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H22年度KAST教育講座 主 催 神奈川科学技術アカデミー 後 援 日本セラミックス協会ほか 日 時 2011年2月3日（木），10日（木）10：00～17：30 場 所 かながわサイエンスパーク（KSP）内研修室（神奈川県川崎市高津区坂戸3-2-1） 内 容 めっき技術の開発に見られる新しい展開に焦点をあてて編成した技術講座です．2日間の日程で(1)めっきプロセス技術の新展開，(2)微細構造形成・インターコネクションと実装技術，のテーマを設けています．技術開発の視点のみならず，これからのトレンドやビジネス展開のあり方についても講義に取り入れています． 参加費 神奈川県外企業・個人：38,000円，KAST法人賛助会員／神奈川県内中小企業：30,400円，神奈川県内企業・個人：34,200円，1日単位の受講：20,000円／日 申込締切 先着順に承ります． 申込・連絡先 213-0012 神奈川県川崎市高津区坂戸3-2-1 かながわサイエンスパーク東棟1階（財）神奈川科学技術アカデミー 教育情報グループ TEL 044-819-2033，FAX 044-819-2097，E-mail：ed※newkast.or.jp URL http://www.newkast.or.jp/kyouiku/kouzaboshu/ed22_IV_04.html The 21st Meeting on Glasses for Photonics 主 催 日本セラミックス協会ガラス部会フォトニクス分科会 日 時 2011年2月9日（水）13：00～17：20 場 所 東京工業大学 百年記念会館フェライト会議室（東京都目黒区大岡山2-12-1），http://www.libra.titech.ac.jp/cent/welcome5.html 参加登録費 会員5,000円，非会員8,000円，学生1,000円（当日会場にて申し受けます） 懇親会費1,000円（当日会場にて申し受けます）
13：00～14：40 1．StM法による超半球型ガラス光学素子の作製（東京工業大学）○岸 哲生，柴田修一，矢野哲司 2．リン酸塩ガラス表面のフッ素化の化学的耐久性への影響（旭硝子1），旭テクノガラス2））○近藤裕己1），大川博之1），笹井 淳1），飯田雄一2），民辻慎哉1），渡邉邦夫1） 3．液相合成によるBaO-TiO2-SiO2系ガラスの作製（東北大学大学院1），京都大学化学研究所2））○井原梨恵1），小泉遼平1），正井博和2），高橋儀宏1），藤原 巧1） 4．3成分系ビスマスリン酸塩ガラスの光学特性（産業技術総合研究所1），日本山村硝子2），北海道大学電子科学研究所3））○北村直之1），福味幸平1），中村淳一2），日高達雄2），池田拓朗2），橋間英和2），西井準治3） 5．新規希土類フリーガラス蛍光体の創製（京都大学化学研究所1），東北大学大学院2），旭硝子3））○正井博和1），藤原 巧2），松本修治3），高橋儀宏2），徳田陽明1），横尾俊信1） 15：00～17：20 6．Nd添加ZBLANガラスの太陽光照射下の高発光量子効率（豊田工業大学1），豊田中央研究所2））○鈴木健伸1），那須寛之1），水野真太郎2），伊藤 博2），長谷川和男2），大石泰丈1） 7．Pr3+-Yb3+共添加（Ca, Sr）F2固溶体結晶析出透明結晶化ガラスにおける量子切断現象（京都大学大学院）○片山裕美子，田部勢津久 8．Bi2O3-B2O3-TeO2ガラスの光学特性（旭硝子）○長谷川智晴 9．テラス微小球を用いた多波長レーザー発振─希土類金属イオンの蛍光による誘導ラマン散乱の増強効果─（東京工業大学大学院）○上原日和，岸 哲生，矢野哲司，柴田修一 10．超高ΔSiO2-Ta2O5導波路における伝搬損失改善（NTTフォトニクス研究所）○伊東雅之，小湊俊海，阿部 淳，井藤幹隆 11．【招待講演】インテグラル立体テレビ─インテグラルフォトグラフィの電子化と課題─（NHK放送技術研究所）○奥井誠人 17：30～19：00 懇親会（東京工業大学 百年記念館「角笛」） 問合先 980-8579 仙台市青葉区荒巻字青葉6-6-05 東北大学大学院工学研究科 応用物理学専攻 高橋儀宏 TEL 022-795-7965，FAX 022-795-7964，E-mail：photonics-csj※laser.apph.tohoku.ac.jp URL https://www.ceramic.or.jp/bglass/index_j.html 第24回複合材料セミナー 主 催 炭素繊維協会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2011年2月18日（金）10：00～17：35セミナー 18：00～19：30 懇親会 場 所 コクヨホール（東京都港区港南1-8-35） 内 容 炭素繊維に関する概論をはじめ，今後ますますの発展が期待される自動車・航空機への展開，CFRTPやナノファイバーの新技術，炭素繊維による大気浄化や炭素繊維リサイクルなど，グリーンイノベーション実現と経済成長のエースとして成長し続ける炭素繊維について講演を行なう． 