| 参加募集 KAST科学技術セミナー 主 催 神奈川科学技術アカデミー（KAST） 後 援 日本セラミックス協会ほか 日 時 2006年11月10日（金）13:30〜16:55 場 所 KSPホール（川崎市高津区坂戸3-2-1かながわサイエンスパーク西棟3F） 内 容 高性能の光センサや計測機器から光通信用デバイス，医療応用に至るまでの広範囲の応用が期待されている「光MEMS」の研究の現状と将来について，KASTの研究成果を含め，第一線の研究者が最新の情報を提供します． 講演者 光MEMS技術の概要―基礎原理から将来動向まで―（東北大）羽根一博；光MEMSの顕微鏡への応用（オリンパス）宮島博志；光MEMSの医療工学分野への応用等（KAST光メカトロニクスプロジェクトリーダー/東大）年吉洋 募集人数 150名 対 象 企業等の研究者を含む一般社会人，学生等一般の方 参加費 無料 参加申込先 213-0012 川崎市高津区坂戸3-2-1 KSP内 神奈川科学技術アカデミー 教育情報センター 教育研修グループ TEL 044-819-2033, FAX 044-819-2097 URL http://www.newkast.or.jp/kisya/press_060825.html 日本セラミックス協会北陸支部 主 催 日本セラミックス協会北陸支部 日 時 2006年11月17日（金）10:30〜16:50 場 所 ウェルシティーフクイ(福井厚生年金会館)蓬莱の間(4F)（910-0858 福井市手寄2-1-5 TEL 0776-27-7111） 内容 研究発表（12件）10:40−15:40 (1)大学研究発表 2) 11:00 不定比酸化チタンの創製と熱電変換効果（金沢工大）露本伊佐男 3) 11:20 5V級LiNi1/3Mn2/3O4の合成およびリチウム電池特性（福井大大学院）向山 泉 4) 11:40 路面鉄道用マンガン系リチウムイオン2次電池の開発｣ (福井大大学院) 荻原 隆 5) 13:00 セラミックスと金属の超音波接合（富山県立大）今井久志 6) 13:20 耐放射線性を高めた半導体デバイスプロセスの開発（福井工業高専）西 仁司 (2)企業製品開発事例発表13:40〜14:00 希土類磁石の高性能化技術とその応用（信越化学磁性材料研）笠嶋匡樹 (3)公設試験研究機関発表 2) 14:20 九谷焼用釉薬における粒度の影響 （石川県工業試験場九谷焼技術センター）高橋 宏 3) 14:40 圧電セラミックを用いた起電力素子の研究（富山県工業技術センター）二口友昭 4) 15:00 多相プラズマを用いた新しい材料プロセッシングの可能性（福井県工業技術センター）松浦次雄 5) 15:20 ゲル化反応による気孔制御技術研究（福井県工業技術センター）相生建作 特別講演 15:50〜16:50 二次電池用正極材料の開発動向（田中化学研究所）嶋川 守 懇親会 17:00−18:30，会場：ウェルシティーフクイ (福井厚生年金会館) 高砂の間 (4F) 連絡先 日本セラミックス協会北陸支部（支部長 大橋憲太郎）豊田丈紫（920-8086 金沢市鞍月2-1 石川県工業試験場内TEL 076-267-8086 先端加工技術講演会 主 催 先端加工機械技術振興協会 協 賛 日本セラミックス協会 日 時 2006年11月17日（金）13:00〜17:00 場 所 日本工業大学 神田キャンパス（東京都千代田区神田神保町2-5 TEL 03-3511-7591） 講 演 1.硬脆材料のナノ精度研削加工（東北大）厨川常元；2.切削による硬脆材料の微細加工（東京電機大）松村隆，3.レーザーによる硬脆材料の微細加工（千葉大）渡部武弘；「集束イオンビーム（FIB）を用いた微細形状加工例（東芝機械）石橋健太郎 参加費 一般7,000円，後援・協賛団体関係者5,000円，先端加工機械技術振興協会3,000円，学生2,000円 申込先 105-0001 東京都港区虎ノ門1-2-29 応用物理学会関西支部シンポジウム 主 催 応用物理学会関西支部 共 催 日本セラミックス協会ほか 日 時 2006年11月17日（金）10:00〜17:00 場 所 島津製作所関西支社マルチホール（大阪市北区芝田1-1-4 阪急ターミナルビル） 趣 旨 電子情報通信機器への高機能化・低消費電力化・小型軽量化といった要望が，情報ネットワークの高速化とともに高まりを見せ，このような要望に応えることのできるデバイス技術の開発がますます重要になってきています．大容量・高速かつ低消費電力の不揮発性メモリーは，将来のユビキタス情報社会におけるキーデバイスとして，研究・開発が精力的に進められており，既存のメモリーに代わる次世代ユニバーサル・メモリーとしての実用化が大いに期待されています．本シンポジウムでは，第一線でご活躍の研究者の方々に，次世代不揮発性メモリーとして高いポテンシャルを有するMRAM, FeRAM, PRAM, ReRAM開発の最近の進展ならびに将来に向けての新しい展開，さらには，メモリー開発のキーとなる分析・評価法についても，ご講演をいただきます． プログラム MRAM開発の現状と新展開（日本電気）石綿延行；放射光光電子顕微鏡による微小領域磁性の研究―次世代磁気記録へむけて―（高輝度光科学研究センター）木下豊彦；FeRAM開発の現状と将来展開（松下電器）加藤剛久；PRAMの現状と将来（ラテラル型相変化素子の相変化制御性)（群馬大）保坂純男ReRAMメモリーセルのナノ構造と抵抗スイッチング特性（静岡大）藤本正之 参加費 主 催・協賛学協会員2,000円，一般5,000円，学生1,000円 定 員 70名 申込先 565-0871 吹田市山田丘2-1 大阪大学大学院工学研究科 応用物理学専攻内 応用物理学会関西支部事務局 TEL 06-6879-4161（火・木のみ），FAX 06-6879-7860，E-mail：muraki@ap.eng.osaka-u.ac.jp 問合先 657-8501 神戸市灘区六甲台町1-1 神戸大学工学部機械工学科 田川雅人TEL/FAX 078-803-6126，E-mail：tagawa@mech.kobe-u.ac.jp 第47回ガラスおよびフォトニクス材料討論会 主 催 日本セラミックス協会ガラス部会 共 催 ガラス産業連合会（GIC） 協 賛 応用物理学会，日本化学会 日 時 2006年11月21日(火)〜22日(水) 場 所 東京理科大学・野田キャンパス・セミナーハウス（千葉県野田市山崎2641 TEL 04-7124-1501 内6231，東武電鉄・野田線 運河駅 徒歩20分，http://www.tus.ac.jp/info/access/nodcamp.html） プログラム [A会場：21日 10:30〜12:30] 1A02 複合酸化物多孔体の作製と光機能発現（京大院工1，京大院理2）○徳留靖明1，藤田晃司1，中西和樹2，三浦清貴1，平尾一之1 1A03 La2O3-B2O3系ガラスの構造と屈折率分散特性（旭硝子）○笹井淳，杉本直樹 1A04 光ファイバカップラによる光共振用微小球の励起（東工大院）○大川智，瀬川浩代，矢野哲司，柴田修一 1A05 BaO-TiO2-SiO2系ガラスの結晶化挙動と光学特性（長岡技科大1，東北大学2）○辻真二1，正井博和2，紅野安彦1，藤原巧2，小松高行1 1A06 バリウムチタノボレートガラスへのレーザ誘起結晶化パターン形成と光非線形性（長岡技科大1，鶴岡高専2，東北大3）○本間剛1，紅野安彦1，佐藤隆士2，藤原巧3，小松高行1
[A会場：21日 13:30〜15:45 ｢GIC共催企画第2回ガラス技術シンポジウム：環境とガラス」] GIC02 EUのガラスのリサイクル〜技術と仕組み〜（東大）清家剛 GIC03 欧州規制とガラス中の有害物質の測定〜最近の動向とガラス産業連合会環境技術部会でのとりくみ〜（産総研）赤井智子 GIC04 鉛ガラスと鉛を含まない代替ガラス（日本電気硝子）山本茂 GIC05 光学ガラスの鉛代替 (HOYA) 蜂谷洋一
