参加募集

表面科学技術研究会2015「リチウムイオン電池の実情と今後の展望」─車載/大型蓄電システムとリチウムイオン電池─

主 催日本表面科学会関西支部,表面技術協会関西支部,神戸大学研究基盤センター

協 賛日本セラミックス協会ほか

日 時2015年1月22日(木)13:00〜17:00

場 所神戸大学瀧川記念学術交流会館(〒657-0013 神戸市灘区六甲台町1-1)(兵庫県神戸市)

内 容今後電気自動車電源や大型蓄電システムへの適用が期待されるリチウムイオン電池の実情や今後の展望について,各分野で活躍されている方々に講演いただきます.内容1.《基調講演》車載用リチウムイオン二次電池の最新動向 小林弘典(産業技術総合研究所),2.《革新二次電池の課題と応用》革新二次電池の実用化に向けた課題 松井雅樹(JSTさきがけ研究員),3.《表面構造と電池特性》リチウムイオン電池の特性低下と表面科学 江田信夫(技術研究組合リチウムイオン電池材料評価研究センター),4.《合成方法による表面構造》高電圧酸化物正極の合成 中村龍哉(兵庫県立大学)

参加費無料

申込締切2015年1月15日(木)(定員100名)

申込・連絡先オンライン申込 http://www.sssj.org/Kansai/ 日本表面科学会関西支部幹事 屋代 恒(株)リガク 応用技術センター 569-1146 大阪府高槻市赤大路町14-8 TEL 072-694-0585,E-mail:yashiro※rigaku.co.jp

URLhttp://www.sssj.org/Kansai/


参加募集

炭素材料学会1月セミナー

主 催炭素材料学会

協 賛日本セラミックス協会ほか

日 時2015年1月23日(金)9:00〜17:00

場 所連合会館(東京都千代田区神田駿河台3-2-11)

内 容本セミナーでは,多様化するリチウムイオン電池のニーズとその高機能化,それを実現するための解析技術について,デュアル炭素電池,非水蓄電池への応用から,安全評価,解析技術まで,幅広い観点から,炭素材料の役割に着目したセミナーを企画しました.リチウムイオン電池やポストリチウムイオン電池の研究開発に携わっておられる方々,また,これから取り組もうとされている方々のご参加をお待ちしております.

参加費正会員(協賛学協会含)・賛助会員 25,000円,学生会員(協賛学協会含) 5,000円,非会員 35,000円,学生非会員 10,000円(消費税およびテキスト代を含む)

申込締切郵便振替でお支払の場合2015年1月8日(木曜日),クレジットカード決済の場合 2014年1月20日(火)(定員90名)

申込・連絡先162-0801 東京都新宿区山吹町358-5 アカデミーセンター炭素材料学会ヘルプデスク TEL 03-5389-6359,FAX 03-5227-8632,E-mail:tanso-desk※bunken.co.jp

URLhttp://www.tanso.org/contents/event/seminar/january_2015.html


参加募集

文部科学省科学研究費補助金新学術領域研究「融合マテリアル:分子制御による材料創成と機能開拓」第11回公開シンポジウム

主 催新学術領域研究「融合マテリアル:分子制御による材料創成と機能開拓」総括班

協 賛日本セラミックス協会ほか

日 時2015年1月26日(月)

場 所北九州国際会議場(福岡県北九州市)

内 容文部科学省科学研究費補助金新学術領域研究「融合マテリアル:分子制御による材料創成と機能開拓」(領域代表:加藤隆史,領域番号 2206,期間:平成22〜26年度)は,自然と調和して永続的に発展可能な人類のための「材料調和社会」の実現を目的としています.バイオミネラリゼーションにおける物質・材料の形成機構を手本とする分子制御プロセスにより,環境負荷性が低く,自然調和性に優れた次世代機能性材料構築法の開拓を目指して研究を進めています.本領域の内容と研究成果についてご報告するとともに,皆様との議論を深めるために,第11回国際シンポジウムを開催いたします.皆様のご参加をお待ち申し上げております.1)基調講演2)「融合マテリアル:分子制御による材料創成と機能開拓」に関する研究発表(口頭・ポスター)

参加費無料

申込締切領域ホームページからお申し込みください

申込・連絡先113-8656 東京都文京区本郷7-3-1 東京大学大学院工学系研究科加藤研究室内 新学術領域研究「融合マテリアル:分子制御による材料創成と機能開拓」事務局 TEL 03-5841-7306,FAX 03-5841-8661,E-mail:office※fusion-materials.org

