参加募集第39回電子材料研究討論会（旧エレクトロセラミックス研究討論会） 電子材料研究討論会（旧エレクトロセラミックス研究討論会）は，電子材料やデバイス，それらの作製プロセス技術等に関する研究成果を発信・議論するための討論会です．今回は特に「エレクトロセラミックスの低温プロセスと熱電材料」を主要テーマのひとつとしています．また，産官学の若手の研究者や技術者（原則42歳未満を想定）の交流会（ヤングミキサー）の開催を予定しています（参加費無料）．若手の研究者・技術者の積極的なご参加を期待します．さらにJournal of the Ceramic Society of Japan（JCSJapan）で本討論会特集号を企画しています． 主 催日本セラミックス協会電子材料部会 協 力基礎科学部会 協 賛応用物理学会，電気学会，電子情報通信学会，日本化学会，日本材料学会，日本材料科学会，粉体粉末冶金協会，日本ゾル-ゲル学会，電子セラミックス・プロセス研究会，生体関連材料部会，資源・環境関連材料部会 日 時2019年11月28日（木）9:50～18:00， 29日（金）9:10～18:10 場 所ウインク愛知（愛知県産業労働センター）（愛知県名古屋市中村区名駅4-4-38） プログラムはHPよりダウンロードできます．https://www.ceramic.or.jp/bdenshi/activity03/activity03_2019.html 事前参加登録申込方法申込サイト https://docs.google.com/forms/d/e/1FAIpQLSdP5akCVdLT_GR7LokNJ7aYQV4FSDqhycUH8Rx-Yh48pSdhDQ/viewform から行ってください．発表者は必ず参加登録してください 事前参加登録申込締切2019年11月12日（火） 事前申込による参加費（当日配布の要旨集代含）（詳細はホームページで確認ください） 当日受付による参加費（当日配布の要旨集代含） 懇親会参加費一般3,000円，学生無料 事前参加費振込先三菱UFJ銀行 代々木上原支店 普通 0035858 公益社団法人日本セラミックス協会 電子材料部会 問合先日本セラミックス協会 電子材料部会 TEL 03-3362-5231，E-mail：e-touron※cersj.org，研究討論会主査 脇谷尚樹（静岡大学） プログラム詳細 －11月28日（木）－ Ａ会場 9:50～10:00開会挨拶（部会長） 圧電体 10:00～10:50 1A01*（30分） (K,Na)NbO3系無鉛圧電材料の超音波センサへの適用 ○辻井明日香,笠島 崇, 山崎正人,沖村康之（日本特殊陶業（株）） 1A02*（20分） 固相結晶成長法による(K0.5Na0.5)NbO3単結晶の作製と圧電特性評価 ○藤井一郎,上野慎太郎,和田智志（山梨大） 薄膜 10:50～12:00 1A03*（30分） エピタキシャル強誘電体薄膜における歪みとドメイン構造が電気光学特性に与える影響 ○近藤真矢,山田智明,吉野正人, 長崎正雅（名古屋大） 1A04*（20分） スパッタリング法を用いたY:HfO2強誘電体厚膜の作製とその電気特性評価○志村礼司郎,三村和仙,清水荘雄,舟窪 浩（東工大） 1A05*（20分） ダイナミックオーロラPLD法を用いたペロブスカイト型タンタル酸カルシウム薄膜の作製 ○川口昂彦,青島楓汰,杉田真由子,坂元尚紀,鈴木久男,脇谷尚樹（静岡大） 12:00～13:00昼食 半導体 13:00～13:40 1A06*（20分） Relationship Between the Microstructure at Grain Boundary and the Resistance of Electrical Degradation of Bismuth-based Zinc Oxide Varistors Added Boron Oxide ○Yumeng Zheng,Tomoki Kawasaki,Masafumi Fujimoto,Yuuki Sato, Shinzo Yoshikado（Doushisha University） 1A07*（20分） 希土類添加アモルファス酸化物半導体の作製と発光素子への応用 ○井手啓介1,渡邉脩人1,片瀬貴義1,2,笹瀬雅人3,金正煥3,上田茂典4,堀場弘司5,組頭広志5,平松秀典1,3,細野秀雄3,神谷利夫1,3（1東工大フロ研,2 JSTさきがけ，3東工大元素セ,4 NIMS, 5 KEK） 解析 13:40～14:20 1A08*（20分） チタン酸バリウム表面でのバインダー熱分解挙動の解析 ○小和瀬裕介,染井秀徳,水野高太郎,渥美照夫,小澤貢太郎,岩崎誉志紀（太陽誘電（株）） 1A09*（20分） La-Li-Co-O系の結晶構造,イオン伝導,イオン拡散経路 ○高見 剛1,森田善幸1,米村雅雄2,石川喜久2,田中真悟3,森 正弘3,福永俊晴1, 松原英一郎1,安部武志1（1京都大,2高エネ研,3産総研） 14:20～14:30休憩 Ｂ会場 ポスターショートプレゼンテーション 14:30～15:15P01～P50（奇数番号） 15:15～16:00P01～P50（偶数番号） Ａ会場 ポスターセッション 16:00～17:00P01～P50（奇数番号） 17:00～18:00P01～P50（偶数番号） ヤングミキサー（原則42歳未満対象）（参加費無料） 18:00～20:00世話人 保科拓也（東工大）,有光直樹（昭栄化学工業）,片瀬貴義（東工大） －11月29日（金）－ 誘電体 9:10～9:50 2A01（20分） Aサイト固溶を施したチタン酸バリウムナノキューブの合成と評価 ○三村憲一,板坂浩樹,劉崢,加藤一実（産業技術総合研究所） 2A02（20分） 板状無機フィラー/ポリフッ化ビニリデンコンポジットの誘電特性 ○稲垣友美,小澤隆弘,中村忠司（豊田中央研究所） センサー 9:50～10:30 2A03（20分） MgXZn1-XO薄膜のH2ガスセンシング特性 ○安達 裕（物材機構） 2A04（20分） 光音響分光法を用いた希土類シリケートシンチレータの無輻射失活評価 ○藤本 裕,越水正典,深田晴己,柳田健之,長田隼弥, 長尾勝彦,鈴木裕季,浅井圭介（東北大） 10:30～10:40休憩 フェロイクス 10:40～12:00 2A05（30分） （招待講演）スピネル型フェライト磁性セラミックス ○車声雷（浙江工業大） 2A06（30分） Eu2+添加した Sr1-XCaXAl2O4の発光特性と微細構造 ○森 茂生1, 平野迅郷1, 武田博明2（1大阪府立大,2東工大） 2A07（20分） ニオブ系圧電セラミックスのフェロイクス特性と疲労挙動 ○伊藤雄一朗1, 柿本健一1,Alexander Martin2,Kyle G. Webber2（1名工大,2エアランゲン-ニュルンベルク大） 12:00～13:00昼食 半導体・導電体 13:00～13:40 2A08（20分） 電気化学キャパシタ電極に向けたMnO2の導電性に対する化学修飾効果○木俣良介,渕上輝顕,籠宮 功,前田浩孝,柿本健一（名工大） 2A09（20分） 放電原理併用の超低容量積層バリスタのTLP による動作解析と実用特性 ○古賀英一,東 佳子（パナソニック（株）） 13:40～13:50休憩 特別セッション 電子材料の低温プロセス 13:50～15:20 2S01（30分） （招待講演）分子設計された前駆体溶液からの高性能圧電体薄膜の形成 ○鈴木久男1,大野智也2（1静岡大電研,2北見工業大） 2S02（30分） Water-Assisted Solid-State Reactionのメカニズム ○戸田健司（新潟大） 2S03（30分） 酸化物原子膜の精密合成と応用 ○長田 実1，佐々木高義2（1名古屋大未来研, 2物材機構MANA） 15:20～15:30休憩 特別セッション 熱電材料 15:30～17:00 