参加費 一般：20,000円，官公庁・学校関係者：15,000円，学生：3,000円 申込締切 特になし（定員：300名） 申込・連絡先 103-0023 東京都中央日本橋本町3-1-11 繊維会館7F 日本化学繊維協会内 炭素繊維協会複合材料セミナー事務局 TEL 03-3272-7108，FAX 03-3246-0823 URL http://www.carbonfiber.gr.jp/ SPring-8金属材料評価研究会（第4回：光電子顕微鏡法） 主 催 SPring-8利用推進協議会 研究開発委員会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2011年2月25日（金）13：25～17：15（研究会），17：20～19：00（技術交流会） 場 所 化学会館7Fホール（東京都千代田区神田駿河台1-5） プログラム 13：25～13：30はじめに 主査（東北大学名誉教授）鈴木謙爾；【第1部】放射光X線光電子顕微鏡の基礎と応用，13：30～14：20「光電子顕微鏡でこんなことができる―鉄隕石の構造解析から金属材料への今後の展開」（JASRI）小嗣真人，14：20～15：00「XMCD‐PEEM法を活用したネオジム磁石合金の磁区構造観察」（住友金属）山本祐義，15：00～15：40「PEEM-XMCD法によるFe‐Si合金の高分解能磁区構造イメージング」（大阪電通大）安江常夫，15：40～16：00休憩；【第2部】放射光X線研究事例紹介16：00～16：30「イメージング法による高速ボス加工したMg合金の内部欠陥観察」（茨城工技センター）早乙女秀丸，16：30～17：10「放射光X線と中性子を併用した小角散乱法による金属中微細組織の解析」（NIMS）大場洋次郎，17：10～17：15閉会ご挨拶（JASRI）山川 晃，17：20～19：00技術交流 参加費 無料（技術交流会参加費：1,000円） 申込締切 2011年2月18日（金）（聴講無料，定員になり次第締め切ります．定員：70名） 申込・連絡先 申込ページ URL http://www.spring8.or.jp/ext/ja/iuss/htm/text/06file/metal_mate_eval-4.htm 分科会シンポジウム バイオメタルサイエンス研究の最前線 主 催 日本金属学会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2011年3月24日（木）9：45～17：00 場 所 東京医科歯科大学歯学部特別講堂（東京都文京区） 内 容 医療の高度化にともない，金属系バイオマテリアルさらにはその関連材料の重要性は益々強く認識され，生体機能化のために材料の枠組みを超えた複合化・表面処理技術，さらには生体組織そのものの構造・機能の解明が進んできた．本シンポジウムでは再生医療をも視野にいれた最新のバイオメタル・バイオマテリアルに焦点をあて，基礎から実用化，臨床応用のための安全性評価に至るまで，最新のトピックスを提供する．現状の課題，今後の展開も含めて，バイオメタルサイエンスの構築を議論する場としたい． 参加費 正員（協賛学協会会員含む）10,000円，学生5,000円，非会員15,000円 申込締切 2011年3月16日（水）（60名） 申込・連絡先 980-8544 仙台市青葉区一番町1-14-32 日本金属学会 シンポジウム参加係 TEL 022-223-3685，FAX 022-223-6312，E-mail：meeting※jim.or.jp URL http://www.sendai.kopas.co.jp/METAL/EVENTS/index.html ニューセラミックス懇話会バイオ関連セラミックス 特別講演会 主 催 ニューセラミックス懇話会 共 催 日本セラミックス協会生体関連材料部会 協 賛 日本バイオマテリアル学会 日 時 2011年4月15日（金）15：00～17：00 場 所 アウィーナ大阪 金剛 （http://www.awina-osaka.com/access/index.html） 講 師 Larry L. Hench（Graduate Research Professor Department of Materials Science and Engineering University of Florida, Gainesville, Florida, USA） 