URLhttp://www.fusion-materials.org


参加募集

第29回JFCAテクノフェスタ

主 催日本ファインセラミックス協会

協 賛日本セラミックス協会ほか

日 時2015年1月26日(月)10:20〜17:00

場 所メルパルク東京3階牡丹の間および百合の間(東京都港区芝公園)

内 容日本ファインセラミックス協会主催「第29回JFCAテクノフェスタ」が開催されますので,お知らせいたします.今回は15件の新しい技術に関する発表と2件の講演を予定しています.詳細は,URLをご覧ください.http://www.jfca-net.or.jp/contents/view/1463/ 第29回JFCAテクノフェスタ −ニーズとシーズの出会いを求めて−

参加費JFCA会員企業の方,協賛学会会員で大学・公的機関ご所属の方,官公庁ご所属の方無料,JFCA非会員で企業の方や協賛学会員で上記の方以外5,000円

申込締切2015年1月16日(金)(定員100名)

申込・連絡先105-0011 東京都港区芝公園1-2-6 ランドマーク芝公園2F 日本ファインセラミックス協会 木村太門 TEL 03-3431-8271,FAX 03-3431-8274,E-mail:kimura※jfca-net.or.jp

URLhttp://www.jfca-net.or.jp/


参加募集

The 25th Meeting on Glasses for Photonics〜新しいフォトニクス部品とガラス材料との接点〜

主 催日本セラミックス協会ガラス部会フォトニクス分科会

日 時2015年1月30日(金)

場 所日本科学未来館7階交流施設会議室1(135-0064東京都江東区青海2-3-6)

参加登録費会員5,000円,非会員8,000円,学生1,000円(当日会場にて申し受けます)

懇親会費1,000円(当日会場にて申し受けます)

プログラム

10:30〜11:50

1.K[Nb1/3Te2/3]2O4.8表面ナノ結晶を有するSHGレーザー用テルライトガラス微小球の作製 ○天笠友洋1),岸 哲生1),矢野哲司1),Christian Rüssel 2)(東京工業大学1), Otto-Schott-Institut, Universität Jena2)

2.Advanced Glass Substrate for the Enhancement of OLED Lighting Out-coupling Efficiency ○中村伸宏,和田直哉,福本奈央,谷田正道(旭硝子)

3.【招待講演】光学ガラスの特徴と製法について○川中裕次(オハラ)

13:00〜14:40

4.多点同時フェムト秒レーザー照射によるガラス融液の流動と構成元素の空間分布制御 ○吉村光平1),坂倉正明2),栗田寅太郎1),福田直晃2),下間靖彦1),三浦清貴1)(京都大学院工1),京都大学産連2)

5.フェムト秒レーザー照射によるAl2O3-Dy2O3ガラス内部の構造制御 ○森 吏敏1),栗田寅太郎1),下間靖彦1),坂倉政明2),三浦清貴1)(京都大学院工1),京都大学産連2)

6.ナノイオン交換リソグラフィによるガラス基板上への銀ナノ細線描画の条件最適化 ○市川芳大,岸 哲生,矢野哲司(東京工業大学)

7.異方性金属ナノ粒子の配列を利用した複屈折性コンポジット ○北村直之1),平尾直樹2),高橋弘紀3),茂木 巌3),淡路 智3),渡辺和雄3),内山弘章2),幸塚広光2)(産業技術総合研究所1),関西大学2),東北大学3)

8.集熱・排熱回路への応用に向けた結晶化ガラスの創製 ○渡辺幸樹,寺門信明,川股隆行,横地優大,高橋儀宏,小池洋二,藤原 巧(東北大学)

15:00〜16:40

9.Mn添加透明結晶化ガラスの作製と発光色変化 庄逸煕,〇田部勢津久(京都大学)

10.Ce,Cr共添加ガーネット固溶体セラミック蛍光体の長残光特性 〇淺見一喜,上田純平,田部勢津久(京都大学)

11.【招待講演】半導体量子ドットの結晶成長技術と光デバイス応用の展開 ○山口浩一(電気通信大学)

16:50〜17:50

懇親会(日本科学未来館7階交流施設会議室1)

問合先221-8755 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150 旭硝子(株)中央研究所 ガラス材料技術ファンクション 林 英明 TEL 045-374-7568,FAX 045-374-8866,E-mail:hideaki-hayasi※agc.com