2S04（30分） （招待講演）Mg分圧制御加熱がMg2Si系材料のMg含有量と熱電特性に与える影響 ○加藤大輔,岩崎航太（トヨタ紡織（株）） 2S05（30分） Aサイト複合ペロブスカイト型構造に基づく酸化物熱電材料の設計と合成 ○萩原 学1,Sverre M. Selbach2,藤原 忍1（1慶應大，2ノルウェー科学技術大） 2S06（30分） 引張歪から圧縮歪まで制御したLaNiO3薄膜の構造とフォノンドラッグ熱電特性○片瀬貴義1,2,樋口雄飛1,木村公俊1,井手啓介1,平松秀典1,3,細野秀雄1,3,神谷利夫1,3（1東工大フロ研,2 JSTさきがけ,3東工大元素セ） 17:00～17:10休憩 部会連携講演（生体関連材料部会,資源・環境関連材料部会） 17:10～18:10 2C01（30分） （招待講演）可視光照射によって抗菌性を示す生体活性チタンの開発 ○川下将一（東京医科歯科大） 2C02（30分） （招待講演）水溶液プロセスによるフレーク状金属酸ナノシートのボトムアップ合成 ○伴 隆幸（岐阜大） 奨励賞表彰式・懇親会 11月29日（金） 18:40～20:00 参加費3,000円（学生は無料） ポスターショートプレゼンテーション （11月28日（木）奇数14:30～15:15，偶数15:15～16:00） ポスターセッション （11月28日（木）奇数16:00～17:00，偶数17:00～18:00） P01 メタンガス直接導入用SOFC燃料極材料Ni/YSZへのBZCYYb添加効果 ○矢川駿汰,小波津和喜,吉永昌史（東海大） P02 イソオクタン燃料固体酸化物燃料電池用Ni-YSZ/Ni/CeO2三層積層アノードの微細構造制御による耐久性と発電性能の向上 高橋央弥, 阿部涼香,○佐々木一哉（弘前大） P03 リチウムイオン伝導体La0.57Li0.29TiO3の二端子電気透析時のインピーダンスの変化 篠原爽吾,八戸悠真,○佐々木一哉（弘前大） P04* 三極式電気透析によるリチウム回収のエネルギー効率 ○新村潔人,井岡聖一郎,佐々木一哉（弘前大） P05* リチウムイオン電解質La0.59Li0.29TiO3を用いた三極式電気透析デバイスの二次側溶液濃度の影響 ○ 新村潔人,井岡聖一郎,佐々木一哉（弘前大） P06* リチウム置換ニオブ酸ランタン単結晶の育成とイオン伝導性 ○峯岸秀也,保科拓也,鶴見敬章,武田博明（東工大） P07 ナトリウムイオン二次電池用正極材料ナトリウムマンガン酸化物のマイクロ波合成 ○鈴木龍弥,松前義治,佐藤正志,秋山泰伸,淺香 隆,樋口昌史（東海大） P08 水蒸気雰囲気中における金属ジルコニウムの自己酸化膜の作製 ○竹村理央1,佐々木一哉1,丹羽栄貴2,近藤正聡3,（1弘前大,2三重大,3東工大） P09 (Sn1-XPb X)Se固溶体準安定相の熱電輸送特性 ○西村優作1,片瀬貴義1,2,井手啓介1,平松秀典1,3,細野秀雄1,3,神谷利夫1,3（1東工大フロ研,2 JSTさきがけ,3東工大元素セ） P10 アンチモン添加による層状セレン化スズの二重極性反転 ○山本千紘1,片瀬貴義1,2,井手啓介1, 平松秀典1,3,細野秀雄1,3,神谷利夫1,3（1東工大フロ研,2 JSTさきがけ,3東工大元素セ） P11* 色素増感ZnOロッドアレイ光電極の微細構造および光散乱の制御による性能向上 ○東海林孝仁,萩原 学,藤原 忍（慶応大） P12 層状AE2CuInO3Ch (AE=Ca,Sr,Ba,Ch =S,Se,Te)の光電子輸送特性 ○ホ シンイ1,長 達也1,森 大介1,片瀬貴義1,2,井手啓介1,平松秀典1,3,細野秀雄1,3,神谷利夫1,3（1東工大フロ研, 2 JSTさきがけ,3東工大元素セ） P13 層状半導体BaHfN2の合成と光電子物性 ○白石明浩1，ホ シンイ1,渡邉脩人1,片瀬貴義1,2,井手啓介1，平松秀典1,3,細野秀雄1,3,神谷利夫1,3（1東工大フロ研,2 JSTさきがけ,3東工大元素セ） P14* 表面活性な蛍光体粒子の新規合成とH2O2蛍光センシング ○本宮香純,萩原 学,藤原 忍（慶応大） P15 Ce添加Cs3ScCl6の発光特性 ○髙橋佳亮1,荒井美紀1,越水正典1,藤本 裕1,柳田健之2,浅井圭介1（1東北大,2奈良先端大） P16 Pr:BaZrO3におけるイットリウム・水素添加による発光特性の変化 ○杉山純一,吉野正人,山田智明,長崎正雅（名古屋大） P17* Multi piezo材料の結晶構造制御による 性能向上 ○原 弘峻1,2,王瑞平1,鄭旭光3,西堀麻衣子2,徐超男1,2（1産総研,2九州大,3佐賀大） P18* CaZnOS:Mnの開発とMulti-piezo性能の向上 ○溝畑将之1,2,徐超男1,2（1産総研,2九州大） P19* 近赤外応力発光体による生体組織外からの応力解析 ○石井孝治1,2,上野直弘3,徐超男1,2（1産総研,2九州大,3佐賀大） P20 希土類添加CaS焼結体シンチレータの開発 ○荒井美紀,藤本 裕,越水正典,浅井圭介（東北大） P21 Yb2+添加ACaCl3(A =Cs,Rb,K)結晶のPLおよびシンチレーション特性 ○溝井航平1,荒井美紀1,藤本 裕1,中内大介2,越水正典1,柳田健之2,浅井圭介1（1東北大,2奈良先端大） P22* 有機色素を直接導入した透明な酸化亜鉛膜の低温液相合成とそのエレクトロクロミック特性 ○弓山涼介,萩原 学,藤原 忍（慶応大） P23* Tiイオンの価数変化に起因するCaTiO3:Pr3+蛍光体ナノ粒子のフルオロクロミズム ○高橋秀明,萩原 学,藤原 忍（慶応大） P24* 光音響分光法による銀添加リン酸塩ガラスの評価 ○川本弘樹,藤本 裕,越水正典,浅井圭介（東北大） P25 メカニカルアロイング による珪化モリブデンの作製と評価に関する研究 ◯谷井悠希, 佐藤祐喜,吉門進三（同志社大） P26 エアロゾルデポジションによるITO-Al2O3複合体薄膜の混合微粒子体積割合依存性に関する研究○小倉耀裕,佐藤祐喜,吉門進三 （同志社大） P27 アモルファス酸化ガリウム薄膜への電子ドーピングとショットキーダイオード ○笠井悠莉華1,井手啓介1,片瀬貴義1,2,平松秀典1,3，細野秀雄1,3,神谷利夫1,3（1東工大フロ研,2 JSTさきがけ,3東工大元素） P28* ポーラスシリコン基板上へのNi-Znフェライト薄膜の作製とガスセンサー特性評価 ○石上大貴1,川口昂彦1,坂元尚紀1,篠崎和夫2, 鈴木久男1,脇谷尚樹1（1静岡大,2東工大） P29* ゾル-ゲル法により作製したZrO2薄膜の欠陥誘起強磁性 ○木村卓通,萩原 学,藤原 忍（慶応大） P30* 貫通型ポーラスシリコン基板上へのYSZの成膜におけるエピタキシャル成長可能な条件の検討 ○中根裕樹1,川口昂彦1,坂元尚紀1, 篠崎和夫2,鈴木久男1,脇谷尚樹1（1静岡大,2東工大） P31* 化学溶液堆積法を用いた (Na,Ca)(Nb,Zr)O3エピタキシャル薄膜の作製 ○鈴木志歩,白石貴久,木口賢紀,今野豊彦（東北大） P32* PZT薄膜のMPB組成域における微細組織に及ぼす格子ミスマッチの影響 ○清水 匠1,粟飯原雅矢1,木口賢紀2,白石貴久2,今野豊彦2（1東北大,2東北大金研） P33* ダイナミックオーロラPLD法による チタン酸ストロンチウム薄膜の自発的超格子生成におけるRHEED観察 ○吉田茉由1,川口昂彦1, 坂元尚紀1,篠崎和夫2,鈴木久男1,脇谷尚樹1（1静岡大,2東工大） P34* 強誘電体(Pb0.9Sr0.1)TiO3/常誘電体SrTiO3人工超格子薄膜の作製と電気機械特性の評価 ○井口雄介1,山田智明1,2,坂田修身3,吉野正人1, 長崎正雅1（1名古屋大,2 JSTさきがけ,3 物材機構） P35* 引張応力下(PbXSr1-X)TiO3薄膜の膜厚がドメイン構造に与える影響 ○太田悠登1,山田智明1,2,吉野正人1,清水荘雄3,舟窪 浩3,長崎正雅1（1名古屋大,2 JSTさきがけ,3東工大） P36* 