題 目 21st Century Challenges for Bioceramics 参加費 ニューセラミックス懇話会会員および日本セラミックス協会会員：無料，学生：無料，一般（非会員）：5,000円 懇親会 アウィーナ大阪 17：30～19：30（会費：5,000円） URL http://www.tri.pref.osaka.jp/dantai/ncf/index.html 第1回マルチスケールマテリアルモデリングシンポジウム 主 催 日本材料学会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2011年5月23日（月）～24日（火） 場 所 大阪大学コンベンションセンター（大阪府吹田市山田丘） 内 容 近年，ナノスケールの構造や材料組織に対する電子・原子・分子レベルシミュレーションによる力学応答研究や計算機実験の重要性が益々増してきています．本学会分子動力学部門委員会では，発足以来，原子／分子レベルのシミュレーションに関連する研究者・技術者が一堂に会し，議論を行なう場として，毎年一回のシンポジウムを開催してまいりました．今回は大阪大学を中心とする計算物質・材料科学分野の研究組織（CMD，QEDRI）との共催を行い，お互いの交流を深めることで，さらなる材料研究の発展および議論の活性化を促せたらと考えています．マルチスケール・マルチフィジックス計算の方法論，分子動力学法および同類手法を用いたモデリング研究，また第一原理計算などによる物性研究など，様々な研究発表を幅広く募集いたします．また，優れた内容の発表に対して分子動力学部門委員会賞として「MD賞」が贈られることとなっております． 参加費 会員1,500円，非会員3,000円 講演申込締切 2011年2月18日（金） 申込・連絡先 日本材料学会 分子動力学部門委員会 E-mail：md※md.jsms.jp 原子力総合シンポジウム2011 主 催 日本学術会議総合工学委員会 共 催 原子力関連38学協会 日 時 2011年5月25日（水）～26日（木） 場 所 日本学術会議講堂（東京都港区六本木） 内 容 日本学術会議の主催による「原子力シンポジウム」および「原子力研究総合発表会」を継承した「原子力総合シンポジウム」は，昭和38年度以来毎年開催され，今回第49回を迎える．原子力関連の専門分野を異にする科学者－技術者間および産業界－学界間において，広く学際的視点から情報・知識の交流および普及を図るとともに，特に，一般社会に対しても原子力の正しい理解を得ることを目的とした本シンポジウムは，わが国原子力界の年中行事の一つとして，その意義と使命を果たしている． 講演数 2日間で18講演 参加者 350名 参加費 無料 問合先 日本原子力学会事務局（幹事学会） 第21回環境工学総合シンポジウム2011 主 催 日本機械学会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2011年6月29日（水）～7月1日（金） 場 所 東北大学 片平キャンパス（宮城県仙台市） 内 容 【開催趣旨】本シンポジウムは，日本機械学会環境工学部門を構成する騒音・振動改善技術，資源循環・廃棄物処理技術，大気・水環境保全技術，環境保全型エネルギー技術などの先端技術を駆使することにより，自然環境と調和する安心・安全な快適環境を実現するための情報提供および討論を行います．専門家による最先端の研究・技術開発成果を一般講演で発表します．また，各種表彰制度により，環境工学の発展を加速する機会となっています． 【募集内容】下記のとおり講演発表を募集します．日本語あるいは英語の発表を募集します．奮ってご参加下さい．一般講演およびオーガナイズドセッション（1．騒音・振動評価・改善技術／2．資源循環・廃棄物処理技術分野／3．大気・水環境保全技術／4．環境保全型エネルギー技術分野） 申込締切 2011年2月18日（金） 申込・連絡先 環境工学部門ホームページ（http://www.jsme.or.jp/env/）よりお申し込み下さい．160-0016 東京都新宿区信濃町35番地 信濃町煉瓦館5階 日本機械学会 環境工学部門（担当職員 村山ゆかり） TEL 03-5360-3500，FAX 03-5360-3508，E-mail：murayama※jsme.or.jp URL http://www.jsme.or.jp/env/ 第45回X線材料強度に関するシンポジウム 主 催 日本材料学会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2011年7月7日（木）～8日（金）9：30～17：00 場 所 ルーテル市ヶ谷センター 会議室（東京都新宿区市谷砂土原） 内 容 製品の信頼性・強度評価はますます重要になる一方で，その対象も薄膜，単結晶および集合組織など多様になっています．