URLhttps://www.ceramic.or.jp/bglass/index_j.html


参加募集

第372回講習会「材料の表面を『超』制御する〜浄める・貼る・剥がす技術の最前線〜」

主 催精密工学会

協 賛日本セラミックス協会ほか

日 時2015年2月5日(木)10:00〜17:10

場 所東京理科大学森戸記念館第1フォーラム(東京都新宿区)

内 容エレクトロニクス実装,フレキシブルデバイスや精密機械部品の製造など,さまざまな分野における基礎技術として,材料の表面を制御し,材料同士を貼り合わせる,あるいは,剥がす技術が注目されてきています.対象としては,ガラス・シリコンなどの脆性材料,樹脂,金属など多岐にわたります.接合技術には,常温接合,表面活性化接合,異種材料接合,分子接合など多くがあり,これらを実現するため,材料の表面を精密に仕上げる技術も必須となります.今回はこれらの技術で,最前線で活躍されている講師陣を迎え,表面の仕上げ技術,材料同士の接合・剥離技術という精密工学分野で新しくホットな内容の講習会を開きたく存じます.また,名刺交換会も用意させていただきました.皆様の積極的なご参加をお待ちしております.

参加費会員(賛助会員および協賛団体会員を含む)22,000円,非会員32,000円[会員・非会員・学生非会員とも講習会テキスト代含む]

学生会員:無料(講習会テキストは別途,ただし開催日当日は参加の学生会員に限り2,000円で購入可)学生非会員7,000円

申込締切2015年1月29日(木)

申込・連絡先102-0073 東京都千代田区九段北1-5-9 九段誠和ビル2F 精密工学会講習会係 遠藤 TEL 03-5226-5191,FAX 03-5226-5192,E-mail:jspe_koushu※jspe.or.jp

URLhttp://www.jspe.or.jp/wp/wp-content/uploads/course/372.pdf


参加募集

平成26年度 日本セラミックス協会東海支部講演会

東海支部では下記の通り講演会を開催いたします.多数の方のご参加をお待ちしております.

主 催日本セラミックス協会東海支部

共 催日本セラミックス協会陶磁器部会

協 賛耐火物技術協会東海支部

日 時平成27年2月13日(金)15:00〜17:00

場 所ファインセラミックスセンター(名古屋市熱田区六野2-4-1 TEL 052-871-3500)

交 通JR東海道本線「熱田」駅徒歩7分,名鉄本線「神宮前」駅東出口から徒歩10分,地下鉄名城線「神宮西」駅2番出口から徒歩10分

プログラム
1)東邦ガス(株)技術研究所主席 水谷安伸 「エネルギー業界から見たセラミックス材料への期待」
2)名古屋工業大学先進セラミックス研究センター教授 藤 正督 「ナノシリカ中空粒子の合成とその産業応用」

参加料無料

募集人数70名

申込締切平成27年1月30日(金)

懇親会講演会終了後,17:15〜19:00に同会場にて懇親会を開催します.多数ご参加ください.

懇親会参加費4,000円(当日会場にて受け付けます.)

申込方法氏名,勤務先名および所属(役職),または学校名,連絡先(電話,FAX,E-mail)および懇親会参加の有無を記入の上,葉書,FAXまたはE-mailで下記まで申し込みください.

申込先460-0011 名古屋市中区大須1-35-18 一光大須ビル7階中部科学技術センター内 日本セラミックス協会東海支部事務局担当 犬飼 TEL 052-231-3070,FAX 052-204-1469,E-mail:t.inukai※c-goudou.org

詳細URLhttps://www.ceramic.or.jp/stokai/index_j.html


参加募集

第24回顔料分散講座

主 催色材協会

協 賛日本セラミックス協会ほか

日 時2015年2月13日(金)9:00〜17:00

場 所東京塗料会館(東京都渋谷区恵比寿)

内 容演題と講師 9:00〜10:20 顔料分散の基礎 DIC(株)清都育郎,10:30〜11:40 顔料の表面処理と分散 大日精化工業(株)中野正行,12:40〜13:40 塗料における顔料分散 関西ペイント(株)檜原篤尚,13:50〜14:50 オフセットインキにおける顔料分散 東洋インキ(株)栃木浩介,15:00〜16:00 プラスチックにおける顔料分散 東京インキ(株)寺田悠哉,16:10〜17:00 ビーズミルによる顔料分散技術 アシザワ・ファインテック(株)石井利博

