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第10回4セラミックス研究機関 主 催 東京工業大学応用セラミックス研究所 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2010年1月19日(火)13:00〜18:00 場 所 東京工業大学すずかけ台キャンパス すずかけホール（神奈川県横浜市緑区長津田町4259） 内 容 セラミックス研究に携わる国内4研究所から7名の講師をお招きして，先端セラミックス研究の今後を探ります．「粉末X線回折測定における粒子統計解析」(名工大)井田 隆；「ポリマープレカーサー法による多孔質セラミック薄膜の合成―高温ガス分離膜の創製を目指して―」(名工大)岩本 雄二；「超硬工具向けタングステン代替材料のためのサーメット・コーティング技術の開発」(JFCC)松田 哲志；「マルチセラミックス膜新断熱材料の開発」(JFCC)奥原 芳樹；「圧電係数d33が600pC/Nを超える非鉛圧電材料」(NIMS)任 暁兵；「鉄系超伝導体の超高圧合成」(NIMS)室町 英治；「金属ナノ粒子を用いたボトムアップデバイスの創製」(東工大学)真島 豊 参加費 無料 申込締切 2010年1月12日（月) 申込・連絡先 226-8503 横浜市緑区長津田町4259 R3-34 林 克郎，参加申込返信先: E-mail: yosato※msl.titech.ac.jp FAX 045-924-5360 (担当: 佐藤) ， URL http://www.msl.titech.ac.jp/ 第24回JFCAテクノフェスタ 主 催 日本ファインセラミックス協会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2010年1月25日（月）9：30〜17：00 場 所 メルパルク東京 牡丹の間，百合の間（3階）（東京都港区） 内 容 ファインセラミックスに関する新商品・新技術紹介と技術動向等に関する講演 参加費 会員は無料．会員外は有料（5,000円） 申込締切 2010年1月14日（月）（定員100名） 申込・連絡先 105−0013 東京都港区浜松町1-2-1 一光浜松町ビル5階 日本ファインセラミックス協会 森 伸成 TEL 03-3431-8271, FAX 03-3431-8284, URL http://www.jfca-net.or.jp/kengaku/kengaku.html 日本技術士会化学部会 主 催 日本技術士会化学部会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2010年1月28日（木）13:30〜17:00 場 所 葺手第2ビル5階 日本技術士会会議室（東京都港区虎ノ門4-1-20 田中山ビル隣）内 容 1．「オールジャパン体制で取り組むべき希少資源リサイクル」（リン資源リサイクル推進協議会）田村恒弘，2．「100年に一度の経済危機下のコンプライアンス」（中村サブラヒ・テクノロジスト事務所）中村博昭 参加費 日本技術士会，日本セラミックス協会会員1,000円（技術士補およびJABEE認定コース修了者も会員並み），一般2,000円 申込締切 2010年1月21日（木） 申込・連絡先 319-1416 茨城県日立市田尻町1-21-7伊東技術士事務所 伊東亮一 TEL 0294-42-7645, FAX 0294-42-7645, E-mail：rito66642※ybb.ne.jp URL https://www.engineer.or.jp/ippan/dmsw0211.php The 20th Meeting on Glasses for Photonics 主 催 日本セラミックス協会ガラス部会フォトニクス分科会 日 時 2010年2月4日（木）13:00〜17:00 場 所 東京工業大学 百年記念館フェライト会議室, 参加登録費 会員5,000円，非会員8,000円，学生1,000円（当日会場にて申し受けます） 懇親会費 1,000円（当日会場にて申し受けます） プログラム 13：00〜14：40 1. LED封止用ガラス材料 （旭硝子）○松本修治,中村伸宏 2． モールド法によるガラス成型における離型特性の評価 （産業技術総合研究所１）,北海道大学電子科学研究所２））○大向啓正1）,茶谷原昭義1）,杢野由明1）,西井準治2) 3．