新しい応力評価の発展は，強度評価に新しい知見を与え，優れた製品の創出に役立ちます．本会では，X線，シンクロトロン放射光および中性子回折に限らず，その他の非破壊的な検出手法の原理と応用について応力測定ならびに材料の変形挙動に関する研究発表の場を持ち，討論を重ねております．これらの材料研究に携わっておられる方々の講演発表を期待しております．下記に示す講演内容に関する最近の成果を希望いたします．1．X線応力測定；2．シンクロトロン放射光応力測定；3．中性子応力測定；4．残留応力；5．疲労および破壊；6．塑性変形;加工および溶接；7．応力の実験・解析技術；8．損傷の検出と評価；9．破面解析；10．新素材とX線回折；11．表面改質；12．複合材，被覆；材溶接，薄膜などの評価；13．その他 参加費 会員（協賛学協会会員含む）7,000円，非会員 10,000円 講演申込締切 2011年3月4日（金） 申込・連絡先 日本原子力研究開発機構 量子ビーム応用研究部門弾塑性材料評価研究グループ 秋田貢一 TEL 029-282-5478，FAX 029-282-6038，E-mail：akita.koichi※jaea.go.jp 第4回機能材料国際シンポジウム 主 催 東北大学多元物質科学研究所 共 催 東北大学金属材料研究所 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2011年8月2日（火）～6日（土） 場 所 東北大学片平キャンパス さくらホールほか（宮城県仙台市青葉区片平） 内 容 先端機能材料およびこれを基礎としたデバイス・システムは，今日ではあらゆる分野で利用されており，我々の社会とその持続的発展には必要不可欠である．特に我々の社会が直面している環境やエネルギー問題などに代表される様々な課題の解決に資することが強く期待されている．こうした観点から本シンポジウムでは1）環境材料，2）電子材料，3）エネルギー材料，および4）医療生体材料の4つのカテゴリーに基づいて広く講演を募集し，基調講演からなる全体会議を含め，25～30件程度の招待講演を含む口頭およびポスター講演約300件程度の講演を募集して講演および討論を行う．具体的なトピックス例としては，強誘電・マルチフェロイック材料，強磁性材料，エネルギー創製・貯蔵材料，磁気光効果材料，光電気材料，形状記憶材料，熱電変換材料，センサー・アクチュエーター材料，光触媒材料，発光材料，ナノ構造材料，低次元構造材料，モデリング・計算機支援材料デザイン，機能性材料の新規応用，計測・評価技術，新規合成方法・材料プロセッシング，機能性薄膜，生体材料などが揚げられるが，これに限定せず，広く機能性材料に関する最新の研究成果を募集して実施する． 参加費 一般参加登録費：50,000円（事前登録6月30日迄），60,000円（7月1日以降），学生参加登録費：25,000円，同伴者：15,000円 申込締切 2011年2月28日（月） 申込・連絡先 980-8577 仙台市青葉区片平2-1-1 東北大学多元物質科学研究所 ISFM2011事務局 関野 徹，殷しゅう TEL 022-217-5832，FAX 022-217-5832，E-mail：isfm2011※res.tagen.tohoku.ac.jp URL http://res.tagen.tohoku.ac.jp/~isfm2011/ フレキシブル・プリンテッド・エレクトロニクス国際会議 主 催 ICFPE2011組織委員会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 本会議：2011年9月22日（木）～23日（金）Pre-Conference：2011年9月21日（水）（22日：8：30～21：00，23日：9：00～16：45） 場 所 東京大学 安田講堂，工学部新2号館，山上会館（東京都文京区） 内 容 フレキシブル・プリンテッド・エレクトロニクスは，数十ナノメートルの極微小面積から数メートル寸法の大面積の印刷，超薄型フレキシブル，且つ，大量生産が可能なこれまでに無いデバイス製造を実現する魅力の技術です．その市場は，今後20年間で40兆円規模の新たな規模に成長すると期待され，欧州各国の技術開発への莫大な投資に加え，台湾，韓国の組織的な開発が始まっています．この新技術領域開拓のためには，インクとなる有機・無機・金属のナノ材料，高詳細に制御された印刷技術，さらに新たな概念のデバイス形成概念の確立が必要とされ，極めて広範囲な基盤形成が望まれます．ICFPE2011は，第一回の韓国ソウル，第二回の台湾新竹（参加者数400名，2010年）に引き続き，日本で開催されるものです．