格子歪みを制御したBaTiO3系超格子薄膜の作製と物性評価 ○川月惇史,北中佑樹,野口祐二,宮山 勝（東京大） P37 Fabrication of <111>-Oriented BaTiO3 Ceramics by Electrophoretic Deposition Method Using Hexagonal-Tetragonal Co-existing BaTiO3 Powder ○Hari Shankar Mallik, Sangwook Kim, Ichiro Fujii, Shintaro Ueno, Satoshi Wada（Univ. of Yamanashi） P38* チタン酸バリウムナノキューブ集積体の作製及び粒子間接合方法の検討 ○畠山朔弥, 上野慎太郎,藤井一郎,和田智志（山梨大） P39* スパークプラズマ焼結を用いた複合セラミックスの作製と電気特性評価 ○三枝裕也, 藤井一郎,上野慎太郎,和田智志 （山梨大） P40* ビスマスと窒素を共添加したチタン酸バリウムの作製 ○山田隆寛,西山準二,武田博明,鶴見敬章,保科拓也 （東工大） P41* Investigation of dopant concentration in Mn-Nb co-doped barium titanate ceramics for DC-bias free dielectric characteristics ○Piyush Sapkota, Ichiro Fujii, Shintaro Ueno, Satoshi Wada （Univ. of Yamanashi） P42* Material design using A-site ion off-centering for electrical properties enhancement in Bi-based ceramics ○Sangwook Kim1, Ichiro Fujii1, Shintaro Ueno1, Satoshi Wada1, Chikako Moriyoshi2,Yoshihiro Kuroiwa2,（1 Univ. of Yamanashi,2 Hiroshima Univ.） P43* Compositional dependence of piezoelectric and ferroelectric properties in Bi-based ceramics ○Hyunwook Nam, Ichiro Fujii, Sangwook Kim, Shintaro Ueno, Satoshi Wada（Univ. of Yamanashi） P44* <110>配向0.85(Bi0.5Na0.5)TiO3-0.15BaTiO3セラミックスにおける圧電特性向上の検討 ○河地紘佑,藤井一郎,上野慎太郎,和田智志（山梨大） P45* ビスマス系酸化亜鉛バリスタへの酸化ホウ素添加の効果および生成される化合物に関する研究 ○藤本雅史,川崎知樹,鄭雨萌,佐藤祐喜,吉門進三（同志社大） P46* ビスマス系酸化亜鉛バリスタへの酸化アンチモンおよび酸化ホウ素の同時添加の電気特性に及ぼす影響に関する研究 ○川崎知樹, 藤本雅史,鄭雨萌,佐藤祐喜,吉門進三（同志社大） P47* Modified conventional sintering for ferroelectricity enhancement in (Bi0.5K0.5)TiO3 ceramics fabricated by solid-state reaction method○Gopal Prasad Khanal, Ichiro Fujii, Shintaro Ueno, and Satoshi Wada （Univ. of Yamanashi） P48* MnCO3及びCuOを添加したBa(Zr,Ti)O3-(Ba,Ca)TiO3系非鉛強誘電体セラミックスのハイパワー圧電特性に及ぼすエージング効果 ○冨永拓央,髙木優香,永田 肇,竹中 正（東理大） P49* ゾル-ゲル法により合成した強誘電体Bi2SiO5微粒子の低温焼結 ○坂本健悟1,萩原 学1, 谷口博基2, 藤原 忍1（1慶応大,2名古屋大） P50* Sr置換オケルマナイト単結晶の育成と電気的・機械的特性評価 ○日下部 展,臼井晴紀, 保科拓也,鶴見敬章,武田博明 （東工大） ◎スパムメール対策のため@の代わりに※が入っています。お手数ですが送信の際は@に変換してご送信ください． 参加募集日本技術士会化学部会11月度講演会 主 催日本技術士会化学部会 協 賛日本セラミックス協会ほか 日 時2019年11月28日（木）13:30～17:00 場 所機械振興会館地下3階B3-1号室（東京都港区） 内 容講演1「食・健康・環境と集団微生物制御－バクテリアの会話を知って利用する－」野村暢彦（筑波大学），講演2「古くて新しいナノ素材”導電性カーボンブラック” の基礎と応用」前野聖二（ライオンスペシャリティケミカルズ） 参加費日本技術士会会員，日本セラミックス協会会員1,000円，（修習技術者，技術士補，JABEE認定コース修了者も同様），一般2,000円 申込締切2019年11月21日（木） 申込・連絡先140-0011 東京都品川区東大井5-15-14-1301 沢木技術士事務所 沢木 至 TEL 03-6433-9696，FAX 03-6433-9696，E-mail：cycle.sawaki※nifty.com URLhttps://www.engineer.or.jp/ippan/dmsw0211.php ◎スパムメール対策のため@の代わりに※が入っています。お手数ですが送信の際は@に変換してご送信ください． 参加募集2019年度日本セラミックス協会 東海支部学術研究発表会 主 催公益社団法人日本セラミックス協会東海支部 日 時2019年11月30日（土）9:15～16:40（受付開始8:30より） 場 所名城大学天白キャンパス共通講義棟北4階（名古屋市天白区塩釜口1-501） 参加登録料一般3,500円，学生2,000円（含要旨集，当日会場にて受付） 懇親会・優秀講演賞受賞式当日17:00より名城大学内タワー75 15階レセプションホール 会費一般5,000円，学生2,000円（優秀講演賞受賞者は無料） 一般講演講演12分，質疑応答・交替3分 研究発表プログラム Ａ会場（N-401講義室） （9:15～10:30） 電気・電子材料I A1 ニオブ系無鉛圧電セラミックスの疲労メカニズム（1名工大・2エアランゲン-ニュルンベルク大）○伊藤雄一朗1)，前田晋朔1)，柿本健一1)，Alexander Martin2),Kyle G. Webber2) A2 ニオブ酸塩結晶の水熱合成およびその特性（愛工大）○田中康暉，平野正典 A3 BaTiO3ナノキューブ単層膜の自己組織集積とその構造・特性評価（1産総研・2京都先端科学大）○板坂浩樹1)，三村憲一1)，劉崢1)，西 正之2)，加藤一実1) A4 NaCo2O4板状粒子の水熱合成および配列充填と緻密化（名工大）○渕上輝顕，鈴木友隆，柿本健一 A5 BaTiO3ナノチューブアレイをベースとしたマルチフェロイックナノ複合膜作製用液相プロセスの開発（豊橋技科大）○大室智紀，Irna Puteri Binti Shahbudin，Tan Wai Kian，武藤浩行，松田厚範，河村 剛 （10:45～12:00） 電気・電子材料Ⅱ A6 高誘電性ペロブスカイトナノシートの分極構造制御（名大）○櫻場俊徳，山本瑛祐，小林 亮，長田 実 A7 層状ペロブスカイト強誘電体Sr2Nb2O7の低温結晶構造（名工大）○村山萌珠，漆原大典，浅香 透，福田功一郎 A8 コバルト置換酸化ルテニウムナノシートの合成と電気化学特性（名大）○土屋太嗣，施越，山本瑛祐，小林 亮，長田実 A9 ZnO原子膜のテーラーメイド合成と臨界物性の評価（名大）◯森田佳典，山本瑛祐，小林 亮，長田 実 A10 