参加費会員(協賛学協会会員共)19,500円,会員外29,800円,学生3,000円(テキスト共,消費税込)

申込締切定員100名になり次第締切

申込・連絡先150-0013 東京都渋谷区恵比寿3-12-8 東京塗料会館201 色材協会事務局 TEL 03-3443-2811,FAX 03-3443-3699,E-mail:seminar※jscm.or.jp

URLhttp://www.shikizai.org/


参加募集

日本技術士会化学部会2月度講演会

主 催日本技術士会化学部会

協 賛日本セラミックス協会ほか

日 時2015年2月26日(木)17:30〜19:00

場 所葺手第2ビル5階日本技術士会会議室(東京都港区虎ノ門4-1-20 田中山ビル隣)

内 容講演「科学論文執筆の栄光と挫折〜日本発の学術出版をよりよいものとするには〜」舘野佐保(フリーランスライター)

参加費日本技術士会,協賛学協会会員1,000円(技術士補およびJABEE認定コース修了者も会員並み),一般2,000円

申込締切2015年2月19日(木)

申込・連絡先140-0011 東京都品川区東大井5-15-14-1301沢木技術士事務所 沢木 至 TEL 03-6433-9696,FAX 03-6433-9696,E-mail:cycle.sawaki※nifty.com

URLhttps://www.engineer.or.jp/ippan/dmsw0211.php


参加募集

第42回ニューセラミックスセミナー

主 催ニューセラミックス懇話会・大阪府技術協会

協 賛日本セラミックス協会ほか

日 時2015年2月27日(金)10:00〜16:45

場 所大阪産業創造館6階会議室E(大阪府大阪市中央区本町)

内 容1.「電動車両用リチウムイオンバッテリーの開発」(株)本田技術研究所 四輪R&Dセンター上席研究員 新村光一,2.「自動車の軽量化とCFRP,炭素繊維への期待」トヨタ自動車(株) 材料技術統括室主査 野田克敏,3.「デンソー第2世代ピエゾスタック」(株)デンソー セラミック技術部技術企画室室長 藤井 章,4.「自動車用セラミックスの開発」〜パワー半導体モジュール用セラミックス基板〜〜自動車ヒーター用非鉛PTCセラミックス〜日立金属(株) 開発センター主任研究員 島田武司/今村寿之,5.「水素製造・燃料電池自動車・燃料電池商用発電とセラミックスのコラボレーション」大阪産業大学 工学部交通機械工学科教授 山田 修,6.「自動車用次世代蓄電池」トヨタ自動車(株) 電池研究部部長 射場英紀

参加費会員(協賛学協会会員含む)15,000円,非会員20,000円

申込締切定員になり次第(定員60名)

申込・連絡先594-1157 大阪府和泉市あゆみ野2-7-1 大阪府立産業技術総合研究所内ニューセラミックス懇話会事務局 594-1157 大阪府和泉市あゆみ野2-7-1 大阪府立産業技術総合研究所内 TEL 0725-53-1919,FAX 0725-53-2332,E-mail:newceramicsf※dantai.tri-osaka.jp

URLhttp://tri-osaka.jp/dantai/ncf/


講演募集

日本顕微鏡学会第39回関東支部講演会

主 催日本顕微鏡学会関東支部

協 賛日本セラミックス協会ほか

日 時2015年2月28日(土)11:00〜17:15

場 所工学院大学新宿キャンパスアーバンテックホール(東京都新宿区西新宿1-24-2)

内 容日本顕微鏡学会関東支部は,日本顕微鏡学会の支部の中で最大会員数を有する支部であり,おおよそ半数の会員が関東支部に所属しています.本関東支部講演会は,これまで38年間にわたり,関東支部会員の研究発表,知識の交換ならびに,支部会員相互および他支部会員との交流の場として開催され,顕微鏡学の発展に貢献してきました.今年度も,継続して交流の場を設けるため,第39回関東支部講演会を開催いたします.今年度は,「革新のための基礎技術 - Basic for Innovation -」をテーマとして掲げ,単なる最新成果の紹介にとどまらず,その成果や技術の根底にある基礎技術や発展の経緯に脚光を当てたご講演をお願いしたいと考えています.関東支部講演会は,通例,生物系,材料系の会員が一堂に会する講演会であり,異分野の聴講者へのチュートリアル的な要素も含め,異分野技術の理解を深めるのに一役買うものと期待します.