超高屈折率ガラス球 （日本板硝子１）,宇宙航空研究開発機構２））○橘高重雄１）,米澤茂樹１）,倉知淳史１）,坂口浩一１）,菱沼晶光１）,余野建定２）,依田眞一２） 4. ケイ酸塩ガラスの構造不均一性と核形成挙動 （東北大学大学院１）,物質・材料研究機構２））○高橋儀宏１）,正井博和１）,藤原巧１）,長田 実２） 5. 石英系光導波路における低損失化の進展（NTT）○小湊俊海,井藤幹隆,伊東雅之 15：00〜17：00 6. Yb3+-Ln3+(Ln3+=Tb3+,Ce3+)共添加ガラスの量子切断による可視-近赤外変換特性 ○上田純平,田部勢津久（京都大学大学院） 7. イッテルビウム添加ビスマスファイバー （旭硝子）○大原盛輝 8. 高効率太陽光励起ファイバレーザーの実現に向けたNd添加ガラスの量子効率測定 （豊田工業大学大学院１）,豊田中央研究所２））○鈴木健伸１）,那須寛之１）,Mark Hughes１）,水野真太郎２）,長谷川和男２）,伊藤 博２） 9. 高非線形MOFによるスーパーコンティニューム光の発生 （豊田工業大学大学院）○大石泰丈, Guanshi Qin, Meisong Liao, Xin Yan,鬼頭千尋,鈴木健伸 10. 【招待講演】マグネシウム文明の夜明け 17：10〜18：40 懇親会（東京工業大学 百年記念館「角笛」） 問合先 510-0051 四日市市千歳町2 日本板硝子(株)研究開発部 常友啓司 TEL 059-352-2493，FAX 059-353-4707 URL https://www.ceramic.or.jp/bglass/index_j.html 平成21年度KAST教育講座 主 催 神奈川科学技術アカデミー 後 援 日本セラミックス協会ほか 日 時 2010年2月9日（火）〜10日（水）(9日10:00〜17:45，10日10:00〜17:30) 場 所 かながわサイエンスパーク内研修室（神奈川県川崎市高津区坂戸） 内 容 めっき技術は，大面積，非平滑面への均一薄膜形成という利点が活かされてエレクトロニクスや機械装置などさまざまな分野に使われてきましたが，昨今ではより精密かつ信頼性の高いプロセスが求められるようになています．最近ではMEMSを中心とする微細加工技術やバイオ領域での応用も検討されています．めっきは，条件の精確なコントロールにより，高精度かつ信頼性の高い製品を造ることができる，高品位ものづくり技術として位置づけられます．電子デバイスにおける微細配線や三次元実装，電鋳を用いた微細金型の精密造形など，より高精度な技術革新が進められると共に，環境にやさしいプロセス技術開発の開発も急務となっています．さらに，超撥水性めっきや粉体へのめっき技術など，新しい試みも提案されつつあります．本コースは，2日間の日程で「めっきプロセス技術の新展開」，「微細構造形成・インターコネクションと実装技術」 のテーマを設け，技術開発の視点のみならず，これからのトレンドやビジネス展開のあり方についても講義に取り入れています．めっき技術のいまとこれからを探りたいとお考えの方にお薦めしたい内容です． 参加費 全日程38,000円 1日単位の受講20,000円 申込締切 2010年1月15日(金）（定員20名） 申込・連絡先 213-0012 川崎市高津区坂戸3-2-1 KSP東棟1階 神奈川科学技術アカデミー 教育情報グループ TEL 044-819-2033, FAX 044-819-2097, E-mail：ed※newkast.or.jp URL http://www.newkast.or.jp/kyouiku/kouzaboshu/ed21_IV06.html 第19回顔料分散講座 主 催 色材協会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2010年2月12日（金）9：00〜17：10 場 所 東京塗料会館（東京都渋谷区恵比寿） 内 容 9:00〜10:30 顔料分散の基礎―顔料分散の基礎理論と分散向上の具体的な手法―（DIC (株)）藤巻正典；10:40〜12:10 塗料における顔料分散―顔料分散剤の利用技術および分散機の最新動向―（日本ペイント(株)）郷司春憲；13:20〜14:30 グラビアインキにおける顔料分散―原材料と製造方法，分散安定化のための手法―(東京インキ(株) )内藤宏行;14:40〜15:50オフセットインキにおける顔料分散 参加費 会員 19,000円，会員外 29,000円，学生 3,000円（テキスト共，消費税込）※テキストの事前配布をご希望の場合は，申込書に記入の上送料500円を受講料と併せてご送金下さい．