3d遷移金属酸化物ナノ結晶の精密合成と伝導特性評価（1名大・2 NIMS））○鈴木拓真1)，山本瑛祐1)，小林 亮1)，長田 実1),2)，（12:00～13:00） 昼食休憩 （13:00～14:00） 電気・電子材料Ⅲ A11 Ti-Sc系酸化物におけるプロトン伝導性（名工大）○吉井亮介，籠宮 功，柿本健一 A12 BaZrO3プロトン伝導体の焼結性におよぼすNiの添加効果（名城大）○森下皓矢，池邉由美子，坂 えり子 A13 酸化チタンナノロッドの水熱合成と誘電特性評価（名工大）○横山政季，小林 亮，山本瑛祐，長田 実 A14 水熱合成法による六角板状デラフォサイト型CuGaO2の生成機構（名工大）○林 尚紀，Min Uk Choi，早川知克 （14:15～15:15） 電気・電子材料Ⅳ A16 フラックス法で育成した六角柱状ケイ酸ランタンバリウムオキシアパタイト単結晶の酸化物イオン伝導（名工大）○前川史典，江口拓也，漆原大典，浅香 透，福田功一郎 A17 ナノ界面鋳型合成法によるCeO2原子膜のテーラーメイド合成（名大）○林 浩平，山本瑛祐，小林 亮，長田 実 A18 マクスウェル応力場を利用した超イオン伝導性AgI系ガラスの粘度測定（名工大） ○廣瀬大輔，大幸裕介，本多沢雄，岩本雄二 A19 材料シミュレーションによるサーミスタ材料の特性と構造評価（1名工大・2 NIMS・3京大ESICB・4芝浦電気）○安田里咲1)，谷端直人1),3)，武田はやみ1),3)，中山将伸1),2),3)，鈴木貞一4) Ｂ会場（N-402講義室） （9:15～10:30） 高温・構造材料Ⅰ B1 遷移金属アモルファス窒化けい素複合材料の合成と機能特性（名工大）○高木榛名，飯濱準也，安藤しおり，多田翔太朗，大幸裕介，本多沢雄，岩本雄二 B2 ヨウ素含浸によるアルミナ/ナノカーボン複合体の導電性向上（名工大）○竹内優弥，辛韵子，Nguyen Huu Hien，白井 孝 B3 真球状複合顆粒を出発原料として用いた複合材料の内部構造制御のための基礎検討（豊橋技科大）○砂田拓人，横井敦史，Tan Wai Kian，河村 剛，松田厚範，武藤浩行 B4 無焼成セラミックスとソフトマテリアルの複合化（名工大）○野尻凌平，川端秀明，後藤理乃，Razavi Khosoroshahi Hadi，藤 正督 B5 脆性材料のフレキシブル構造化による力学特性の変化（名工大）○岩屋 遼，今井春雄，橋本 忍 （10:45～12:00） エネルギー関連材料I B6 低融点リチウム含有酸化物を添加したガーネット型酸化物固体電解質の作製と評価（豊橋技科大）○細川寛将，板谷明浩，竹田惇人，山崎佑輔，稲田亮史，櫻井庸司 B7 エアロゾルデポジション法による積層型酸化物固体電解質の作製と評価（豊橋技科大） ○斎藤正也，稲田亮史，櫻井庸司，南 浩成，根守浩良，野村雅也 B8 ナノ粒子分散によるLi7La3Zr2O12系固体電解質の焼結組織と粒界抵抗（名工大） ○山本颯人,渕上輝顕,柿本健一 B9 Antiperovskite型Li6OSI2固体電解質の作製及び特性評価（豊橋技科大）○梅森祐太郎，N.H.H.Phuc，松田麗子，引間和浩，武藤浩行，松田厚範 B10 Ba-Fe系ペロブスカイトにおける電子－プロトン混合伝導性及び電気化学特性（名工大） ○谷川 諒，籠宮 功，柿本健一 （12:00～13:00） 昼食休憩 （13:00～14:15） エネルギー関連材料Ⅱ B11 エアロゾルデポジション法を用いたバナジウム酸リチウム正極厚膜の作製と電気化学特性 （豊橋技科大）○鬼頭駿介，東 大貴，稲田亮史，櫻井庸司 B12 中温無加湿燃料電池に向けたPBI-rGO複合電解質膜の作製および特性評価（豊橋技科大）○永井秀明，前川啓一郎，Rajesh KUMAR，河村 剛，武藤浩行，松田厚範 B13 高エネルギー密度正極を用いた全固体電池の作製と特性評価（豊橋技科大）○三浦雅也，引間和浩，N.H.H.Phuc，松田麗子，武藤浩行，松田 厚範 B14 材料シミュレーションとベイズ最適化を用いたNASICON型高Liイオン伝導体の探索（1名工大・2 NIMS）・3京大ESICB） ○中野高毅1)，小林 亮1),2)，谷端直人1),3)，武田はやみ1),3)， B15 金属－フェライト複合圧粉磁心の開発（日本特殊陶業（株））○齋藤愛実，森 智史 （14:15～15:15） エネルギー関連材料Ⅲ B16 (101)結晶面を有するナノシート型酸化スズのセンシング特性～アルケンガス選択性，高速応答，高速回復～（産総研）○崔弼圭，増田佳丈 B17 SiON系アモルファスセラミックスのガス吸着特性（1名工大・2東亞合成（株）） ○久保田良亮1)，岩瀬賢明1),2)，大幸裕介1)，本多沢雄1)，岩本雄二1) B18 SiCH系有機・無機ハイブリッド膜の合成と水素選択透過特性評価（名工大）○加藤玲奈，小嶌美佐子，大幸裕介，本多沢雄，岩本雄二 B19 SiCH系有機・無機ハイブリッド材料の水素親和特性（名工大）○難波研一，小嶌美佐子，大幸裕介，本多沢雄，岩本雄二 （15:30～16:00） 特別講演I B20-B21「(K,Na)NbO3系複合無鉛圧電材料の結晶構造と圧電特性に関する研究」（日本特殊陶業（株）山田嗣人 （16:10～16:40） 特別講演Ⅱ B22-B23「自動車排ガス浄化用ハニカムセラミックスの開発と実用化」（日本ガイシ（株））川崎真司 Ｃ会場（N-403講義室） （9:15～10:30） 高温・構造材料Ⅱ C1 燃焼合成法を用いた複合炭化物の迅速合成（1産総研・2名工大）○中島佑樹1)，神谷亮介2)，日向秀樹1)，橋本忍2) C2 ジェットエンジン用耐環境性コーティングの焼結と損傷・剥離のシミュレーション（JFCC）○寺坂宗太 C3 Ba-Srヘキサセルシアンの緻密化と単斜晶系への相転移に及ぼす微量不純物の影響（愛工大）○小林勇翔，小林雄一 C4 種結晶添加による緻密質コーディエライトセラミックスの微構造制御（愛工大） ○安藤みなみ，小林雄一 C5 セラミックスラリー処理によるAESファイバーボードの耐熱性の向上（1名工大・2イソライト工業（株））○尾関恭裕1)，橋本忍1)，本多沢雄1)，大幸裕介1)，岩本雄二1)，白石安生2) （10:45～12:00） 生体関連材料Ⅰ C6 ケイリン酸塩ガラスの作製とその構造（名工大）○高田和弥，田村友幸，前田浩孝，小幡亜希子，春日敏宏 C7 水熱合成法によるHApの合成とその形態に及ぼすCTABの影響（名工大）○小林史明，辛韵子，Nguyen Huu Hien，白井 孝 C8 化学組成の異なる水酸化アパタイトのVOC酸化分解特性および表面構造（名工大） ○安藤友里，辛韵子，Hien Huu NGUYEN，中川草平，西川治光，白井 孝 C9 タンパク質供給機能を有する有機無機ハイブリッド不織布の作製（名工大）○村松祥真，尾関佑斗，小幡亜希子，春日敏宏 C10 カルシウム塩フィラー含有生分解性ポリマー複合材料の親水化（名工大）○渡部将央，松原孝至，前田浩孝，小幡亜希子，大坂直也，西川靖俊，春日敏宏 （12:00～13:00） 昼食休憩 （13:00～14:00） 生体関連材料Ⅱ C11 セルロース繊維/アパタイト複合粒子の形態制御およびタンパク質吸着能の評価（1産総研・2中部大）○渡邉将太1),2)，李誠鎬1)，加藤且也1)，宮島達也1)，櫻井 誠2)，永田夫久江1) C12 カルボキシル基を有する高分子における水酸アパタイトシェル形成能の評価（1産総研・2中部大）○杉本佳彦1),2)，李誠鎬1)，加藤且也1)，宮島達也1)，渡邉将太1),2)，櫻井 誠2)，永田夫久江1) C13 疎水性物質内包コアシェル型ポリ乳酸/アパタイト粒子の徐放性の評価（1産総研・2中部大・3名大）○鈴木聖也1),2)，李誠鎬1)，加藤且也1)，宮島達也1)，鳴瀧彩絵3)，櫻井 誠2)，永田夫久江1) C14 