参加費会員(協賛学協会会員含む)3,000円,非会員4,000円

申込締切2015年1月13日(火)(定員150名)

申込・連絡先305-0044 茨城県つくば市並木1-1 物質・材料研究機構 三留正則(実行委員長) TEL 029-860-4431,FAX 029-851-6280,E-mail:MITOME.Masanori※nims.go.jp

URLhttp://www.microscopy.or.jp/shibu/kanto/kanto.html


講演募集

第52回アイソトープ・放射線研究発表会

主 催日本アイソトープ協会

協 賛日本セラミックス協会ほか

日 時2015年7月8日(水)〜10日(金)開催時間の詳細は未定

場 所東京大学弥生講堂(東京都文京区)

内 容公募による研究発表(口頭発表およびポスター発表)と特別講演およびパネル討論をもって構成している.アイソトープ・放射線の利用技術を中心とした研究およびその基礎となる研究の発表と討論を行う.

参加費(予定)2,000円(学生は無料)

申込締切発表申込締切(予定)2015年2月27日(金)

申込・連絡先113-8941 東京都文京区本駒込2-28-45 日本アイソトープ協会学術振興部学術・出版課 須貝理央 TEL 03-5395-8081,FAX 03-5395-8053,E-mail:gakujutsu※jrias.or.jp

URLhttp://www.jrias.or.jp/


講演募集

The 6th Asian Particle Technology Symposium(APT2015)

主 催アジア粉体技術シンポジウム国際組織委員会

協 賛日本セラミックス協会,Division of Fine Particles Technology, Korean Institute of Chemical Engineersほか

日 時2015年9月15日(火)〜18日(金)(15日13:00〜19:00,16〜17日9:00〜17:30,18日9:00〜15:30)

場 所COEX convention center(韓国ソウル市)

内 容As one of the most highly acclaimed meetings of its field, the APT2015 is expected to gather a large number of experts and professionals from Asia pacific and around the world to learn, share and participate in the cutting-edge of particle technology. The organizing committee is also planning a variety of unique and exciting social programs for participants to enjoy the fascinating Korean culture and kindle the warm spirit of friendship. We encourage you to take this chance to explore the many faces of the beautiful and high-tech city of Seoul.

参加費$700 Early-bird Registration from Japan.

申込締切Early-bird Registration 2015年5月31日

申込・連絡先
http://apt2015.org/sub04_1.php
APT2015 Secretariat | PEOPLE-X
16, Yeoksam-ro 17 gil, Yeoksam-dong, Gangnam-gu, Seoul, Korea
TEL +82-2-557-8422, FAX +82-2-557-6087,E-mail:info※apt2015.org

URLhttp://apt2015.org/


参加募集

11th International Symposium on Crystallization in Glasses and Liquids (Crystallization 2015)

主 催Crystallization 2015実行委員会

協 賛国際ガラス委員会,日本セラミックス協会ガラス部会ほか

日 時2015年10月11日(日)〜14日(水)

場 所長岡グランドホテル(940-0066 新潟県長岡市東坂之上町1-2-1)

内 容主題 ガラスの結晶化現象に関連した基礎物性と機能性(フォトニクス,生体機能材料,エネルギー・環境資源,その他の応用展開)に注目した研究発表講演形式 英語による口頭ならびにポスター発表講演申込方法 ホームページから様式をダウンロードして,下記E-mailアドレス宛に申込ください.
講演予稿原稿 A4,1ページ
学会URL http://crystallization-2015.jp

講演申込先E-mail:Info※crystallization-2015.jp

参加費一般30,000円,学生15,000円,同伴者10,000円(エクスカーション・バンケット代含)

申込締切講演申込・アブストラクト締切 2015年3月31日(火)

申込・連絡先940-2188 新潟県長岡市上富岡町1603-1 長岡技術科学大学 物質・材料系 小松高行・本間 剛 ◎スパムメール対策のため@の代わりに※が入っています.お手数ですが送信の際は@に変換してご送信ください. TEL 0258-47-9312,FAX 0258-47-9300,E-mail:honma※mst.nagaokaut.ac.jp

URLhttp://crystallization-2015.jp


参加募集

第10回新物質及び新デバイスのための原子レベルキャラクタリゼーションに関する国際シンポジウム 10th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices ’15(ALC ’15)

主 催日本学術振興会マイクロビームアナリシス第141委員会

協 賛日本セラミックス協会ほか

日 時2015年10月25日(日)〜30日(金)(25日13:00〜17:00,26〜30日9:00〜18:00)

