範なトピックスがハイライトされ，材料科学者に対して地球的課題解決に挑戦する機会を提供する． 参加費会員価格（協賛学協会会員含）早期払込（2014年6月25日）55,000円，（2014年6月26日以降）65,000円 申込締切演題登録締切 2014年2月5日（水）（定員なし） 申込・連絡先231-0002 神奈川県横浜市中区海岸通3-9横浜ビル507D 日本MRS事務局 担当 室井るみの TEL 045-263-8538，FAX 045-263-8539，E-mail：iumrs-ica2014※mrs-j.org URLhttp://www.iumrs-ica2014.org/ 日本セラミックス協会への共催・協賛・後援等申請手続について 日本セラミックス協会（支部・部会を含む）主催でなく，また，経済的負担を伴わない共催・協賛・後援等を申請される方は，以下の手順に沿ってお手続きください． 本会が経済的負担を伴う行事につきましては，個別に対応しておりますので，kyosan-shinsei※cersj.orgまでお問い合わせください． ◎スパムメール対策のため@の代わりに※が入っています。お手数ですが送信の際は@に変換してご送信ください． 共催につきましては，初回申請をされた場合は理事会の承認が必要になりますので，最長4カ月かかる場合があります． 申請方法 申請は，当協会HP各種手続き，共催・協賛・後援等申請より行ってください． 受取のご連絡は受信後すぐには致しかねますが，毎月20日午前中までに受信した申請については，原則として申請内容が承認されてから翌月初めまでにE-mailにて可否をご連絡致します． ◎当協会 会誌への掲載について 申請を承諾した行事についてのみ，当協会の会誌セラミックス誌会告に掲載します． 毎月20日午前中までに申請されたものについては，原則として翌々月1日発行号の会告欄に掲載しますが，誌面の都合上，開催日・申込締切日等を勘案し，後の号に掲載を順延することもありますので，予めご了承ください．なお，申請者にて特定月の掲載を希望する場合には，申請時にその旨お書きください． 申請頂いた時点で開催日や締切日が適切な掲載号に間に合わないものは，掲載致しません． URLhttps://www.ceramic.or.jp/csj/n_kyosan.html （原稿受信後数日以内に受取りのメール返信を致しますので，返信連絡がない場合にはお手数ですが，確認のご連絡をお願いします．） |