ペプチド―リン酸ジルコニウム複合粒子の調整とそのタンパク質吸着特性及び酵素活性の評価（1産総研・2愛工大）○小島鈴果1),2)，李誠鎬1)，永田夫久江1)，釘宮愼一2)，加藤且也1) （14:15～15:15） 生体関連材料Ⅲ C16 無機イオンの組み合わせが破骨前駆細胞に及ぼす影響（名工大）○髙田将宏，小幡亜希子，春日敏宏 C17 アルキル鎖で修飾した層状ケイ酸カルシウム粒子への抗菌剤吸着（名大）○中村 仁，加藤陽奈，鳴瀧彩絵，大槻主税 C18 有機修飾した層状リン酸ジルコニウム表面での幹細胞培養（名大）○大塚陸渡，遠藤寛太，中村 仁，鳴瀧彩絵，大槻主税 C19 モルフォ蝶の鱗粉構造が翅の伝熱特性に及ぼす影響の調査（名工大）○川辺まり，前田浩孝，春日敏宏 Ｄ会場（N-404講義室） （9:15～10:30） プロセッシングⅠ D1 シリカを用いた無焼性セラミックス3Dプリンタ固化体の作製（名工大）○麻生将司，Razavi Khosroshahi Hadi，藤 正督 D2 ウォームプレス法による全固体ジオポリマーの作製（名工大）○西川紘介，今井春雄，橋本 忍 D3 無焼成固化プロセスによるシリカ/低融点合金の複合化（名工大）○増田圭汰，Razavi Khosroshahi Hadi，藤 正督 D4 ポリアクリル酸テンプレート法を用いた中空シリカナノ粒子の合成とその特性評価（1名工大・2岐阜大）○田中菜緒1)，藤本恭一1)，高井千加2)，Razavi-Khosroshahi Hadi1)，藤 正督1) D5 テルライトガラスの微小球化と構造及び熱特性との関連性についての検討（名工大） ○斉藤駿介，早川知克，Jean Rene Duclere, Philippe Thomas （10:45～12:00） プロセッシングⅡ D6 ジオポリマーの通常養生短時間硬化（名工大）○住吉裕次郎，安藤耕太郎，橋本 忍 D7 急速加熱によるアルミナ前駆体の構造変化とナノ結晶の析出挙動（1岐阜大・2 JFCC）○榊原叶子1)，加藤雄太1)，吉田道之1)，近江靖則1)，櫻田 修1)，田中 誠2)，和田匡史2)，北岡 諭2) D8 ゾルゲル法によるTb3+,Yb3+共添加ナノ結晶化ガラスの合成と光機能性評価（名工大）○尾本拓弥，早川知克，Jean Rene Duclere，Philippe Thomas D9 静電集積技術を用いた高次集積複合顆粒の設計と作製（豊橋技科大）○佐藤優作，横井敦史，Tan Wai Kian，河村 剛，武藤浩行，松田 厚範 D10 静電相互作用を用いた粒子集積過程における顆粒形成機構の調査（豊橋技科大）○大森直人，野々村航希，横井敦史，Tan Wai Kian，河村 剛，松田厚範，武藤浩行 （12:00～13:00） 昼食休憩 （13:00～14:15） プロセッシングⅢ D11 鉄ベースナノ粒子の合成と光触媒特性（豊橋技科大）○三崎達大，武藤浩行，松田厚範，河村 剛 D12 希土類・チタン・タンタルの複合酸化物の調製とその性質（愛工大）○浅田 大，山口優香，平野正典 D13 希土類を含有する複合酸化物結晶の水熱結晶化とその特性（愛工大）○平野雅侑，平野正典 D14 水熱法によるエシナイト型結晶微粒子の合成とその性質（愛工大）○佐野萌子，平野正典 D15 モノマー構造の違いが及ぼすゲルキャスティング成形体の炭素化過程と電気特性への影響（名工大）○舟橋由晃，Hien Huu NGUYEN，辛韵子，白井 孝 （14:15～15:15） 評価・解析 D16 スピンダイマー磁性体NaCu2VP2O10の磁気特性と不純物効果（名工大）○田中健太,川口颯太,漆原大典,福田功一郎,浅香 透 D17 Li-Si-O系材料の表面がXANESスペクトルに与える影響（1名工大・2 NIMS）○西野雄哉1)，田村友幸1),2)，小林 亮1),2)，尾形修司1) D18 ケイ酸塩化合物表面の構造解析及び機能性付与（名工大）○紫藤壮大，Nguyen Huu Hien，辛韵子，白井孝 D19 ナノレベルの周期構造を利用した耐熱性酸化物の低熱伝導化（JFCC）○河合江美，松平恒昭，川島直樹，小川貴史，クレイグ・フィッシャー，加藤丈晴，横江大作，田中 誠，北岡 諭 （15:30～16:00） 特別講演 Ⅲ D20-D21 「階層構造を精密に制御したリン酸 カルシウム系バイオセラミックスの創製」（東京医科歯科大）横井太史 （16:10～16:40） 特別講演Ⅳ D22-D23 「全固体電池実現に資するアルカリイオン伝導体に関する研究」（大阪府大）林 晃敏 Ｅ会場（N405講義室） （9:15～10:30） 光関連材料Ⅰ E1 EuOとP2O5を固溶するCa2SiO4におけるインコメンシュレート相の結晶構造と発光特性（1名工大・2 NIMS）○平松裕哉1)，道上勇一2)，舟橋司朗2)，広崎尚登2)，漆原大典1)，浅香 透1)，福田功一郎1) E2 SrZr1-xTixO3中Pr3＋の4f-4f遷移による発光の温度依存性（名大）○久山貴大，吉野正人，山田智明，長崎正雅 E3 Mn4+を賦活剤としたLi-Ta-Ti-O系新規蛍光体の外部場を用いた合成と発光特性（豊橋技科大）○前田真志，紙本小夏，中野裕美 E4 (Ba, Ca)2(Si, P)O4:Eu新規蛍光体の徐冷と急冷処理による発光特性比較（1豊橋技科大・2名工大）○安藤将太1)，紙本小夏1)，中野裕美1)，平松裕哉2)，福田功一郎2) E5 Ba/Sr比を変えた(Ba,Sr)SiO4:Eu2+の蛍光特性（名工大）○寺林繁央，森島一樹，早川知克 （10:45～12:00） 光関連材料Ⅱ E6 赤外線反射特性に優れた高彩色無機顔料の調製（愛工大）○鈴木真仁，小林雄一 E7 赤外線反射特性に優れた酸化銅黒色粉末の調製（愛工大）○大澤知也，小林雄一 E8 マイクロ波誘起反応による多層膜光触媒粒子のワンステップ合成（名工大）○加藤邦彦，辛韵子，Nguyen Huu Hien，白井 孝 E9 多孔性酸化鉄膜の作製と評価（豊橋技科大）○石坪響介，Tan Wai Kian，武藤浩行，松田厚範，河村 剛 E10 ナノ構造を有する金属基板を用いたプラズモニック光触媒（豊橋技科大）◯中山勇輝，山内新吾，武藤浩行，松田厚範，河村 剛 （12:00～13:00） 昼食休憩 （13:00～14:00） 光関連材料Ⅲ E11 銅担持アナターゼ・ルチル酸化チタンの複合化による光触媒親水性の向上（名城大） ○清水建伍，大脇健史 E12 深紫外光照射下における各種酸化物の アセトアルデヒド分解性能（名城大）○田上拓実，大脇健史 E13 酸化チタン光触媒膜の水のぬれ性に及ぼす湿度の影響（名城大）加藤ゆり野，高木雅史，○大脇健史 E14 ヘテロ構造を有する人工オパール自己組織化膜の形成と光学特性（名工大）○小松憲太，不動寺浩，早川知克 （14:15～15:15） 国際セッション E16 Transparent polycrystalline Al2O3 produced by two-step pulsed electric current sintering with Ti and Y dopants（1名工大・2長岡技科大）○NGUYEN H. Hien1), SHIRAI Takashi1), XIN Yunzi1), NANKO Makoto2) E17 Visible Photoluminescent Si Nanocrystals Synthesized by Room Temperature Mechanochemical Disproportion of SiO（名工大）○Yuping Xu, Yunzi Xin, Jeongbin Lee, Takashi Shirai E18 C-axis Orientation of Hydroxyapatite Using Gel-Casting Method by Imposing High Magnetic Field（1名工大・2長岡技科大） ○Gülsüm Meryem DURSUN1), Yunzi XIN1), Satoshi TANAKA2), Akiko ITO1),Takashi SHIRAI1) E19 Fabrication and Application of Porous Ceramics with Well-Controlled Pore Structures via Gel-Casting with Trace Addition of Cellulose Nanofiber（名工大） ○Yunzi Xin, Yumi Muroi, Ming Wen, Takashi Shira （17:00～19:00） 懇親会・優秀講演賞表彰式（タワー75 15Fレセプションホール） 問合先463-8560 名古屋市守山区下志段味穴ヶ洞2266-98（国研）産業技術総合研究所 中部センター構造材料研究部門 日向秀樹 TEL 052-736-7524, FAX 052-736-7406,E-mail: csj-tokai2019-ml※aist.go.jp ◎スパムメール対策のため@の代わりに※が入っています。