[B会場：21日 10:30〜12:30] 1B02 メカノケミカル法によるリン酸スズベース低融性ガラスの作製と評価（阪府大院）○中川秀介，林晃敏，忠永清治，辰巳砂昌弘 1B03 ゾル-ゲル法により作製したコア-シェル構造を有するポリフェニルシルセスキオキサン微粒子のガラス転移（阪府大院1，豊橋技科大2）○高橋賢司1，忠永清治1，林晃敏1，松田厚範2，辰巳砂昌弘1 1B04 シロキサンゾル-ゲル系における過渡的相分離構造の観察（京大院工1，京大院理2，京工繊大3）○齋藤明子1，平尾一之1，金森主祥2，中西和樹2，西川幸宏3，陣内浩司3 1B05 周期的メソ孔を有するマクロ多孔性シロキサンゲルの骨格形状制御（京大院工1，京大院理2）○矢野誠二1，中西和樹2，三浦清貴1，平尾一之1 1B06 4族遷移酸化物の多孔構造形成と機能化（京大院工）○小西順子，藤田晃司，中西和樹，三浦清貴，平尾一之
[P 会場：21日 16:00〜16:50，16:50〜17:40 ポスターセッション] P02 Is tetrahedrally coordinated Cr3＋ ion possible in glasses and glass-ceramics? (Suranaree Univ. Tech.1, Toyota Tech. Inst.2) ○Shigeki Morimoto1, Sasithorn Khonthon1, Yasutake Ohishi2 P03 Cu2＋含有ホウケイ酸塩ガラス融液の光吸収スペクトル（滋賀県大）○豊田素久，吉田智，松岡純 P04 MnドープZnO-Al2O3-B2O3-SiO2系ガラスの結晶化による緑色蛍光体の作製（東理大）○南雲陽佑，大垣武，曽我公平，安盛敦雄 P05 ZnOナノ粒子添加ハイブリッド膜の作製（東工大院）○入佐圭，瀬川浩代，矢野哲司，柴田修一 P06 金微粒子担持板ガラスの表面プラズモン共鳴の特性（東理大）○松田泰仁，大垣武，西尾圭史，安盛敦雄 P07 結晶化したチタノリン酸塩ガラスのセルフクリーニング特性（三重大院）○泉公洋，橋本忠範，那須弘行，石原篤 P08 フェムト秒レーザーによるガラス内部への光学素子作製技術（産総研1，阪大院2）○渡辺歴1，玉木隆幸2，伊東一良2，西井準治1 P09 Surface change and metal release due to the leaching of Pb glass in variation of pH and temperature(NSTDA1, AIST2) ○Anucha Wannagon1, Sachiko Matsumoto2, Masaru Yamashita2, Tomoko Akai2 P10 分子軌道計算によるリン酸塩ガラスの化学結合性の評価（岡山大院環境1，岡山大保環セ2）○浅野裕大1，崎田真一2，難波徳郎1，三浦嘉也1 P11 酸化物ガラス中のErイオンの光学特性と塩基度の相関（岡山大院環境1，岡山大保環セ2）○立山祐資1，崎田真一2，難波徳郎1，三浦嘉也1 P12 アルカリケイ酸塩ガラスの低温熱伝導率（滋賀県立大）○廣島靖之，吉田智，松岡純 [P会場：21日 16:20〜16:50，16:50〜17:40 ｢GIC共催企画第２回ガラス技術シンポジウム：ポスターセッション 環境とガラス」] GA01 拡散反射赤外法によるシリカ系材料のOH基分析（旭硝子）○鈴木俊夫，下平憲昭，山本清 GA02 鉛を含有しない半導体封入用封着ガラス（日本電気硝子）○日方元，橋本幸市，二上勉 GA03 プラズマを利用したガラス原料のインフライト溶融とガラス化反応（東工大院1，ニューガラスフォーラム2）○船曳富士1，矢野哲司1，田中千禾夫2，姚耀春1，渡辺隆行1 GA04 ガラスにおけるRoHS対象有害物質分析法の検討（日本電気硝子1，旭硝子2）中村繁治1，○秋山良司2 GA05 MD計算によるガラスの構造と物性の予測（旭硝子1）○谷口健英1，伊藤節郎1 GA06 ガラスびん製造業におけるカレット品質の向上（日本山村硝子1）○菊池徹1，北山正男1，竹中宣夫1 GA07 重金属吸着材の吸着メカニズム解明 ｢ガラス関連材料から作られた重金属吸着材とその吸着機構解明」（日本板硝子 技術研究所1，日本板硝子 コーポレート企画室2，東工大院3）○園田敬広1，高橋康史2，菱沼晶光2，河村雄行3 GA08 シリコン系薄膜太陽電池用透明導電膜付き基板（旭硝子1）○神戸美花1，佐藤一夫1，種田直樹1，府川真1 GA09 環境とガラス（光ガラス）○中山義之 GA10 省エネ型光通信サブシステム向け導波路アンプ（旭硝子 光産業協会）○近藤裕己，小野元司，陰山淳一，杉本直樹 GA11 ガラス産業のCO2削減の取り組み（ガラス産業連合会 環境広報部会 板硝子協会）○稲田氏 他 [P会場：21日 16:20〜16:50，16:50〜17:40 ｢GIC共催企画第２回ガラス技術シンポジウム：ポスターセッション ガラスに関係する大学等研究機関の研究室紹介，企業等製品・技術紹介」] GB01 京都大学化学研究所の研究紹介（京大化学研究所）○徳田陽明，高橋雅英，横尾俊信 GB02 東京理科大学・基礎工学部・材料工学科 安盛研究室 研究紹介（東理大）○安盛敦雄，大垣武 GB03 長岡技術科学大学環境システム工学環境材料科学研究室（長岡技科大）○松下和正 GB04 フォトニック材料工学（曽我）研究室（東理大）○曽我公平 GB05 豊橋技術科学大学 物質工学系 逆井・松田研究室 研究紹介（豊橋技科大）大幸裕介，武藤浩行，○松田厚範，逆井基次 GB06 長岡技術科学大学 物質・材料系 アモルファス材料研究室（長岡技科大）○本間 剛，井原梨恵，紅野安彦，小松高行 GB07 岡山大学セラミックス材料学研究室（三浦研）の研究紹介（岡山大院環境1，岡山大保環セ2）○難波徳郎1，崎田真一2，三浦嘉也1 GB08 産総研 高機能ガラスグループ 研究紹介（産総研）○山下勝，神哲朗，赤井智子 GB09 ゾルゲル法による高プロトン伝導電解質の作製（名工大）T. Uma，松村みどり，齋藤丈明，井上崇行，Xiang，○野上正行 GB10 フォトニックガラスの開発（名工大）○早川知克，河村剛，早川雅彦，岸本由佳理，野上正行 GB11 自己組織化ナノ金属微粒子の作製と非線形光学特性（名工大）Y. Yang，松原誉昌，田中大樹，早川知克，○野上正行 GB12 京都工芸繊維大学 物質工学部門 アモルファス工学研究室の紹介（京都工繊大）○角野広平，若杉隆 GB13 ガラスの機械的性質と熱物性の研究（滋賀県大）○松岡純，吉田智 GB14 大阪府立大学 大学院工学研究科 応用化学分野 無機化学研究グループ 研究紹介（阪府大院）○辰巳砂昌弘，忠永清治，林晃敏 GB15 歯科用コンポジットレジンのための希土類含有蛍光性ガラスフィラーの開発（北大院）○宇尾基弘 GB16 京都大学大学院 工学研究科 材料化学専攻 応用固体化学研究室（京大院）田中勝久，藤田晃司，○村井俊介 GB17 研究室紹介と成果事例（東京都立産業技術研究センター）○上部隆男，田中実，陸井史子，大久保一宏 GC01 バグフィルター用ガラスクロス（ユニチカ）○木村雅人 GC02 光ファイバの非線形性制御とその応用技術（古河電工）廣石治郎，高橋正典，谷口友規，宮部亮，井上崇，忠隈昌輝，杉崎隆一，○八木健 GC03 TG-DTAによるバッチの溶融性評価（硝子繊維協会 日東紡）○櫻木啓二 GC04 ガラス線量計の開発動向（旭テクノグラス）○石戸谷達世，池上徹 GC05 ガラスの粘度測定技術（日本電気硝子）○高木淳，笠井義則，大槻進一 GC06 吸水性と親水性を持つポリウレタンコーティング膜の開発と洗面化粧台用防曇鏡への応用（セントラル硝子）○板倉伸行，村田昇，山崎誠司 GC07 光学ガラスの表面品質に対する梱包材の影響（日本電気硝子）○此下聡子，佐藤史雄，坂本明彦 GC08 自動車用赤外線カットコーティングガラス（日本板硝子）○伊勢晶，畠山和範 GC09 日本板硝子のエコガラス（日本板硝子）○浅野修