場 所くにびきメッセ(島根県松江市)

内 容デバイスや材料の原子レベルキャラクタリゼーションに関する講演会

参加費未定(前回は一般45,000円,学生25,000円)

申込締切2015年 5月11日(月)

URLhttp://alc.surf.nuqe.nagoya-u.ac.jp/alc15/


公 募

(独)新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)「戦略的省エネルギー技術革新プログラム」技術開発助成

〈趣 旨〉「戦略的省エネルギー技術革新プログラム」とは,高い省エネルギー効果が見込まれる技術開発に対し助成する制度です.平成27年度第1回公募は3月頃に実施する予定です.

〈対象者〉原則として,日本国内に研究開発拠点を有している企業,大学等の法人

〈対象事業の要件〉経済産業省とNEDOが定める「省エネルギー技術戦略」の重要技術を中心とした省エネルギー技術のうち,国内において以下の省エネルギー効果量が見込めること.
(1)製品化後,販売開始から3年の時点で,2万kL/年以上(2)2030年時点で,10万kL/年以上(いずれも原油換算値)ただし,技術開発費に応じた費用対効果の観点からも審査をします.

〈公募期間〉平成27年3月頃(予定)

〈公募案内〉詳細決定後,NEDOウェブページに説明会案内,公募要領等を掲載します.(平成27年2月頃を予定)
http://www.nedo.go.jp/koubo/index.html

〈問合先〉新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)「戦略的省エネルギー技術革新プログラム」事務局 E-mail:shouene※ml.nedo.go.jp(事前相談可)

***平成26年度第2回公募の例(参考)***

〈各フェーズの概要・年間上限額〉

(1)インキュベーション研究開発(1年以内)
2千万円程度/件・年(NEDO助成率:2/3)

(2)実用化開発(原則2年または3年)
3億円程度/件・年(NEDO助成率:2/3)

(3)実証開発(原則2年または3年)
10億円程度/研・年(NEDO助成率:2/3)

(注)各フェーズを組み合わせて応募することも可能.ただしインキュベーション研究開発フェーズのみの応募は不可.詳細はNEDOのwebサイトを参照ください.http://www.nedo.go.jp/activities/ZZJP_100039.html

〈平成26年度第2回公募情報〉
http://www.nedo.go.jp/koubo/DA2_100068.html


募 集

平成27年度東京工業大学応用セラミックス研究所共同利用研究

対 象セラミックスに関する研究を目的として,研究所内外の研究者が本研究所教員と協力して本研究所で実施する研究あるいは集会で,研究種目(1)一般共同研究,(2)国際共同研究,(3)特定共同研究,(4)ワークショップ,(5)国際ワークショップと機動的共同研究(流動型)

資 格本研究所と同意できる博士相当と認められる研究者

申請方法原則として,E-mail

申請締切2015年1月30日(金)期限厳守
*機動的共同研究(流動型)は2015年4月以降随時申請受付.

提出・問合先226-8503 横浜市緑区長津田町4259 R3-27 東京工業大学応用セラミックス研究所 共同利用推進室 TEL 045-924-5968,FAX 045-924-5978,E-mail:suishin※msl.titech.ac.jp

URLhttp://www.msl.titech.ac.jp


表 彰

第12回江崎玲於奈賞

ナノテクノロジー分野で顕著な研究業績を挙げた者を顕彰し,科学技術の振興,産業の活性化に寄与する.

対象者日本国内の研究機関においてナノサイエンスあるいはナノテクノロジーに関する研究に携わり,世界的に評価を受ける顕著な研究業績を挙げた研究者,原則1名

内 容賞状,賞牌および副賞(1,000万円)

推薦受付受付中〜2015年3月6日(金)(必着)

募集方法ナノサイエンスおよびナノテクノロジー関連国内主要37学会等の長,国内においてナノサイエンスおよびナノテクノロジー分野の研究を実施する主要な研究機関および大学等の長(110機関),つくばサイエンス・アカデミー運営会議委員34名に対し,推薦を依頼

選考方法江崎玲於奈賞委員会による審査を経て受賞者を決定.

問合先305-0032 茨城県つくば市竹園2-20-3 茨城県科学技術振興財団 担当高野 TEL 029-861-1205,FAX 029-861-1209,E-mail:k.takano※epochal.or.jp

URLhttp://www.i-step.org/prize/esaki/index.htm (推薦書ダウンロード可)