お手数ですが送信の際は@に変換してご送信ください． 参加募集化学電池材料研究会第45回講演会 主 催化学電池材料研究会 協 賛日本セラミックス協会ほか 日 時2019年12月4日（水）13:30～17:00 場 所東京理科大学森戸記念館第1フォーラム（東京都新宿区） 内 容13:30～14:30 山形大学 境 哲男「シリコン系負極の大型化と電池の高容量化・高出力化，今後の課題」；14:30～15:30 日産自動車（株）秦野正治「リチウムイオン電池用Si系負極活物質および電極の設計」 15:30～15:50 <休憩> 15:50～16:50 マクセル（株）山田將之「シリコン負極を用いた高容量電池の開発と今後の展望」（仮） 参加費会員（協賛学協会会員を含む）2,000円，非会員5,000円，学生無料 申込締切2019年11月29日（金） 申込・連絡先305-0044 茨城県つくば市並木1-1 物質・材料研究機構 エネルギー・環境材料研究拠点 二次電池材料グループ内 化学電池材料研究会事務局 TEL 029-860-4387，FAX 029-860-4984，E-mail：kagakudenchi※nims.go.jp URLhttps://www.nims.go.jp/GREEN/battery/ ◎スパムメール対策のため@の代わりに※が入っています。お手数ですが送信の際は@に変換してご送信ください． 参加募集日本機械学会関西支部第365回講習会 主 催日本機械学会 関西支部 協 賛日本セラミックス協会ほか 日 時2019年12月5日（木）～6日（金）（5日9:00～16:30，6日9:00～17:50） 場 所大阪科学技術センター4階405号室（大阪府大阪市大阪市西区靱本町1-8-4） 内 容機械加工は，あらゆる産業においてモノづくりを支える基盤技術です．1日目に機械加工で欠かすことのできない切削・研削加工の基礎理論について学び，2日目には最新技術の実用化に関して，レーザー加工や3D金属造形，モニタリング技術やIoT化によるスマートファクトリーを取り上げます．製造･生産技術系技術者だけでなく，設計技術者にとっても，加工技術を熟知することは設計品質を確保するために大事であり，若手技術者の教育にご活用いただけます．また，最新動向を知ることで，マネージャークラスの方の課題を解決します． 参加費〔2日間の参加の場合〕会員30,000円（大学，官公庁関係15,000円，学生4,000円），会員外50,000円（学生8,000円）；〔1日のみの参加の場合〕会員20,000円（大学，官公庁関係10,000円，学生4,000円），会員外30,000円（学生8,000円）※協賛学協会員の方も本会会員と同様にお取り扱いいたします． 申込締切2019年11月29日（金）（定員70名） 申込・連絡先550-0004 大阪市西区靱本町1-8-4 大阪科学技術センタービル6F 日本機械学会関西支部事務局 TEL 06-6443-2073，FAX 06-6443-6049，E-mail：info※kansai.jsme.or.jp URLhttp://www.kansai.jsme.or.jp/ ◎スパムメール対策のため@の代わりに※が入っています。お手数ですが送信の際は@に変換してご送信ください． 参加募集第26回ヤングセラミスト・ミーティング in 中四国 本年の『ヤングセラミスト・ミーティング（通称：ヤンセラ）』は，香川において開催します．この会は，優秀な若手セラミスト達が日頃の 研究成果の中でもキラリと光る内容を発表するもので，新製品開発や新技術導入のヒントを得ていただくための研究並びに作品発表会です．この行事へは，中・四国エリアでセラミックスの研究開発を進める大学等学術研究機関の先生方も多数参加されますので，情報交換や交流を深める絶好の機会であると考えています．日々，研究に邁進されている研究者に限らず，産・学の交流を望まれる方々，多数のご参加を関係者一同お待ち申し上げます． 主 催日本セラミックス協会中国四国支部 日 時2019年12月7日（土）開場・受付8:00 場 所香川大学創造工学部（香川県高松市林町2217-20 TEL 087-864-2000（代表）） 参加費（発表会）学生600円，一般2,000円（交流会）2,000円 募集定員発表会150名，交流会120名 ＜プログラム＞ ①開会挨拶（8:50～8:52）日本セラミックス協会中国四国支部支部長 小形 昌徳（品川リフラクトリーズ（株）） ②作品イントロダクション（8:52～8:58）発表2分【S1～S3】 ③研究イントロダクションAM（9:00～11:18）発表3分【K1～K46】 ④ポスターセッションAM・作品紹介（11:18～12:10） ⑤昼食休憩（12:10～12:50） ⑥研究イントロダクションPM（12:50～15:11）発表3分【K47～K93】 ⑦ポスターセッションPM・作品紹介（15:11～15:55） ⑧休憩・投票時間（～16:00） ⑨特別講演（16:00～17:00）「黒鉛材料の製造プロセスおよびセラミックスとの相関関係」東洋炭素（株）グローバル開発本部 執行役員・森下隆広本部長 ⑩閉会挨拶（17:00～17:05）香川大学創造工学部 馮旗教授 ⑪最終投票・アンケート回収・移動（17:05～17:30） ⑫交流会・研究室紹介（17:30～19:30） ＜オプション企画１＞機器展示とカタログ展示 機器メーカー等のご協力により機器とカタログ展示をしていただきます．内容は次のとおりです．（時間11:00～/14:30～） ○品川リフラクトリーズ（株）（未定） ○エス・エス・アロイ（株）プラズマンmini（焼結装置展示） ○（株）ディスコ（カタログ展示） 申込方法参加ご希望の方は，氏名，所属名，住所，電話番号，FAX番号，メールアドレス，参加の別（発表会，交流会）を明記の上，下記までFAXまたはメールにてお申込ください． 申込連絡先705-0021 岡山県備前市西片上1406-18 日本セラミックス協会中国四国支部 担当 中本，TEL 0869-64-0505，FAX 0869-63-0227，E-mail：nakamoto※optic.or.jp，詳細は，こちらのHPよりご確認ください． ◎スパムメール対策のため@の代わりに※が入っています。お手数ですが送信の際は@に変換してご送信ください． 参加募集日本が誇る精密計測・計測標準の真髄！ 主 催精密工学会 協 賛日本セラミックス協会ほか 日 時2019年12月11日（水）9:55～17:10 場 所上智大学四谷キャンパス中央図書館 9階L921会議室（東京都千代田区） 内 容丁寧な基礎講座による精密計測の基礎固めからはじめ，その後に最先端の研究や最新動向まで踏み込む野心的な講習会を企画いたしました．講師陣は，精密計測分野のオーソリティである高増 潔先生（東京大学教授）をはじめ，精密計測・計測標準の第一線で活躍されている研究者や精密計測機器メーカの一流技術者の方々に講演していただきます． 