[A会場：22日 9:30〜12:30] 2A01 ゾル-ゲル法により作製したAg-TiO2薄膜の光機能性（京大院）○塩田彰宏，村井俊介，藤田晃司，田中勝久 2A02 Ag-TiO2薄膜のマルチカラーフォトクロミズムに及ぼすAgナノ粒子形状の影響（慶大）○稲垣充俊，平島碩 2A03 多孔質陽極酸アルミナ皮膜へのチタニアのコーティングに関する研究（東理大1，筑波大院2，物材機構3）○竹内太志1，曽我公平1，永浦友太2，井上悟3 2A04 交互積層前駆体多層膜からのチタニアナノ微結晶低温析出と光活性評価（豊橋技科大1，名大院2）○鈴木俊旭1，松田厚範1，片桐清文2，武藤浩行1，逆井基次1 2A05 逆ミセル法で作製した青色発光セレン化亜鉛ナノ粒子分散ガラスビーズ（産総研1，大阪電通大2）○安藤昌儀1，李春亮1，西川和宏1，榎本博行2，村瀬至生1 2A06 BaO-TiO2-B2O3-SiO2系ガラスの結晶化によるFrsnoite蛍光体の作製（東理大）○土屋博之，大垣武，曽我公平，安盛敦雄 2A07 Sn含有溶融ガラスの白色発光（産総研1，阪大2，名工大3）○山下勝1，赤井智子1，森本正太郎2，壬生攻3 2A08 金属をドープしたポーラスシリカ焼結体のVUV励起蛍光特性（産総研1，京都工繊大2，九州シンクロトロン光研究センター3，高輝度光科学研究センター4）○赤井智子1，劉偉1，村上方貴1，宮野功1，山下勝1，角野広平2，岡島敏浩3，梅咲則正4 2A09 Luminescence characteristics of Te- and Bi-doped glasses and glass-ceramics (Suranaree Univ. Tech.1, Toyota Tech. Inst.2)○Shigeki Morimoto1, Sasithorn Khonthon1, Yasutake Ohishi2
[A会場：22日 13:30〜14:50] 2A10 Eu2O3-Al2O3-SiO2系ガラスにおける新しいホールバーニング現象（名工大1，ENSIL, Mecatronique2）○河村剛1，DAPVRIL Lionel2，後藤研吾1，早川知克1，野上正行1 2A11 軽希土類添加SrF2含有透明ナノ結晶化ガラスの作成とその近赤外発光特性（京大院）○村上 岳，田部勢津久 2A12 テルライトガラス中のEr3＋イオンの超短パルス励起-発光特性（名工大物質工1，名工大環境材料工2）○早川雅彦1，早川知克2，野上正行2 2A13 Uバンド帯光増幅材料Er3＋イオンドープCe1−xYxO2−d結晶の光物性とその熱処理条件依存性(京大人環)○澁谷吉紀，田部勢津久
[A会場：22日 15:00〜16:20］ 2A14 ソルボサーマル法によるEr3＋含有ZrO2およびHfO2ナノ粒子の作製とアップコンバージョン発光特性（東理大1，東工大2）○小西智也1，曽我公平1，谷口貴章2，渡辺友亮2 2A15 酸化ビスマス系エルビウムドープファイバにおける光パワー収支の定量解析（京大院1，旭硝子2）○林英明1,2，田部勢津久1，杉本直樹2 2A16 NH4Clを用いた希土類含有無水塩化ランタンの合成と評価（東理大）○亀山雄司，清水雅大，曽我公平 2A17 希土類含有LaOClアップコンバージョン発光ナノ粒子の作製と評価（東理大）○清水雅大，亀山雄司，小西智也，曽我公平
[B会場：22日 9:30〜12:30] 2B01 タングステン含有リン酸塩ガラスへの水素の溶解（川副フロンティアテクノロジー＆東工大応セラ研1，東大生研2，東工大応セラ＆フロンティアセンター3，川副フロンティアテクノロジー4）○俵山博匡1,2，姿祥一3，井上博之3，細野秀雄4，川副博司1 2B02 タングステン含有リン酸塩ガラスを用いた水の低温熱化学分解（川副フロンティアテクノロジー1，東大2，湘南工大3）○俵山博匡1，井上博之2，藤津悟3，川副博司1 2B03 表面改質した多孔質ガラスによるプロトン導電型固体電解質膜（兵県大院）○荘所正 2B04 シリカガラス中に形成されたHO2およびOHラジカル（科学技術振興機構1，ラトビア大2，東工大3）○梶原浩一1，平野正浩1，Linards Skuja2，細野秀雄3 2B05 インテリジェンス陽極酸化法による，3次元ナノ構造を有するポーラスアルミナの作製（筑波大院1，東理大2，物材機構3）○永浦友太1，竹内太志2，井上悟3 2B06 機械的外力による単分散微粒子の周期配列（豊橋技科大）○木股幸司，武藤浩行，松田厚範，逆井基次 2B07 酸化タングステンを添加したチタノリン酸塩ガラスのセルフクリーニング特性（三重大院）○辻和宏，橋本忠範，那須弘行，石原篤 2B08 CaO-Bi2O3-TiO2-B2O3系ガラスの作製と結晶化挙動（東北大院1，長岡技科大2）○正井博和1，藤原巧1，森 宏1，紅野安彦2，小松高行2 2B09 Fe2O3-Bi2O3-B2O3系ガラスのスピンダイナミクス（京大院）○赤松寛文，田中勝久，藤田晃司，村井俊介
[B会場：22日 13:30〜14:50] 2B10 プラズマを用いたインフライト溶融により生成したガラス粒子のキャラクタリゼーション（東工大院理工1，ニューガラスフォーラム2，東工大院総合理工3）○船曳富士1，矢野哲司1，田中千禾夫2，姚耀春3，渡辺隆行3 2B11 微粒造粒原料を用いたソーダ石灰ガラスの溶解性（旭硝子1，ニューガラスフォーラム2）○辻村知之1，酒本修1，田中千禾夫2 2B12 バッチ山溶解プロセスのシミュレーション（アドバンスソフト1，ニューガラスフォーラム2）田嶋雄次1，○川地伸治2 2B13 自由体積理論に基づいた混合アルカリガラスの粘性流動機構の解明（長岡技科大）○馬場勇介，松下和正 [B会場：22日 15:00〜16:20] 2B14 熱ポーリングによるガラス表面への微細構造誘起および金属微粒子析出（京大院）○村井俊介，川瀬園子，藤田晃司，田中勝久 2B15 超短パルスレーザーによるガラス内部からのSi結晶析出（京大工1，京大国際融合創造センター2）○浜辺理史1，下間靖彦2，三浦清貴1，平尾一之1 2B16 新規高硬度ボレート系ガラスの探索（東理大1，物材機構2）○坂本知之1，小西智也1，安盛敦雄1，末原茂2，轟眞市2，井上悟2 2B17 ガラスの押し込み誘起クラック発生と破壊強度（滋賀県大1，日本電気硝子2）○吉田智1，清水友仁1，加藤嘉成2，山崎博樹2，松岡純1 懇親会 11月21日（火）18:00〜20:00 カナル会館（野田キャンパス内）事前登録 5,000円 11月14日(火)までにホームページからお申し込み下さい．当日登録 8,000円 参加費 一般5,000円 学生2,000円（討論会当日にお支払い下さい．） 問合先 東京理科大学・基礎工学部・材料工学科 安盛敦雄・大垣武 TEL 04-7122-9691（安盛）04-7124-1501 ext. 4316(大垣)，FAX 04-7123-9362，E-mail：glass@sogalabo.jp 第5回衝撃工学フォーラム 主 催 日本材料学会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2006年11月24日（金） 場 所 東京理科大学 神楽坂キャンパス 森戸記念館第1フォーラム（地下1階）（東京都新宿区神楽坂4-2-2 TEL 03-5225-1033） 内 容 1.応力波伝播の基礎（摂南大）黒川知明，2.衝撃試験法の基礎と実際（前・京大）小川欽也，3.衝撃変形と構成式（大阪府立大）三村耕司；4.衝撃破壊じん性とその評価法（立命館大）日下貴之；5.衝撃問題と数値計算法（CAEソリューションズ）今木敏雄；6.衝撃解析と計算コード（東工大）萩原一郎；7.