研究の発展に伴い，今まで以上に材料からデバイス応用までの幅広い研究者が一堂に会して議論できる国際的な場を提供し，フレキシブル・プリンテッド・エレクトロニクス研究の今後の発展に資することを目的としております．詳細はURLをご参照ください． 参加費 一般：38,000円，学生：12,000円 申込締切 アブストラクト申込締切：2011年5月15日，参加申込締切：2011年8月21日（早期割引），参加予定数：約500名（国外150名，国内350名） 申込・連絡先 567-0047 大阪府茨木市美穂ヶ丘8-1 ICFPE2011 プログラム委員長 菅沼克昭（大阪大学産業科学研究所） TEL 06-6877-5111，FAX 06-6879-8509，E-mail：suganuma※sanken.osaka-u.ac.jp 第45回 化学工学の進歩講習会 主 催 化学工学会東海支部 共 催 日本セラミックス協会ほか 日 時 2011年11月9日（水）～10日（木） 場 所 名古屋市工業研究所 第1会議室（愛知県名古屋市） 内 容 11月9日（水）（10：00～17：00）；1．【基礎】解析モデルと見える現象（10：00～11：00）（大阪大学）平田雄志，2．【基礎】混相流の基礎と最新情報（11：00～12：00）（大同大学）松浦章裕，3．【基礎】乱流の基礎と最新情報（13：00～14：00）（名古屋大学）長田孝二，4．【基礎】熱移動現象の基礎と最新情報（14：00～15：00）（名古屋大学）板谷義紀，5．【基礎】数値解析の基礎と最新情報（15：20～16：20）（大阪大学）岡野泰則，6．【トピックス】粘性指状体の移動現象（16：20～17：00）（名古屋工業大学）長津雄一郎 11月10日（木）（9：20～16：00）7．【装置】固液分離装置内の流動 （9：20～10：10）（名古屋大学）入谷英司，8．【装置】固気分離装置における圧力損失と粒子捕集効率の挙動（10：10～11：00）新東工業（株））池野榮宣，9．【装置】粉砕装置内の流動 （11：00～11：50）（東北大学）加納純也，10．【装置】撹拌装置内の流動（13：00～13：40）（名古屋工業大学）加藤禎人，11．【トピックス】非ニュートン流体の脱泡技術（13：40～14：20）（名古屋工業大学）岩田修一，12．【トピックス】マイクロバブルの流動（14：40～15：20）（名古屋大学准教授）安田啓司，13．【トピックス】膜モジュール内の流動（15：20～16：00）（東京工業大学）吉川史郎 参加費 化学工学会正会員 25,000円，化学工学会法人会員社員/共催・協賛団体（個人・法人）会員 30,000円（同一会社から何名でもこの価格で参加できます），化学工学会学生会員 5,000円，会員外 40,000円 申込締切 定員：100名（定員を超えた場合にはお断りすることがあります） 申込・連絡先 460-0011 名古屋市中区大須1-35-18 一光大須ビル7F 化学工学会東海支部 TEL 052-231-3070，FAX 052-204-1469 URL http://www.c-goudou.org/scej-tokai/s45.htm 第8回江崎玲於奈賞 ナノテクノロジー分野において顕著な研究業績を挙げた者を顕彰する賞を創設することにより，科学技術の振興，ひいては産業の活性化に寄与する． 対象者 日本国内の研究機関においてナノサイエンスあるいはナノテクノロジーに関する研究に携わり，世界的に評価を受ける顕著な研究業績を挙げた研究者，原則1名 内 容 本賞（賞状），副賞（1000万円），記念品 推薦受付締切 2011年3月4日 募集方法 ナノサイエンスおよびナノテクノロジー関連の国内主要36学会等の長，国内においてナノサイエンスおよびナノテクノロジー分野の研究を実施する主要な研究機関および大学等の長（110機関），つくばサイエンス・アカデミー運営会議委員34名に対し，推薦を依頼すること． 問合先 310-8555 茨城県水戸市笠原町978-6 茨城県企画部科学技術振興課内 茨城県科学技術振興財団 担当：齋藤 TEL 029-301-2532，FAX 029-301-2498，E-mail：kikaku7※pref.ibaraki.lg.jp URL http://www.i-step.org/prize/esaki/index.htm 第36回（平成23年度）井上春成賞 対象技術 （1） 大学，研究機関等の独創的な研究結果であること （2） 前項の研究成果を受けて，企業が開発し，企業化した技術（販売実績があるもの）であること※研究段階から開発，企業化までを自社のみで行ったものならびに研究者および企業等の両者が外国籍の場合は対象となりません （3） 科学技術の進展に寄与し，経済の発展，福祉の向上に貢献した技術であること※中堅・中小企業技術の場合，技術上の特徴，市場特性についても別途考慮します （4） 企業が実質的販売を始めてから，原則5年以内の技術であること （5） 大河内記念賞，日本産業技術大賞，市村賞本賞，恩賜発明賞等顕著な賞を受賞した技術でないこと 募集期間 2011年2月8日（火）～3月31日（木）（郵送の場合には当日の消印有効） 表彰件数 原則として2件 受賞者 表彰対象技術ごとに研究者代表1名および企業代表者1名 賞の内容 表彰状・純金製メダル・研究奨励金各100万円（研究者に対し，（財）新技術振興渡辺記念会より贈呈） 提出・問合先 332-0012 埼玉県川口市本町4-1-8 川口センタービル 科学技術振興機構内 TEL 048-226-5601，FAX 048-226-5651 徳山科学技術振興財団 助成対象 新材料分野およびこれに関連する技術術分野の海外における国際集会等に参加する研究者（ただし，大学等および公的研究機関に常勤する45才未満の者）に対し，出張経費の一部を援助します．助成は公募とし，選考のうえ決定します．なお，学長，学部長または研究所長の推薦が必要です． 助成対象期間 2011年6月～2012年5月開催の国際集会 助成金額 1件30万円まで（開催地により異なる），10件程度 申込締切 2011年3月31日（水）必着 申請書 財団ホームページより入手下さい． 問合先 150-8383 東京都渋谷区渋谷3-3-1 渋谷金王ビル内 徳山科学技術振興財団 TEL 03-3499-8483，FAX 03-3499-8958，E-mail：zaidan※tokuyama.co.jp URL http://www.tokuyama.co.jp/zaidan/ 第11回（平成23年度）材料科学技術振興財団 授賞対象分野 （1） ｢材料｣ （2） ｢半導体及び半導体装置｣ （3） ｢計測評価｣ （4） ｢バイオサイエンス・バイオテクノロジー」 授賞対象者 （1） 授賞対象は，論文の発表，特許の取得，方法・技術の開発等を通じて，実用化につながる優れた創造的業績を上げている人（複数人も可・総計3名以内）とします． （2） 受賞候補者の国籍は問わず，日本国内において業績をあげた人を授賞対象とします． （3） 過去に応募されたことのある人でも再応募可能です． 顕 彰 各分野それぞれに賞状および副賞（18金メダル・賞金300万円）を贈呈します． 募集期間 2011年2月1日（火）～4月30日（土）（必着） その他 詳細につきましては，ホームページをご覧下さい．※検索サイトで“山崎貞一賞”と検索下さい．トップページ（http://www.mst.or.jp/prize/）へのリンクがすぐに見つかります． 推薦書請求・提出先 157-0067 東京都世田谷区喜多見1-18-6 材料科学技術振興財団 山﨑貞一賞事務局 TEL 03-3415-2200，FAX 03-3415-5987，E-mail：prize※mst.or.jp URL http://www.mst.or.jp/prize/
日本セラミックス協会（支部・部会を含む）主催でなく，また，経済的負担を伴わない共催・協賛・後援等を申請される方は，以下の手順に沿ってお手続きください． 本会が経済的負担を伴う行事につきましては，個別に対応しておりますので，kyosan-shinsei※cersj.orgまでお問い合わせください． 申請方法 申請は，当協会HP各種手続より行ってください． 受取のご連絡は受信後すぐには致しかねますが，毎月20日午前中までに受信した申請については，原則として申請内容が承認されてから翌月初めまでにE-mailにて可否をご連絡致します．ご都合で郵送にて申請する場合でも，別途E-mailにてデータを送信してください．その際，郵送にても申請する旨をお書き添えください． ◎当協会機関誌への掲載について 申請を承諾した行事については，原則として当協会の機関誌「セラミックス」に掲載します． 毎月20日午前までに申請されたものについては，原則として翌々月1日発行号の会告欄に掲載しますが，誌面の都合上，開催日・申込締切日等を勘案し，後の号に掲載を順延することもありますので，予めご了承ください．なお，申請者にて特定月の掲載を希望する場合には，申請時にその旨お書きください． 申請頂いた時点で開催日や締切日が適切な掲載号に間に合わないものは，掲載致しません． URL https://www.ceramic.or.jp/csj/kyosan/kyosan.html ※日本セラミックス協会の支部・部会・研究会主催の行事の講演・参加募集記事についてはkaikoku※cersj.orgへ原稿添付でお送りください．毎月20日までに到着した原稿は，翌々月1日発行の号に掲載いたします．
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