（テキスト事前配布申込締切2010年1月22日(金)） 申込締切 定員（100名）になり次第締切 申込・連絡先 150-0013 東京都渋谷区恵比寿3-12-8-201色材協会 和田美咲 TEL 03-3443-2811, FAX 03-3443-3699, E-mail：shikizai-no3※angel.ocn.ne.jp 平成21年度東海支部講演会 東海支部では下記の通り講演会を開催いたします．多数の方のご参加をお待ちしております． 主 催 日本セラミックス協会 東海支部 共 催 日本セラミックス協会 陶磁器部会 協 賛 耐火物技術協会 東海支部 日 時 2010年2月19日（金）15：00〜17：00 場 所 ファインセラミックスセンター（名古屋市熱田区六野2-4-1 TEL 052-871-3500） 交 通 JR東海道本線「熱田」駅から徒歩 7分，名鉄本線「神宮前」駅東出口から徒歩10分，地下鉄名城線「神宮西」駅2番出口から徒歩10分 プログラム １）「DPFを中心としたイビデンのセラミックス開発について」（イビデン(株)技術開発本部 セラミック開発部 理事） 大野一茂 ２）「ナノ空間材料の合成と構造解析」（日本ファインセラミックスセンター ナノ構造研究所 主席研究員）佐々木優吉 参加料 無料 募集人数 70名 申込締切 2010年1月29日(金） 懇親会 講演会終了後，17:15〜19:00に同会場にて懇親会を開催します．多数ご参加ください．懇親会参加費 3,000円（当日会場にて受け付けます．） 申込方法 氏名，勤務先名および所属（役職），または学校名，連絡先(電話，FAX，E-mail)および懇親会参加の有無を記入の上，葉書，FAXまたはE-mailで下記まで申し込み下さい． 申込先 460-0008 名古屋市中区栄2-17-22 中部科学技術センター内 (社)日本セラミックス協会東海支部事務局 担当：椎野 TEL 052-231-3070，FAX 052-204-1469，E-mail：hi-shiino※c-goudou.org 詳細HP：URL https://www.ceramic.or.jp/stokai/index_j.html MANA International Symposium 2010 主 催 物質・材料研究機構 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2010年3月3日（水）〜5日（金） 場 所 つくば国際会議場（茨城県つくば市） 内 容 ［基調講演］C.N.R. Rao教授，インドJawaharlal Nehru Centre for Advanced Scientific Research;［招待講演］国内外の著名研究者9件；［一般講演】MANA PI，ほか，計27件予定;［ポスター発表］MANA研究者，ほか公募有 参加費 無料 申込締切 2010年2月12日（金）（定員200名） 申込・連絡先 305-0044 茨城県つくば市並木１-１ (独)物質・材料研究機構国際ナノアーキテクトニクス研究拠点MANA International Symposium 2010 事務局 TEL029-860-4709, FAX029-860-4706, URL http://www.nims.go.jp/mana_2010/
第15回分子動力学シンポジウム 主 催 日本材料学会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2010年5月21日（金）未定 場 所 札幌コンベンションセンター（北海道札幌市白石区） 内 容 近年，ナノスケールの構造や材料組織に対する電子・原子・分子レベルシミュレーションによる力学応答研究や計算機実験の重要性が益々増してきています．本学会分子動力学部門委員会では，発足以来，原子/分子レベルのシミュレーションに関連する研究者・技術者が一堂に会し，議論を行なう場として，毎年一回のシンポジウムを開催してまいりました．今回も若手からベテランまで様々な立場の方々にご発表いただき，活気あふれるものにしてまいりたいと考えております．分子動力学シミュレーションを中心として，マルチスケール・マルチフィジックス計算の方法論，分子動力学シミュレーションと同様の手法を用いる関連した分野の研究など，様々な研究発表を幅広く募集いたします．また，優れた内容の発表に対して分子動力学部門委員会賞として「MD賞」が贈られることとなっております．ふるってご参加頂きますよう，お願い申し上げます．発表形態 まとまった研究について深い議論を行なう場，あるいは，初期段階の研究について方針を検討する場として本シンポジウムを様々な形でご活用できますように発表形態を選択制とします．(a)口頭発表（25分，質疑応答を含む），(b)ポスター発表の2通りの中からご希望の発表形態を選択し，講演申し込みと合わせてご連絡ください．なお，講演会場とプログラムの関係からご希望に添えない場合もございますこと，ご了承ください． 参加費 講演論文集 会員（協賛学協会会員含む）3,000円，非会員4,000円 講演申込締切 2010年2月19日（金） 申込・連絡先 606-8301 京都市左京区吉田泉殿町1-101 日本材料学会「第15回分子動力学シンポジウム」係 TEL 075-761-5321, FAX 075-761-5325, E-mail：md※md.jsms.jp