パネルディスカッション 講師全員 参加費 無料（テキスト代：会員3,000円，非会員3,500円(当日受付にて）) 参加定員 100名 申込締切 2006年11月17日(金) 申込先 606-8501 京都市左京区吉田本町 京都大学大学院工学研究科マイクロエンジニアリング専攻内 第5回衝撃工学フォーラムプログラム委員会 杉山文子 E-mail：sugiyama@kuaero.kyoto-u.ac.jp，TEL/FAX 075-753-4815 URL http://www.jsms.jp/kaikoku/5shougeki.htm 第12回セラミックス関係分析技術者研究発表会 主 催 日本セラミックス協会原料部会（化学分析分科会） 共 催 日本分析化学会 日 時 2006年11月30日（木）10:20〜16:20 場 所 東京工業大学百年記念館フェライト記念会議室（東京都目黒区大岡山2-12-1）[交通：東急目黒線・大井町線「大岡山」下車] プログラム（発表内容および時間は，変更する場合があります） 開会挨拶 目義雄 原料部会部会長 1. ファインセラミックス粉末からのハロゲンおよびイオウの抽出のためのアルカリ浸出法の迅速化（産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門）○森川久，柘植明，上蓑義則 2. JIS R 1603並びに同1616の改正原案について（産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門）○上蓑義則，森川久，柘植明 3. 均質性数値化技術の開発とセラミックス材料への応用（産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門）○柘植明，中原悠希，上蓑義則，森川久 4. マイクロ波試料前処理装置によるセラミックスの分解法（マイルストーンゼネラル）○後藤将治 5. ファインセラミックス用炭化けい素標準物質（NMIJ CRM 8001-a, 8002-a）の同位体希釈質量分析法による評価について（産業技術総合研究所計測標準研究部門）○野々瀬菜穂子，日置昭治，千葉光一 6. 卓上型波長分散蛍光X線分析装置を用いた軽元素の分析（理学電機工業）○本間寿，閑歳浩平，山田康治郎 7. 3D-EDXRFよる有害重金属の高感度分析（スペクトリス パナリティカル事業部）○水平学，松田賢工 8. 欧州指令に対応するための環境負荷物質スクリーニング分析法（堀場製作所）○坂東篤，亀谷亜矢，宮坂真太郎 9. ｢ファインセラミックス用アルミナ微粉末中の環境影響成分の化学分析方法」規格作成（日本ガイシ研究開発本部）○渡辺光義 募集人員 約100名（会場の都合上，定員になり次第締め切らせて頂きます） 参加費 主 催・共催学協会員3,000円，非会員4,000円，学生1,000円（いずれも資料代を含む） 申込・送金方法 氏名，勤務先，同住所，TEL，会員種別を明記の上（E-mail：r-apply@cersj.orgまたはFAX），銀行振込または現金書留にてお申込下さい． 振込先 三菱東京UFJ銀行新宿中央支店（普）5713532，名義；(社)日本セラミックス協会原料部会，振込の場合は請求書，領収書は発行しません． 申込先 169-0073 東京都新宿区百人町2-22-17 日本セラミックス協会原料部会 第12回セラミックス関係分析技術者研究発表会係 TEL 03-3362-5231，FAX 03-3362-5714 URL https://www.ceramic.or.jp/bgenryo/bunsekiseminar_H18.html 無機マテリアル学会第16回講習会 主 催 無機マテリアル学会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2006年12月1日（金）9:25〜17:05 場 所 工学院大学新宿校舎28階第1･2会議室（東京都新宿区西新宿1-24-2） 内 容 リサイクル社会と素材産業の融合（横国大）梅澤修；エコタウン事業と国際資源循環（日鉄運輸）川崎順一；石綿含有廃棄物の無害化とリサイクル（ノザワ）山下喜世次；生物共生コンクリート（鹿島建設）柵瀬信夫；セッコウボードのリサイクルの現状と課題（吉野石膏）西美知男；ALC廃材の炭酸硬化による室内環境改善建材（クリオン）寺村敏史；保水性舗装（仮）（未定） 参加費（テキスト代含む） 正会員・維持会員（後援および協賛学協会会員を含む）6,000円，非会員10,000円，学生会員1,000円，学生非会員2,000円 申込締切 11月17日（金）（定員：90名） 申込・連絡先 160-0023 東京都新宿区西新宿7-13-5 12山京ビル 無機マテリアル学会企画事業委員会TEL 03-3363-6445，FAX 03-3363-6897，E-mail：imj@giga.ocn.ne.jp URL http://www.platz.jp/~mukimate/Making/IMJ/ 第43回X線材料強度に関する討論会 主 催 日本材料学会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2006年12月1日（金） 場 所 東京都大田区産業プラザ（東京都大田区南蒲田1-20-20 TEL 03-3733-6600） 趣 旨 X線回折技術は結晶材料の微視構造や残留応力を非破壊で検出できる手法として基礎研究から製造技術・品質管理に至るさまざまな分野で用いられています．X線材料強度に関する討論会では，このX線回折技術を基盤にして，材料の変形や破壊など「材料強度」に関する解析・評価について幅広い観点からの討論を行ってきました．今回は，ITはもちろん多くの産業の発展を支えている「電子デバイス」をテーマに取り上げました．高密度・高集積化が急速に進んでいる電子デバイスでは，熱応力や残留応力，層構造や微細化などに起因する欠陥が問題となっています．産業界においてはそれらの評価や制御方法の確立が強く望まれています．本討論会では斯界の第一線でご活躍中の専門家の方々から電子デバイスにおける諸課題と対策に関するご講演をいただくとともに総合的な討論を行います．電子デバイスの設計開発や信頼性評価に係る方々には最適の企画と考えます． ※本討論会は，日本材料学会CPD登録対象企画です． プログラム 【信頼性評価・設計】 1.モバイル機器の落下衝撃強度設計の課題（東芝）◯川上崇；2．封止樹脂の疲労寿命評価（デンソー）◯新帯亮；3．先端LSIデバイスにおける応力問題の現状と課題（富士通研究所）◯中村友二，鈴木貴志;4．エレクトロマイグレーション損傷と数値シミュレーションによる信頼性評価法（弘前大）◯笹川和彦【鉛フリーはんだ】5．鉛フリーはんだの力学的特性評価の現状と問題点（芝浦工大）◯苅谷義治；6．電子部品の錫ウィスカ発生・成長評価の現状と課題（横浜国大）◯澁谷忠弘；【計測・応力評価】7．シリコンのピエゾ抵抗効果を用いたひずみ計測（日立製作所）◯太田裕之；8．インデンテーション法による薄膜のナノ機械物性の評価（日産アーク）◯児嶋伸夫；9．レーザ光弾性法による電子デバイスの応力測定（東京電機大）◯五味健二；10．X線による薄膜の熱応力その場測定（徳島大）◯英崇夫 参加費 会員6,000円，非会員10,000円，学生会員3,000円，学生非会員4,000円（ただし，講演論文集を含む)；講演論文集のみ 会員4,000円，非会員6,000円 申込締切 11月17日（金） 申込先 606-8301 京都市左京区吉田泉殿町1-101 日本材料学会X線討論会係 TEL 075-761-5321，FAX 075-761-5325 プログラムURL http://x-ray.ed.niigata-u.ac.jp/ 申込URL http://www.jsms.jp/ 第33回炭素材料学会年会 主 催 炭素材料学会 共 催 日本セラミックス協会，日本学術振興会炭素材料第117委員会，応用物理学会，日本化学会 日 時 2006年12月6日（水）〜8日（金) 場 所 北海道大学学術交流会館（札幌市北区北8条西5丁目） 参加費(要旨集代込)当日受付 炭素材料学会正会員・賛助会員7,000円，共催・協賛学協会会員8,000円，非会員14,000円，学生3,000円 懇親会 12月7日 (木) 18:30，会場：KKRホテル札幌，会費：8,000円（学生4,000円） 問合先 112-0012 東京都文京区大塚3-11-6 大塚三丁目ビル 炭素材料学会事務局 TEL 03-5940-7640，FAX 03-5940-7980，E-mail：cb-nenkai06@realize-at.jp 日本セラミックス協会関西支部 主 催 日本セラミックス協会関西支部 協 賛 日本化学会，応用物理学会ほか 日 時 2006年12月7日（木）10:00〜17:00 