参加費会員（協賛学協会会員含む）22,000円，非会員36,000円 申込締切2019年12月4日（水） 申込・連絡先102-0073 東京都千代田区九段北 1-5-9 九段誠和ビル2F 精密工学会 講習会係 TEL 03-5226-5191，FAX 03-5226-5192，E-mail：jspe_koushu※jspe.or.jp URLhttp://www.jspe.or.jp/wp/wp-content/uploads/course/406.pdf ◎スパムメール対策のため@の代わりに※が入っています。お手数ですが送信の際は@に変換してご送信ください． 参加募集第8回SPring-8グリーンサスティナブルケミストリー研究会/ 主 催高輝度光科学研究センタ－，SPring-8利用推進協議会 協 賛日本セラミックス協会ほか 日 時2019年12月20日（金）13:00～19:00※研究会13:00～17:00，技術交流会17:30～19:00 場 所AP品川京急第2ビル9階Mルーム（研究会），Lルーム（技術交流会）（東京港区高輪3-25-23） 内 容GSCを環境にやさしく持続成長可能な循環型社会を実現するための化学技術と定義し，環境負荷が小さく高効率な次世代触媒等GSCに関わる物質・材料の構造と機能の原子・分子レベルにおける科学的解明を行い，それに基づいてGSC分野の着実な進展を支援することを目的としています．主に金属ナノ粒子触媒に注目し，触媒におけるin situ XAFSの有用性，環境調和型金属ナノ粒子触媒開発，金属クラスターの機能と構造，触媒分析に役立つHAXPを取り上げます． 参加費研究会聴講無料，技術交流会1,000円 申込締切2019年12月13日（金）17:00（予定）（定員70名） 申込・連絡先679-5198 兵庫県佐用郡佐用町光都1-1-1 SPring-8利用推進協議会事務局（suishin※spring8.or.jp）TEL 0791-58-2785，FAX 0791-58-2786，E-mail：suishin※spring8.or.jp URLhttp://www.jasri.jp/iuss/research_activity/2019/20191220.html ◎スパムメール対策のため@の代わりに※が入っています。お手数ですが送信の際は@に変換してご送信ください． 参加募集2019年度関西支部新年特別講演会 関西支部では新年の恒例として，産官学のさまざまな分野でご活躍中の方から講師をお招きし，講演会を実施しています．今年度は，作花 済夫様（京都大学名誉教授）に特別講演をお願いしております．関係各位の多数のご参加をお願いいたしたく，ここにご案内申し上げます． 主 催日本セラミックス協会関西支部 日 時2020年1月20日（月）16:00～17:00（終了後，懇親会を行います） 会 場メルパルク大阪4Fソレイユ（大阪市淀川区宮原4-2-1，TEL 06-6350-2111，JR新大阪・西出口徒歩6分，地下鉄新大阪④出口徒歩4分） 演 目「ガラス繊維から超伝導繊維まで」 講 師作花済夫京都大学名誉教授 講演会参加費無料（懇親会は6,000円を予定） 定 員80名（定員に達しましたら〆切前でも受付を終了いたします．） 申込締切2020年1月8日（水） 申込方法参加される方のお名前・ご所属（大学名あるいは企業名），懇親会参加の有無をメールにて送信くださるようお願いします． 申込先（株）村田製作所 技術・事業開発本部新規技術センター 細倉 匡（関西支部事務局）E-mail：hosokura※murata.com ◎スパムメール対策のため@の代わりに※が入っています。お手数ですが送信の際は@に変換してご送信ください． 講演募集第25回電子デバイス界面テクノロジー研究会 主 催応用物理学会 薄膜・表面物理分科会 シリコンテクノロジー分科会 協 賛日本セラミックス協会ほか 日 時2020年1月30日（木）～2月1日（土）前日（30日）の夜に，チュートリアルを実施 場 所東レ総合研修センター（静岡県三島市） 内 容半導体デバイスの研究開発において，構造，材料の変革が進み，ロジックLSIではFIN構造やナノワイヤ型に代表される立体構造や新しい高移動度チャネル材料を用いたトランジスタ開発が活発に進められています．パワーデバイスにおいては，SiCやGaNデバイスの開発が進み，新しい展開が始まっています．これらさまざまなデバイスで性能の鍵を握るのが界面テクノロジーです．異種材料界面の科学的理解はデバイス研究開発に不可欠となっています．本研究会は産･官･学の第一線の研究者がデバイス界面に関するテーマを取り上げます． 参加費薄膜・表面物理，シリコンテクノロジー分科会員15,000円，応物・協賛学協会員19,000円，学生8,000円，その他24,000円 申込・連絡先113-0031 東京都文京区根津1-21-5応物会館 応用物理学会分科会 担当 五十嵐 周 TEL 03-3828-7723，FAX 03-3823-1810，E-mail：igarashi※jsap.or.jp ◎スパムメール対策のため@の代わりに※が入っています。お手数ですが送信の際は@に変換してご送信ください． 講演募集The International Conference on Sintering 2022 (Sintering 2022) 主 催Sintering 2022組織委員会 協 賛日本セラミックス協会ほか 日 時2022年3月27日（日）〜31日（木）（28〜30日9:00〜17:00，31日9:00〜12:00） 場 所長良川国際会議場（岐阜市） 内 容Sintering 2022 は焼結の科学と技術に関する国際会議，世界的なフォーラムである．本国際会議では，粉体からの材料製造プロセスでの焼結と微構造形成に関する基礎科学，技術，応用に関する最新のトピックを取り上げる．焼結は先端的な産業応用に不可欠な技術であり，特定の微構造と特性を持つ複雑なマルチ機能材料を設計し，実現するための科学と技術に焦点を当てる． 申込締切2021年8月15日（日） 申込・連絡先Sintering 2021国際会議事務局 E-mail：info※sintering2021.org URLhttps://www.sintering2021.org ◎スパムメール対策のため@の代わりに※が入っています。お手数ですが送信の際は@に変換してご送信ください． 募 集戦略的創造研究推進事業 総括実施型研究（ERATO） 応募資格自薦・他薦不問，大学，公的機関，民間企業等で研究開発に直接従事のある方，マネジメント・支援業務経験のある方，応募件数制限なし．※要項・様式は下記URL参照の上ダウンロードして使用お願いします． 募集期間通年．ただし，令和2年度選考に向けた応募締切は2019年11月29日（金）正午 問合先科学技術振興機構 研究プロジェクト推進部 加藤・石原 TEL 03-3512-3528，E-mail：erato-suisen※jst.go.jp ◎スパムメール対策のため@の代わりに※が入っています。お手数ですが送信の際は@に変換してご送信ください． 受賞候補者推薦募集第61回藤原賞 科学技術の発展に卓越した貢献をした日本国籍かつ日本在住の者に，毎年2件，賞状と賞牌（金メダル），副賞（各1千万円）を贈呈． 推薦対象自然科学分野に属するもの． 受賞候補者他賞の受賞や以前に推薦の経験は問わないが，所属組織・研究機関の長または相当する学識者の推薦が必要．受賞対象題目1件につき1人． 推薦方法推薦要項書（HPよりダウンロード可）に必要事項を記入，参考資料を同封し送付． 推薦締切2019年12月13日（金）必着． 送付先104-0061 東京都中央区銀座3-7-12 藤原科学財団 TEL 03-3561-7736，FAX 03-3561-7860 助 成令和2年度加藤科学振興会研究助成 公益財団法人加藤科学振興会は令和2年度の助成事業を下記3種について行います．