第10回日本−ロシア−独立国家共同体 主 催 第10回日本−ロシア−独立国家共同体−バルト3国強誘電体会議実行委員会 共 催 日本セラミックス協会ほか 日 時 2010年6月20日（日）〜24日（木）（20日：16:00〜，21〜24日：9:00〜） 場 所 東京工業大学すずかけ台キャンパス内大学会館（すずかけホール）（神奈川県横浜市） 内 容 本会議は第1回が1976年ソ連のノボシビルスクで開催されて以来，ほぼ定期的に開催されてきた強誘電体に関する重要な国際会議の1つです．討論の主な項目は，強誘電体，圧電体，リラクサー，マルチフェロイックス，電子強誘電体，ドメイン，薄膜，理論，計測法，結晶成長，構造，他です．第10回会議は東工大すずかけ台キャンパスで開催し，参加者は200名程度を予定しています．強誘電体に関するほぼ全ての分野の研究を網羅していますので，基礎あるいは応用に関わらず，誘電体に関連する研究者の参加をお待ちしています．会議の構成は次の通りです．5件のプレナリー講演（R. Blinc(Stefan) ,D. Vanderbilt(Rutgers) W. Kleemann(Duisburg-Essen)小島誠治(筑波大),B. Strukov(Moscow)），24件の招待講演（坂部行雄(村田製作所),石原宏(東工大)ほか），口頭発表(40件)，およびポスター発表（優れた発表を行った35歳以下の研究者には若手奨励賞，全てのポスター発表を対象として優れた発表を行った研究者にはベストポスター賞を授与します．） 参加費 一般35,000円,学生10,000円 申込締切 アブストラクト締切：2010年1月20日(水)，参加登録締切：2010年4月1日(木)申込・連絡先 226-8503 横浜市緑区長津田町4259 Mail-Box:J2-19東京工業大学応用セラミックス研究所 伊藤・谷山研究室内 RCBJSF-10事務局 TEL045-924-5354, FAX045-924-5354, URL http://www.msl.titech.ac.jp/~RCBJSF10/index.htm（参加登録・プログラム等の詳細はURL参照） 第44回Ｘ線材料強度に関する 主 催 日本材料学会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2010年7月8日（木）〜9日（金）9:15〜17:00 場 所 日本材料学会 3階 会議室（京都府京都市左京区） 内 容 製品の信頼性・強度評価はますます重要になる一方で，その対象も薄膜，単結晶および集合組織など多様になっています．新しい応力評価の発展は，強度評価に新しい知見を与え，優れた製品の創出に役立ちます．本会では，X線，シンクロトロン放射光および中性子回折に限らず，その他の非破壊的な検出手法の原理と応用について応力測定ならびに材料の変形挙動に関する研究発表の場を持ち，討論を重ねております．これらの材料研究に携わっておられる方々の講演発表を期待しております．下記に示す講演内容に関する最近の成果を希望いたします．1. Ｘ線応力測定, 2. シンクロトロン放射光応力測定, 3. 中性子応力測定, 4.残留応力, 5. 疲労および破壊, 6. 塑性変形, 加工および溶接, 7. 応力の実験・解析技術, 8. 損傷の検出と評価, 9. 破面解析, 10. 新素材とＸ線回折, 11. 表面改質,12. 複合材,被覆材,溶接材, 薄膜などの評価, 13. その他 参加費 会員（協賛学協会会員含む）7,000円（学生2,000円），非会員10,000円（学生3,000円） 講演申込締切日 2010年3月5日（金） 申込・連絡先 606-8301 京都市左京区吉田泉殿町1-101 日本材料学会 X線シンポジウム係 TEL 075-761-5321, FAX 075-761-5325,
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