場 所 大阪大学銀杏会館（吹田市山田丘2-2 TEL 06-6879-3006；大阪モノレール万博記念公園駅経由阪大病院前下車7分，または阪急バス（地下鉄御堂筋線（北大阪急行）千里中央駅方面)／近鉄バス（JR茨木駅／阪急茨木駅方面）阪大医学部病院前下車6分，http://www.office.med.osaka-u.ac.jp/icho/icho-jp.html） テーマ 高周波とセラミックス プログラム 1) 高周波セラミックスの課題（名工大）大里齊 2) ｢セラミックスの製造プロセスにおけるマイクロ波加熱技術」（産業技術総合研）安岡正喜 3) 誘電体材料の損失と温度特性について（格子振動測定からのアプローチ）（NEOMAX）島田武司 4) セラミック製フォトニック結晶およびフラクタル構造によるテラヘルツ波制御（阪大）宮本欽生 5) マイクロ波用誘電体セラミクスの特性と誘電体フィルタへの応用（村田製作所）立川勉 6) LTCC材料プロセス技術とその応用（パナソニック エレクトロニックデバイス）勝村英則 7) インクジェットプリンターヘッドと材料開発における諸技術（京セラ）西村道明 参加費 会員（特別・援助会員含む）4,000円，学生2,000円，協賛会員5,000円，非会員8,000円（講演予稿集代含む） 懇親会（17:15〜19:00）5,000円（参加費とも当日受付で申し受けます） 参加申込締切 定員150名になり次第締切 申込・問合先 (1)氏名，(2)所属，(3)連絡先，(4)懇親会参加希望の有無，(5)会員種別を明記の上，E-mail，FAXまたは郵送で下記までお申し込み下さい．559-0025 大阪市住之江区平林南1-6-38 第一稀元素化学工業(株) 技術部技術G内 日本セラミックス協会関西支部事務局 高木俊二 TEL 06-6682-1265，FAX 06-6682-8939，E-mail：s_takaki@dkkk.co.jp 東北大学多元物質科学研究所 主 催 東北大学多元物質科学研究所 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2006年12月8日（金）13:00〜17:30 場 所 東北大学片平さくらホール（仙台市青葉区片平2-1-1） 内 容 第6回目を迎える東北大学多元物質科学研究所研究発表会は「レーザーナノ化学」と題して特別講演を大阪大学増原宏先生にお願いし，関連成果を多元研から笠井 均，荒木保幸，井上祐一から口頭発表いたします．他の成果はポスターセッションにて多元研メンバーから紹介しますので奮ってご参加ください． 参加費 無料 申込締切 当日参加で可 連絡先 980-8577 仙台市青葉区片平2-1-1 東北大学多元物質科学研究所 佐藤俊一 TEL 022-217-5160，FAX 022-217-5145，E-mail：sato@tagen.tohoku.ac.jp URL http://www.tagen.tohoku.ac.jp/general/information/gyouji-j.html 平成18年度日本セラミックス協会 主 催 日本セラミックス協会東海支部 日 時 2006年12月9日（土）9:00〜17:15 場 所 名古屋大学IB電子情報館中棟 (名古屋市千種区不老町 TEL 052-789-5111) 参加登録料 一般3,000円，学生1,500円(含要旨集，当日会場にて受付) 懇親会 会費：一般4,500円，学生2,000円 17:50より名古屋大学内レストラン「花の木」 一般講演 講演12分，質疑応答・交替3分 研究発表プログラム A会場（IB-015教室） A1 共有結合型有機修飾粘土に取り込まれた色素の光学特性（名大エコトピア科研）○中島秀幸・藤井和子・伊藤崇倫・笹井亮・伊藤秀章 A2 噴霧火炎法によるCrドープフォルステライトナノ粒子の合成（豊田中研1)・JFCC2)・豊田工大3)）○佐伯周1)・谷孝夫1)・鈴木健伸2)・荒井雄介3)・大石泰丈3) A3 ゾル-ゲル法による無機着色コーティング膜の作製（名工大）○畠山卓也・早川知克・野上正行 A4 ジルコニアおよびチタニアナノ粒子/有機複合膜の合成（名大エコトピア科研）○浅井敏彦・坂本渉・余語利信 A5 Bi2O3高含有ガラスからの第二高調波発生（三重大）○村上美佳・那須弘行・橋本忠範・石原篤 (10:15〜10:45) 特別講演A6 可視光応答型光触媒の開発と製品開発―窒素ドープ酸化チタン―（豊田中研）○森川健志・大脇健史・青木恒勇・鈴木憲一 (10:45〜12:00) A8 チタニア系複合ナノ粒子の水熱合成と相転移（愛工大）○小澤将幸・平野正典 A9 結晶系の異なるチタニアとシリカゲルのコンポジットの調製（愛工大）○尾矢紳輔・平野正典 A10 Silica-supported gallium oxides as novel photocatalysts for methane conversion(名大エコトピア科研）○レニ ユリアティ・服部忠・伊藤秀章・吉田寿雄 A11 SOFC電解質用ジルコニア基ナノコンポジットの作製（名工大1)・東邦ガス2)）○山田明1)・崔成?1)・本多沢雄1)・橋本忍1)・淡路英夫1)・嶋野純2)・鵜飼健司2)・水谷安伸2) A12 La2O3-WO3系固溶体の高温導電特性（名大エコトピア科研）○伊藤和真・志村哲生・坂本渉・余語利信 (13:00〜13:50) 招待講演A13 ひとづくりと材料イノベーションに想う（名大）○平野眞一 (14:00〜17:15) A16 マイクロチューブ型セルを用いたキューブ型SOFC(ファインセラ組合1)・日特2)・産総研3)）○舟橋佳宏1)・島森融2)・鈴木俊男3)・藤代芳伸3)・淡野正信3) A17 ZnO-Al2O3-P2O5系中温プロトン伝導体の作製（名工大）○岡政宏・春日敏宏 A18 リン酸基含有無機・有機ハイブリッドの合成（名大エコトピア科研）○鬼塚宏司・志村哲生・坂本渉・余語利信 A19 新規プロトン伝導性複合固体酸のメカノケミカル合成と中温作動燃料電池への応用（豊橋技科大1)・名大2)）○高木久徳1)・大幸裕介1)・片桐清文2)・武藤浩行1)・松田厚範1)・逆井基次1) A20 Nafion超薄膜積層プロトン伝導性ハイブリッド粒子を用いた燃料電池電解質膜の作製（豊橋技科大1)・名大2)）○坂本尚敏1)・大幸裕介1)・片桐清文2)・武藤浩行1)・松田厚範1)・逆井基次1) A21 高プロトン伝導性ゾル-ゲルガラス電解質を用いた燃料電池の作製（名工大）○齋藤丈明・野上正行 A22 有機無機ハイブリッド材料を用いたガスセンサ（産総研）○松原一郎・伊藤敏雄・申ウソク・伊豆典哉 A23 CVIを用いたガス分離膜の作製（JFCC）○永野孝幸・佐藤功二・岩本雄二 A24 d-アルミナ系メソポーラス膜の高温・水蒸気存在下におけるガス透過特性（JFCC）○Md. H. Zahir・佐藤功二・幾原裕美・森 博・永野孝幸・岩本雄二・野村幹弘・中尾真一 A25 高温水素分離膜モジュールの開発（ノリタケ1)・芝浦工大2)・東大3)・宇都宮大4)）○吉野泰1)・鈴木毅裕1)・B.N.ナイル1)・田口久富1)・野村幹弘2)・中尾真一3)・伊藤直次4) A26 高温拡散反射法FT-IRによるシリカ系水素分離膜材料の評価（JFCC）○幡谷耕二・幾原裕美・森 博・岩本雄二 A27 金属ナノ粒子分散アモルファスシリカの微細構造と水素吸着特性（JFCC）○幾原裕美・齋藤智浩・岩本雄二 A28 ナノ粒子分散シリカ系コンポジット膜の高温ガス透過特性（JFCC）○岩本雄二・幾原裕美・森 博・藤崎真司