ご応募をお待ちしております．担当 事務局 大石尚子 TEL 03-3272-2657，E-mail:info※katof.or.jp ○研究助成 対 象電気化学，電気・電子材料を中心とする材料科学，およびそれらの関連分野において，本会の目的に添って，独創的な研究を遂行する意欲を持つ，大学等に所属する教員・研究員あるいは，公的研究所の研究者．詳細 http://www.katof.or.jp/promotion.html 助成内容1件当たり100万円（12件程度） 締 切2019年12月20日（金）（必着） ○研究奨励助成 対 象故加藤与五郎先生の教育理念である「創造のできる人材の育成」に沿った，将来独創的な研究に挑む意欲に富む若い学生で，研究指導者の推薦が必須．大学院修士課程以上，30歳以下を目処とする．詳細 http://www.katof.or.jp/promotion.html 助成内容1人当たり30万円（25件程度） 締 切2020年3月13日（金）（必着） ○研究集会助成 対 象広義の材料分野において，創造的学問あるいは技術の向上を意図する研究集会で，次世代若手研究者の育成に重点を置いた集会を優先．詳細 http://www.katof.or.jp/promotion.html 助成内容1件当たり15～30万円（5件程度） 締 切2020年2月末日（土）（必着） 問合先108-0072 千代田区大手町2-2-1新大手町ビル新館2Ｆ260区 加藤科学振興会 理事・事務局長 岡本 明TEL 03-3272-2657，FAX 03-3272-2658 ◎スパムメール対策のため@の代わりに※が入っています。お手数ですが送信の際は@に変換してご送信ください． 受賞候補者推薦募集令和元年度日本非破壊検査協会 睦賞 応募手続推薦人または本人から申請による 資 格2020年4月1日現在，40歳未満の非破壊検査業界全体に関しての活動で将来発展が期待される技術を開発しつつある者，研究者，それに相当する者若干名に授与．①難しい構造の検査技術の開発が期待される，②設備診断技術の確立に貢献が期待される，③非破壊検査技術を活用し社会インフラの健全性の維持向上や震災復興，社会安全に貢献が期待される． 提出書類ホームページ http://www.jsndi.jp/honor_award/ からダウンロードした睦賞表彰候補者申請書を表彰審査委員会係へ郵送申込． 提出締切2019年12月末日必着 提出先136-0071 東京都江東区亀戸2-25-14 立花アネックスビル10階 日本非破壊検査協会 総務部 表彰審査委員会係 TEL 03-5609-4011 提案募集2020年度前期研究会 日本セラミックス協会では,セラミックスにおける境界領域的，萌芽的，学際的，業際的 および生産技術的研究の発展を援助するため，研究会設置の提案を募集します．研究会とは，研究交流・情報交換を活性化し，有志研究者の組織化を奨励するものです． 申込内容○研究会設置申請書，○研究会提案書・研究会名称，提案者氏名（代表者，共同提案者)，研究目標，研究内容，期間，開催予定，予算等 助成内容1件につき5万円以内 継続年数研究会の活動期間は，2020年4月～2023年3月（3年間）とする．（1年ごとに継続の意思を確認） 締 切2020年1月31日（金） 採択決定2020年3月上旬 問合先169-0073 東京都新宿区百人町2-22-17 日本セラミックス協会 TEL 03-3362-5231，FAX 03-3362-5714，E-mail：jim-ask※cersj.org 日本セラミックス協会研究会規約 （総則） 第1条 研究会の設置，運営などについては，本規約の定めるところによる． （研究会の目的） 第2条 研究会は，セラミックスにおける境界領域的，萌芽的，学際的，業際的及び生産技術的研究の発展を援助するため，研究交流・情報交換を活発化し，有志研究者の組織化の奨励を目的とする． ２ 若手研究者の研究交流・情報交換の活発化 （研究会の設置） 第3条 研究会の設置申請は，代表者1名と世話人5名（日本セラミックス協会個人会員）以上の連名で，研究会名，設置理由その他を記した所定の申請書を運営委員会委員長あてに提出する． 第4条 運営委員長は，この申請を運営委員会に諮りその採否を決定する． 第5条 研究会の活動期間は3年単位とし，設置申請締切日は前期（4月開始）が1月末日及び後期（10月開始）が7月末日とする． 第6条 上記申請とは別に，運営委員会の発議により研究会を設置することができる． 第7条 研究会設置時には，その研究会名，代表者，目的などを協会ホームページに掲載するものとする． （研究会会員） 第8条 研究会会員は，日本セラミックス協会会員に限らない． （研究会の運営） 第9条 運営委員会の審査を経て，研究会に対し財政援助を行うことができる． 第10条 研究会への財政援助は，原則として発足後3年を限度とする． 第11条 協会からの財政援助（補助金）は原則として，下記に使用するものとする． ・研究会での講師や招待講演者への講演謝礼，交通費 ・研究会資料印刷等の作成費用 ・研究会会場費，アルバイト代 ・研究会運営に関わる通信費・雑費 ・その他，運営委員会が認めたもの 第12条 研究会の事業計画，予算，組織，運営などは当該研究会において定める． （研究会の報告） 第13条 研究会は，当該1年間の活動報告書（予定も含む）を作成し，前期発足研究会は4月末及び後期発足研究会は10月末までに運営委員長に提出する． 第14条 研究会が活動を終了する場合は，終了報告書を提出する． （規約の改廃） 第15条 本規約の改正は，運営委員会の議決により行う． 第16条 本規約は，理事会の承認のあった日から施行する． ◎スパムメール対策のため@の代わりに※が入っています。お手数ですが送信の際は@に変換してご送信ください． 日本セラミックス協会への共催・協賛・後援等申請手続について日本セラミックス協会（支部・部会を含む）主催でなく，また，経済的負担を伴わない共催・協賛・後援等を申請される方は，以下の手順に沿ってお手続きください． 共催および経済的負担を伴う行事につきましては，個別に対応しておりますので，kyosan-shinsei※cersj.orgまでお問い合わせください． 共催につきましては，初回申請をされた場合は理事会の承認が必要になりますので，最長4カ月かかる場合があります． 申請方法 申請は，当協会HPの「各種手続き」，「共催・協賛・後援等申請手続」より行ってください． 諾否のご連絡は，毎月20日午前中までに受信した申請につきましては，原則として申請内容が承認されてから翌月初めまでにE-mailにて諾否をご連絡致します． ◎当協会 会誌への掲載について 申請を承諾した行事についてのみ，当協会の会誌セラミックス誌会告に掲載します． 毎月20日午前中までに申請されたものについては，原則として翌々月1日発行号の会告欄に掲載しますが，誌面の都合上，開催日・申込締切日等を勘案し，後の号に掲載を順延することもありますので，予めご了承ください．なお，申請者にて特定月の掲載を希望する場合には，申請時にその旨お書きください． 申請頂いた時点で開催日や締切日が適切な掲載号に間に合わないものは，掲載致しません． URLhttps://www.ceramic.or.jp/csj/n_kyosan.html 協賛・後援等申請フォームhttp://goo.gl/forms/RUPPa7NKbm ※日本セラミックス協会の支部・部会・研究会主催の行事の講演・参加募集記事についてはkaikoku※cersj.orgへ原稿添付でお送りください．毎月20日までに到着した原稿は，翌々月1日発行の号に掲載いたします．（原稿受信後数日以内に受取りのメール返信を致しますので，返信連絡がない場合にはお手数ですが，確認のご連絡をお願いします．） ◎スパムメール対策のため@の代わりに※が入っています。お手数ですが送信の際は@に変換してご送信ください． |