|
|
|
 |
| 半導体チップの回路図をシリコンウェハ上に転写するためのレンズ |
| 現代社会における我々の生活は、半導体集積回路（IC）なしでは考えられない。更に高度なICを開発・製造し続けていくためには、半導体露光装置も進化していかなければならない。具体的には、集積回路をより高い解像度で精密に焼き付けるため、露光波長の短波長化が進行している。現在、最先端の半導体デバイス製造に使用される装置にArFエキシマレーザー（193nm）が用いられている。精密な光学機器に用いられる光学ガラスは、この波長領域では光を十分に透過しないために使用することはできない。このような最先端の半導体露光装置のレンズ用光学材料としては、短波長における透過率が非常に高く、耐久性も良い石英ガラス、蛍石が採用されている。これらは、光を用いた半導体集積回路製造技術において、必要不可欠な光学材料といえる。 |
 |
| 製品の使用用途 |
半導体集積回路製造用露光装置 |
| 見学可能な博物館など |
特になし |
| Key-word |
半導体集積回路，石英ガラス，蛍石，スキャナー，エキシマレーザー |
| 市場に出回った年代 |
1980年代後半〜現在
*現在とは記事作成時（2023年1月時点での情報です） |
|
|
さらに詳しい解説記事を読む