B会場（IB-014教室） B1 層状水和コバルト酸化物超伝導体Na0.3CoO2-1.3H2Oエピタキシャル薄膜の作製（名大1)・CREST, JST2)・ERATO-SORST, JST3)・東工大4)）○杉浦健二1)・太田裕道1),2)・野村研二3)・柳 博4)・平野正浩3)・細野秀雄3),4)・河本邦仁1),2) B2 p型層状酸化物Sr0.32Na0.21CoO2エピタキシャル薄膜の作製（名大1)・CREST, JST2)・ERATO-SORST, JST3)・JFCC4)・東大5)・東工大6））○杉浦健二1)・太田裕道1),2)・野村研二3)・平野正浩3)・齋藤智浩4)・幾原雄一5)・細野秀雄3),6)・河本邦仁1),2) B3 p型層状酸化物Ca3Co4O9エピタキシャル薄膜の作製（名大1)・CREST, JST2)・ERATO-SORST, JST3)・JFCC4)・東大5)・東工大6））○杉浦健二1)・太田裕道1),2)・野村研二3)・平野正浩3)・齋藤智浩4)・幾原雄一5)・細野秀雄3),6)・河本邦仁1),2) B4 Co-O一次元鎖を有するSr6Co5O15−eの合成と電気的性質（名大1)・名大エコトピア科研2)）○岩崎航太1)・伊藤剛1)・吉野正人1)・松井恒雄1)・長崎正雅2)・有田裕二2) B5 Eu, Nb-codoping-SrTiO3焼結体の熱電特性（名大1)・CREST, JST2)）○加藤恵介1)・太田慎吾1)・太田裕道1),2)・河本邦仁1),2) B6 CaTiO3-SrTiO3-BaTiO3系固溶体エピタキシャル薄膜のキャリア輸送特性マッピング（名大1)・CREST, JST2)）○山本真宏1)・太田裕道1),2)・河本邦仁1),2) B7 c軸配向Zn0.98Al0.02Oの輸送特性（産総研1)・長岡技科大2)）○加賀久1)・杵鞭義明1)・田中諭2)・牧谷敦2)・加藤善二2)・植松敬三2)・渡利広司1) (10:45〜11:15) 特別講演B8 遮熱コーティングの耐久性向上に関する研究（JFCC）○松本峰明 (11:15〜12:00) B10 Eu2O3添加窒化アルミニウム焼結体の作製と評価（日ガイ）○寺谷直美，勝田祐司，山田直仁 B11 反応性固相エピタキシャル成長法を利用したLixCoO2エピタキシャル薄膜の作製（名大1)・CREST, JST2)）○水谷篤史1)・杉浦健二1)・太田裕道1),2)・河本邦仁1),2) B12 水熱法によるLiFePO4粒子の合成と評価（名大エコトピア科研）○磯村亮太・志村哲生・坂本渉・余語利信 (14:00〜15:45) B16 有機鉄化合物を用いる鉄薄膜の合成（名大エコトピア科研）○山内淳・伊佐治智昭・坂本渉・余語利信 B17 La0.7Sr0.3MnO3/Cr2O3ヘテロ接合における結晶性・誘電性・電気磁気特性の相関（名工大）○栗林孝明・横田壮司・服部慶太・五味学 B18 磁気スピン情報を含む絶縁体ゲート材料としてのCr2O3/x/Cr2O3(x＝Fe2O3, Mn2O3) tri-layerの作製及びその磁気・誘電特性（名工大）○服部慶太・横田壮司・栗林孝明・五味学 B19 BaTiO3への希土類元素Gdの固溶状態解析（名工大）○笠原大弘・水野洋一・籠宮 功・柿本健一・大里齊 B20 マルチフェロイックPb(Zr,Ti)O3-LaMnO3複合体における電界誘起磁化減少（名工大）○西村展彰・五味学・横田壮司 B21 NaNbO3-BaTiO3固溶体セラミックスの圧電特性（名工大）○松岡隆明・青柳倫太郎・岩田真・前田雅輝 B22 (1-x)(Na0.5K0.5)NbO3−xLiNbO3圧電セラミックスの温度依存性評価（名工大）○東出和彦・柿本健一・大里齊 (15:45〜16:15) 特別講演B23 ニオブ系非鉛圧電材料の結晶配向技術（豊田中研）○高尾尚史 (16:15〜17:15) B25 ゾルゲル法によるチタン酸バリウム薄膜の合成と誘電特性（岐阜大）○石谷豪浩・伊藤豊大・伴隆幸・大矢豊 B26 Li添加量が異なるゾル-ゲルLixNa1−xNbO3薄膜の作製（名工大）○林宏美・田中清高・柿本健一・大里齊 B27 金属アルコキシドからの（Li, Na, K）NbO3系微粉末の作製（名工大）○田中清高・柿本健一・大里齊 B28 化学溶液法により調製した薄膜への紫外線照射効果（名大）○菊田浩一・河野隆太・野田耕嗣・木下昌洋
C会場（IB-013教室） C1 マイクロ波を用いた液相焼結における液相生成過程について（産総研）○西村ゆつき・安岡正喜・長岡孝明・杵鞭義明・白井孝・渡利広司 C2 湿式成形体のマイクロ波乾燥（産総研）○白井孝・安岡正喜・堀田裕司・杵鞭義明・渡利広司 (9:30〜10:00) 特別講演C3 マイクロ波焼成炉および焼成技術（岐阜セラミックス研）○水野正敏・佐藤元泰・伊藤正剛・平井敏夫 (10:00〜12:00) C5 シリカゾルを用いた複合セラミックスの特性制御（日ガイ）○児玉優 C6 メタノール-水混合溶媒中アルミナ粒子分散状態のその場固化観察（名工大）○田村彩・高井千加・渡辺秀夫・遠藤健司・藤正督・高橋実 C7 湿式ジェットミル法を用いて調製したナノサイズアルミナの分散と凝集評価（産総研）○磯部敏宏・堀田裕司・佐藤公泰・Huseyin Yilmaz・渡利広司 C8 セリア-アルミナ複合粒子の水中超音波振動電位および電荷ゼロ点における表面組成の影響（名工大）○服部将朋・石田貴司・小澤正邦 C9 ソフトミルプロセスによる安定分散スラリーの作製（産総研）○堀田裕司・磯部敏宏・白井孝・佐藤公泰・太田一徳・渡利広司 C10 インクジェット印刷用水系無機顔料インクの調製とその評価（岐阜セラミックス研）○安達直己・尾畑成造・岩田芳幸・柘植英明・横山久範 C11 均一沈殿法による希土類修飾アルミナ触媒坦体の作製と耐熱性（名工大）○西尾吉豊・小澤正邦 C12 天然ガスを用いたカーボンマイクロコイルの気相合成とその応用（岐阜大）○楊少明・陳秀琴・名波雅大・勝野高志・夏原大宗・元島栖二 (14:00〜14:30) 特別講演C16 セラミックスの液相パターニング（産総研）○増田佳丈 (14:30〜15:15) C18 ゾルゲル製法を用いた超微粒ビトリファイドダイヤモンド砥石「ナノフィニッシャーV」の開発（ノリタケスーパーアブレーシブ1)・ノリタケ2)）永田滉1)・○森谷英世2) C19 新規なジルコン型固溶体結晶の水熱合成と相転移（愛工大）○石川量勧・渡辺洋介・平野正典 C20 電場印加を用いるペロブスカイト型酸化物／ポリマー複合膜の合成（名大エコトピア科研）○大井智文・志村哲生・坂本渉・余語利信 (15:15〜15:45) 特別講演C21 生体鉱化作用における無機・有機界面相互作用（産総研）○佐藤公泰 (15:45〜17:15) C23 水熱処理によるチタンの表面改質（名工大）○小幡亜希子・春日敏宏 C24 Preparation of porous b-TCP scaffolds coated with sol-gel-derived SiO2 glasses(名工大）○Ye Zhu, Akiko Obata, Toshihiro Kasuga C25 マウス骨芽細胞様細胞株MC3T3-E1の細胞応答への物理的表面性状の影響（名工大1)・産総研2)）○林彦史朗1)・斎藤隆雄2)・加藤且也2)・亀山哲也2) C26 水熱処理によるa-リン酸三カルシウムの相転移（名大）○川内義一郎・菊田浩一・大槻主税 C27 ポリ乳酸/リン酸カルシウム複合ナノスフェアの調製（産総研1)・中部大2)）永田夫久江1)・○脇田麻衣2)・宮島達也1)・櫻井誠2)・渡邉誠2) C28 擬似体液を用いたリン酸カルシウム化合物のコーティングプロセス（名大）○大槻主税・川内義一郎・菊田浩一
D会場（IB-011教室） D1 昇温過程を含む焼結体の構造・形状変化のシミュレーション（JFCC1)・中電シーティーアイ2)）○野村浩1)・松原英彰1)・清水正義2) D2 多孔体セラミックス内部の熱伝導に関する研究（名工大）○富田雄貴・藤正督・高橋実 D3 高温環境下における酸化物セラミックスの酸素透過性（JFCC1)・中部電力2)）○和田匡史1)・松平恒昭1)・川島直樹1)・北岡諭1)・中條幸司2)・鍵谷幸生2) D4 高温インデンテーション法による超塑性材料の表面変形の評価（豊橋技科大）○北岡秀介・武藤浩行・松田厚範・逆井基次 D5 顕微インデンターを用いた弾塑性圧子力学試験（豊橋技科大1)・産総研2)）○石垣知徳1)・羽切教雄1)・武藤浩行1)・松田厚範1)・宮島達也2)・逆井基次1) D6 圧子力学を応用した触覚センサの開発（産総研1)・豊橋技科大2)）○宮島達也1)・逆井基次2) D7 応力誘起相転移を示す(Ba,Sr)Zr(PO4)2固溶体の積層セラミックスへの応用（名工大）○岩田知之・森山誠・福田功一郎 D8 Al-Si-C系化合物の合成とその機械的特性(名工大1)・三重県科学技術振興センター2)）○浅野智子1)・橋本忍1)・井上幸司2)・本多沢雄1)・淡路英夫1) D9 酸化物を添加したAlTi2Cの常圧焼結とその機械的特性（名工大）○竹内健・本多沢雄・橋本忍・淡路英夫 (11:15〜12:00) 特別講演D10 組織制御による窒化ケイ素セラミックスの高機能化（産総研）○平尾喜代司 (14:00〜14:30) D16 Al2O3/ZrO2ナノコンポジットの作製と特性評価（名工大）○野嵜寛子・本多沢雄・橋本忍・淡路英夫 D17 交互積層法を用いたジルコニア-アルミナ複合材料の作製と超塑性特性（豊橋技科大1)・名大2)）○島田和幸1)・武藤浩行1)・下池和徳1)・片桐清文2)・松田厚範1)・逆井基次1) (14:30〜15:00) 特別講演D18 浄水システム用大型セラミックフィルタの開発と量産化（日ガイ1)・中部経済連合会2)）○秋津康男1)・高橋知典1)・勝正則2)・北川潤1) (15:00〜17:15) D20 気孔形成剤の導入による強化磁器の軽量化とその曲げ強さ（愛工大1)・ノリタケ2)）○井上雅人1)・戸澤奈菜子1)・小林雄一1)・増田暁司2) D21 コンニャク石を模倣した可撓性セラミックスの作製（名工大1)・品野セラミックタイル工業2)）○玉木康介1)・安達信康1)・太田敏孝1)・佐藤市周2) D22 配向析出させたコーディエライト焼結体の配向性や微構造に及ぼす添加剤の効果（愛工大）○佐藤雄亮・小林雄一 D23 エンスタタイトの焼結と粒成長に及ぼす添加剤の効果(愛工大)○桜井健司・小林雄一 D24 (Ca0.35Ba0.65)2SiO4における不規則構造の解析（名工大）○伊藤正道・福田功一郎 D25 αH-Ca2SiO4固溶体の転移双晶と結晶構造（名工大）○長谷川一・福田功一郎 D26 陶磁器食器の鉛溶出試験における局所分析（愛工大1)・土岐陶試2)）○小林雄一1)・磯山博文2) D27 水熱処理による廃色ガラスの再生利用（名大エコトピア科研）○邵永峯・笹井亮・伊藤秀章 D28 吹き付けクロシドライトの無害化（名工大1)・富士清空工業所2)）橋本忍1)・奥田篤史2)・上林晃1)・本多沢雄1)・淡路英夫1)・福田功一郎1)
問合先 464-8603 名古屋市千種区不老町 名古屋大学・エコトピア科学研究所 ナノマテリアル科学研究部門 余語利信 TEL 052-789-2750, FAX 052-789-2121, E-mail：yogo@esi.nagoya-u.ac.jp 第7回 3セラミックス研究機関 主 催 名古屋工業大学21世紀COEプログラム・環境材料工学科，東京工業大学応用セラミックス研究所，ファインセラミックスセンター 材料技術研究所 協 賛 日本セラミックス協会 日 時 2006年12月12日（火）13:00〜17:30 場 所 名古屋工業大学（名古屋市昭和区御器所町，JR中央線・鶴舞駅下車・東へ徒歩10分） プログラム I. セラミックス研究の最前線（座長：JFCC 平山 司） 1.アルカリニオブ酸系非鉛ピエゾセラミックスの合成研究（名工大）柿本健一；2.エンジニアリングセラミックスの新機能発現（JFCC）北岡 諭；3.カーボンナノシートからなる触媒（東工大）原 亨和 II. プロジェクト研究の現状（座長：東工大 山内尚雄） 4.多孔体製造技術を中心とした東濃地区における産学官連携研究開発とその成果 (名工大) 藤 正督 5.全国共同利用研究所連携プロジェクト『金属ガラス・無機材料接合技術開発拠点』」（東工大）神谷利夫；6. JFCCの未来ビジョン（JFCC）種村 榮 参加費 無料 懇親会 講演会終了後（17:40〜19:00）に名工大ラウンジで開催．会費2,000円 申込方法 申込書に，参加者氏名・団体名・懇親会参加有無・e-mailアドレスなどをご記入いただき，FAXでお申込みください．なお，FAXの送信控を参加証とさせていただきますので，当日会場にご持参ください． 問合先 名古屋工業大学 環境材料工学科 野上正行 FAX 052-735-5285，E-mail：nogami@nitech.ac.jp 平成18年度九州支部 共 催 日本セラミックス協会九州支部，耐火物技術協会九州支部 日 時 2006年12月15日（金）9:00〜17:40 場 所 長崎大学総合教育研究棟2階 多目的ホール（852-8521 長崎市文教町1-14） 講 演（講演順序はHPをご参照ください） 1) 高温熱処理によるカーボンナノファイバーの構造変化（長崎大院）山上圭介 2) リン処理膨張黒鉛の耐酸化性に及ぼすヘテロ元素の添加効果（長崎大院）伊藤 誠 3) 色素増感太陽電池に用いる酸化物半導体電極の微細構造制御（長崎大院）山本祐輝 4) 錯体重合法によるバリウム置換ストロンチウムタンタレートの合成−光触媒活性と構造変化（山口大院）藤森宏高 5) ウィレマイトナノ蛍光結晶の作製と評価（山口大院）佐藤隆康 6) LiKB4O7結晶育成と評価(山口大院) 斉藤貴 7) フッ化物ガラスにドープしたCe3＋の光酸化に及ぼす希土類イオン共ドープ効果（長崎県窯業技術センター）吉田英樹 8) 粉末焼結法により作製した透明石英ガラスの真空紫外透過特性（九州大院）藤野茂 9) めっき法によるオプティカル水素センサの作製と評価（久留米高専）森将来 10) BaTiO3を用いたインピーダンス検出型イオンセンサ（九工大工）鈴木聡一郎 11) 表層域の密度と弾性係数の測定（産業技術総合研究所）熊谷年男 12) Si融液擬似液体での磁場印加による対流観察（山口大院）西田聡 13) 連続鋳造用ノズルの弾塑性解析（内孔加熱されるノズルの熱応力解析）（黒崎播磨）神尾英俊 14) 転炉用MgO-Cれんがの熱的特性に及ぼすC量の影響（黒崎播磨）吉田章二 15) 炭化ケイ素／RBセラミックス複合材料の開発（大光炉材）南里隼人 16) SPS法によるSiC多孔体の作製（九州大院）松浦広幸 17) SiC-AlN焼結体の機械的特性と耐酸化性評価（九州大院）野中祐樹 18) Preparation and characterization of B-C-N films by RF plasma CVD (佐賀大理工) Md. Abdul Mannan 19) 交流インピーダンス法による圧電性窒化アルミニウム薄膜の電気的特性評価（産業技術総合研究所）西島大 20) 電気泳動法によるリチウムイオン導電体厚膜の作製と評価（九工大工）大石憲吾 21) 電気泳動法によるシリカコロイド結晶の作製とその光学特性（久留米高専）吉村浩一 22) 電気泳動法を用いたアパタイトコーティング膜の作製とin vitro評価（久留米高専）松岡孔明 23) Electrophoretic deposition of BaTiO3 films on the conducting polyaniline layers-coated Si substrates (Department of Applied Science for Electronics and Materials, Kyushu University) Jinqing WANG 24) 水溶液反応を利用したアパタイト-高分子ハイブリッド材料の作製（九工大院）宮崎敏樹 25) 擬似体液環境下におけるNa2O-Ta2O5系セラミックス表面でのアパタイト形成（九工大院）甲斐智明 26) 平行ビーム光学系高温X線回折によるオキシ・ハイドロキシアパタイトのリートベルト解析（山口大院）岡西計典 27) 有機金属錯体／モンモリロナイト複合材料の抗菌・防カビ特性（長崎県窯業技術センター）阿部久雄 28) 宇部産蛇紋岩を用いた二酸化炭素固定の研究（山口大院）古川兼士 プログラムURL こちらを参照ください． 参加申込 不要．当日会場までお越し下さい． 連絡先 日本セラミックス協会九州支部（745-8648 周南市御影町1-1 (株)トクヤマ セメント開発グループ内 土井宏行 E-mail：cemeken@tokuyama.co.jp, TEL 0834-21-4259，FAX 0834-31-6662） 表面科学技術研究会 主 催 日本表面科学会関西支部，表面技術協会関西支部 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2007年1月26日（金）13:00〜17:30 場 所 神戸大学瀧川記念学術交流会館（神戸市灘区六甲台町1-1 TEL 078-803-5583） 内 容 1.水溶液中固体表面のX線解析（大阪市立大）辻幸一；2. X線を曲げる・絞る，X線分析の革新技術（島津総合科学研究所）副島啓義；3.表面・界面とバルクの観点からみた放射光軟X線状態分析(兵庫県立大)村松康司；4. rf-GDOESと多目的高分解能FE-SEM/ESB/ASBの拓く新たな表面分析の世界(慶應義塾大)清水健一；5.ウエット処理シリコン表面水素終端構造のSPM及びIR分析（広島大）高萩隆行 定 員 100名 参加費 無料 参加申込締切日 2007年1月19日（金） 連絡先 632-8567 天理市櫟本町2613-1 シャープ(株)技術本部基盤技術研究所 村上善照 TEL 0743-65-0454，FAX 0743-65-0543，E-mail：murakami.yoshiteru@sharp.co.jp URL http://www.sssj.org/Kansai/goudou070126.html ゲートスタック研究会 主 催 応用物理学会薄膜･表面物理分科会，シリコンテクノロジー分科会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2007年2月2日（金）〜3日（土） 場 所 東レ総合研修センター（静岡県三島市末広町21-9） 内 容 半導体デバイスにおいて，ゲートスタックの高性能化は最も重要な研究課題の一つです．ゲート絶縁膜では，原子層レベルで膜厚や構造を制御した高品質な極薄酸窒化膜の開発や，トランジスタの高性能化と超低消費電力化を可能にする高誘電率ゲート絶縁膜の研究が進められています．また歪シリコン基板やプロセス歪を利用した高移動度トランジスタや，メタルゲート電極の検討も活発になっています．本研究会は，2004年まで9回にわたって開催されてきた「極薄シリコン酸化膜の形成・評価・信頼性」研究会のスコープを広げて2005年から新たにスタートしたものであり，産･官･学の第一線の研究者が基礎から応用までを理論と実験の両面から議論し，本分野の発展に貢献することを目的としています．国内外からの招待講演者のほかに，一般の口頭発表とポスター発表を広く募集して開催します．さらに研究会前日には，ゲートスタック技術のトレンドに関するショートコースを企画しています．奮ってご参加下さい． 参加費 薄膜およびシリコンテクノロジー分科会会員：8,000円，応用物理学会・協賛学協会員：11,000円，一般：15,000円，学生：3,000円，宿泊費：13,500円，前日宿泊費：8,000円 一般講演申込締切 11月17日（金） 予稿原稿締切 12月22日（金） 参加申込締切 12月20日（水）（定員：200名，ただし宿泊定員は150名) 申込・連絡先 (株)東芝 佐竹秀喜 FAX 044-520-1302, E-mail：hideki.satake@toshiba.co.jp URL：http://home.hiroshima-u.ac.jp/oxide/ 第24回希土類討論会 主 催 日本希土類学会 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2007年5月17日（木）〜18日（金） 場 所 九州大学医学部 百年講堂（福岡市東区馬出3-1-1 TEL 092-642-6257） 内 容 1.希土類とその化合物の合成・構造・物性；2.希土類の化学（溶液・錯体・有機金属・生化学・分離・分析）；3.希土類金属および化合物の物理；4.希土類金属および金属間化合物の製造；5.希土類の応用（磁性材料・発光材料・固体電解質・その他） 参加費 日本希土類学会会員：無料，共催協賛学協会会員：4,000円，学生：2,000円，その他：6,000円 申込申込締切 2007年1月19日（金） 申込・連絡先 565-0871 吹田市山田丘2-1 大阪大学大学院工学研究科応用化学専攻内 日本希土類学会事務局 TEL 06-6879-7353，FAX 06-6879-7354, E-mail：kidorui@chem.eng.osaka-u.ac.jp URL http://kidorui.chem.eng.osaka-u.ac.jp Joint Conferences of The First International Conference on Science and Technology for Advanced Ceramics (STAC) and The Second International Conference on Joining Technology for New Metallic Glasses and Inorganic Materials (JTMC) 主 催 東京工業大学応用セラミックス研究所 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2007年5月23日（水）13:00〜25日（金）12:00 場 所 湘南国際村センター（神奈川県三浦郡葉山町上山口1560-39） 内 容 最先端セラミックスの科学･技術に関する国際会議と金属ガラス･無機材料に関する国際会議の合同会議 参加費 会員(協賛学協会会員を含む)50,000円 申込締切 2007年2月28日（定員：150名） 申込・連絡先 226-8503 横浜市緑区長津田町4259 東京工業大学応用セラミックス研究所 安田榮一 TEL 045-924-5317，FAX 045-924-5345，E-mail：e.yasuda@msl.titech.ac.jp URL http://stac.msl.titech.ac.jp 第6回アジア・ヨーロッパプラズマ表面工学国際会議 主 催 Asian Joint Committee on Plasma Surface Engineering (AJC/PSE) 協 賛 日本セラミックス協会ほか 日 時 2007年9月24日（月）〜28日（金） 場 所 長崎市やすらぎ伊王島（長崎市伊王島町1-3277-7） 内 容 近年，プラズマを用いたコーティング，機能性薄膜堆積，表面修飾技術が，研究および工業レベルで急速に進展しております．このプラズマ表面工学国際会議（AEPSE）は，プラズマ材料科学，プラズマ表面科学の科学的・技術的レベルでの現状と課題を議論する場として，隔年にアジア地域で開催され，来年のAEPSE2007で6回目となります．この会議は，隔年にドイツで開催されているプラズマ表面工学国際会議（PSE，今年9月に第10回目を開催）のアジア版として開催されてまいりました． 昨年のAEPSE2005は中国の青島で開催され，世界23カ国の参加者約350名が集いました．本会議がカバーする研究分野としては，プラズマ発生，診断，膜堆積，コーティング，先進的プラズマプロセッシング，表面修飾，およびその応用などがあり，多くの学協会が関係しています． なお，本会議に加え，プラズマ材料科学関連機器の展示会も，会議開催中に行われる予定です．ナノテクノロジー，情報通信，バイオテクノロジーおよびエネルギー・環境の各分野において，プラズマ工学の発展および応用が本会議と展示会で示されることと思います． 参加費 会員（協賛学協会会員を含む）50,000(7/1以前)，55,000(7/1以降)円 講演申込締切 2007年3月31日（定員:なし）参加申込 当日 申込・連絡先 852-8521 長崎市文教町1-14 長崎大学工学部電気電子工学科 TEL/FAX 095-819-2540（松田良信），095-819-2542（篠原正典），E-mail：aepse2007sec@ml.nagasaki-u.ac.jp |